【正文】 S P C . 分析過程能力篇 X –MR Chart X R Chart S P C . 分析過程能力的前提： 過程必 須受控 服從正 態(tài)分布 測量系 統(tǒng)可接受 S P C . 計算穩(wěn)定過程能力指數(shù) CP （不考慮過程有無偏移） C P USL LSL 6 ^ σ R /d 2 規(guī)格上限 規(guī)格上限 常數(shù) 標(biāo)準(zhǔn)偏差 S P C . 常數(shù)表 n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 D 2 S P C . 計算過程實際能力指數(shù) CPK ，（它考慮了過程輸出平均值的偏移） C PK 3 ^ σ X LSL USL X 3 ^ σ 最小值 R/d 2 3 ^ σ = 其 中 過程總分布的一半 S P C . 計算產(chǎn)品性能指數(shù) PPK （說明過程有無偏移的指數(shù)） Ｐ PK 3 ^ σ Ｓ X LSL USL X 3 ^ σ Ｓ 最小值 ^ σ Ｓ = X ∑ i=1 n （ X i ） n1 2 式中 過程總變差 S P C . 練 習(xí) S P C . S P C . S P C . 對能力分析的解釋 …… 結(jié) 果 說 明 CPK＞ 滿足客戶要求 ,可按控制計劃執(zhí)行生產(chǎn) . ≤CPK ≤ 目前可接受 ,但仍須改進(jìn) . CPK＜ 該過程目前不能滿足客戶要求 , 仍須改進(jìn) . 注 :CPK只能用于穩(wěn)定過程 S P C . CPK PPK CP A+級 CPK≧ PPK≧ CP≧ 工序 能力過高 A級 ≦ CPK≦ ≦ PPK ≦ CP 工序 能充足 B級 ≦ CPK≦ ≦ PPK ≦ CP 工序 能力尚可 C級 ≦ CPK≦ ≦ PPK ≦ CP 工序 能力不足 D級 CPK≦ PPK CP% 工序 能力太低 S P C . (計數(shù)型 ) S P C . 計數(shù)值控制圖用來控制不可以用計量數(shù)據(jù)度量的特性，通常而言，用于合格與不合格，通過與未通過，良品與不良品等。 S P C . 使用新的設(shè)備： 新設(shè)備的使用可能導(dǎo)致過程位置和分布發(fā)生變化，這種變化可能使原有控制規(guī)格不再適用。一般為 25組，首次使用管制圖選用 35 組數(shù)據(jù)，以便調(diào)整。（ 例如：平均值圖上 1個刻度代表 ，則在極差圖上 1個刻度代表 ） ，如：設(shè)備故障，新的材料批次等，有利于下一步的過程分析。 S P C . LSL USL μ +/3σ +/4σ +/5σ 過程數(shù)據(jù)分布 標(biāo)準(zhǔn)差 σ 過程能力西格瑪 Z σ = σ = σ = Z = 3 Z = 4 Z = 5 標(biāo)準(zhǔn)差值與過程能力西格瑪值的對照比較 S P C . 正態(tài)分布的位置與形狀與過程能力的關(guān)系圖 分布位置良好 ,但形狀太分散 規(guī)格中心 LSL USL μ (T) S P C . LSL USL μ 分布位置及形狀均比 較理想 (T) 規(guī)格中心 正態(tài)分布的位置與形狀與過程能力的關(guān)系圖 S P C . 分布位置及形狀均不理想 LSL USL μ T 規(guī)格中心 正態(tài)分布的位置與形狀與過程能力的關(guān)系圖 S P C . LSL USL μ T 規(guī)格中心 分布形狀較理想 (分散程度小 ), 但位置嚴(yán)重偏離 正態(tài)分布的位置與形狀與過程能力的關(guān)系圖 S P C . 0 . 1 3 5 % 2 . 1 4 5 % 1 3 . 5 9 0 % 3 4 . 1 3 0 % 3 4 . 1 3 0 % 1 3 . 5 9 0 % 2 . 1 4 5 % 0 . 1 3 5 %4 3 2 1 0 1 2 3 46 8 . 2 6 %9 5 . 4 4 %9 9 . 7 3 %標(biāo)準(zhǔn)的正態(tài)分布 S P C . 控制圖制作篇 S P C . 貝爾實驗室的 Walter休哈特博士在二十世紀(jì)二十年代研究過程時 ,發(fā)明了一個簡單有力的工具 ,那就是控制圖 ,其方法為 : 收集 數(shù)據(jù) 控制 分析 及 改進(jìn) S P C . 控制圖 控制過程的工具 典型的控制圖由三條線組成 : Upper Control Limit (UCL) Center Line (CL) Lower Control Limit (LCL) CL ：控制中限 UCL: 上控制限 LCL: 下控制限 S P C . 計量型控制圖的計算公式 名稱 X— R圖 X— S圖 XR圖 XRM圖 均值和標(biāo)準(zhǔn)差圖 中位數(shù)圖 單值和移動極差圖 適用范圍 通常用于樣本容量恒定 ,子組數(shù)在25個 (≦ 9時較為有效 ) 用于樣本容量較大的情況 (通常在10以上 ) 用在子組的樣本容量小于或等于10的情況 用于發(fā)生在測量費(fèi)用很大時 ,或是當(dāng)在任何時刻點的輸出性質(zhì)比較一致時 標(biāo)準(zhǔn)偏差 ^ ^ σ=R /d2=σ /d2 ^ ^ σ=S /C4=σ /C4 ^ σ= R/d2 ^ ^ σ= R/d2=σ /d2 上控制限 UCLX=X+A2 R UCLR=D4R UCLX=X+A3 S UCLs=B4 S UCLX=X+A2 R UCLR=D4 R UCLX= X+E2 R UCLMR=D4 R 下控制限 LCLX= XA2 R LCLR=D3 R LCLX=X A3 S LCLs=B3 S LCLX=XA2 R LCL=D3R LCLX=X E2 R LCLMR=D3 R 中心限 CLX=X CLR=R CLX=X CLS=S CLX=X CLR=R CLX=X CLMR= R XRSS P C . C o n v e n t i o n a l F o r m u l a sC o n t r o l C h a r t UCL CL L C LpnpcuCCC*p p p n? ?3 1( ) p p p p n? ?3 1( ) n pn p n p p? ?3 1( ) n p n p p? ?3 1( )c c? 3 c c c? 3uu u n? 3 u u n? 3 3 00. p 0 70. p 0 . 0 5 p計數(shù)型控制圖的計算公式 S P C . X R Chart 均值極差圖