催化基礎(chǔ)與催化劑表征---xps(參考版)
2025-05-15 18:32本頁(yè)面
【正文】 但靈敏度不高，一般為百分之幾到千分之幾 (3) 對(duì)負(fù)載的微量金屬，分析困難 含量 %時(shí)，組分檢測(cè)不到 8. XPS在催化研究中的應(yīng)用 (1) 催化劑組分鑒定 8. XPS在催化研究中的應(yīng)用 (2) 價(jià)態(tài)研究 8. XPS在催化研究中的應(yīng)用 (3) 表面組成的半定量 如某 NiCu/Al2O3催化劑表面上 Ni/Cu原子比可用 XPS確定： CuCuNiNis ur f ac es ur f ac eSASACuNi//?8. XPS在催化研究中的應(yīng)用 (3) 表面組成的半定量 如某 NiCu/Al2O3催化劑表面上 Ni/Cu原子比 將樣品溶解后，用原子吸收分析催化劑中 Ni, Cu的總含量，得出 Nibulk/Cubulk CuCuNiNis ur f ac es ur f ac eSASACuNi//?8. XPS在催化研究中的應(yīng)用 (3) 表面組成的半定量 如某 NiCu/Al2O3催化劑表面上 Ni/Cu原子比 將樣品溶解后，用原子吸收分析催化劑中 Ni, Cu的總含量，得出 Nibulk/Cubulk 如果 說(shuō)明 Ni在催化劑表面上富集了；反之，說(shuō)明 Cu在催化劑表面上富集了 。 6. 物理位移和能量坐標(biāo)校正 (3) 使用穩(wěn)定的物質(zhì)為標(biāo)準(zhǔn)與樣品混合 如 Na+, K+的外層電子密度變化很小，可以與樣品共研細(xì)，用 Na2p, K2p峰為標(biāo)準(zhǔn) 但應(yīng)注意，它們可能與催化劑相互作用 7. 注意問(wèn)題 (1) 受激電子逸出樣品的平均自由程很短，一般為10個(gè)原子層 XPS是強(qiáng)有力的表面分析技術(shù)： 無(wú)機(jī)物： ? ； 有機(jī)物： 4 ? 10nm層的信息 7. 注意問(wèn)題 (1) 受激電子逸出樣品的平均自由程很短，一般為10個(gè)原子層 XPS是強(qiáng)有力的表面分析技術(shù)： 無(wú)機(jī)物： ? ； 有機(jī)物： 4 ? 10nm層的信息 (2) 對(duì)輕重元素都相當(dāng)有效 除 H2, He外都能分析
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