【正文】 3 C 834 過程控制解釋（同 P管制圖） 835 過程能力解釋 固定樣本容量為 n 的過程能力為其不合格數(shù)的平均值 c. 84 單位不合格（缺陷）數(shù)的 u圖 841 使用的時(shí)機(jī) u圖用來測量具有不同的樣本（受檢材料的量不同）的子組 內(nèi)每檢驗(yàn)單位產(chǎn)品之內(nèi)的不合格數(shù)量（可以用 不良率 表示） . 842 數(shù)據(jù)的收集 8421 各子組樣本容量彼此不必都相同，盡量使它的容量在其平 均值的正負(fù)擔(dān)過重 25%以內(nèi)，可以簡化控制限的計(jì)算 . 8422 記錄并描繪每個(gè)子組內(nèi)的單位產(chǎn)品不合格數(shù)（ u） u=c / n 式中 : C為發(fā)現(xiàn)的不合格數(shù)量， n為子組中樣本的容量。 824 過程控制解釋和過程能力解釋 同 p管制圖 83 不合格（缺陷）數(shù)的 c 圖 831 采用時(shí)機(jī) C圖用來測量一個(gè)檢驗(yàn)批內(nèi)的不合格（的缺陷）的數(shù)量， C圖 要求樣本的容量恒定或受檢驗(yàn)材料的數(shù)量恒定，主要用于以下兩 類檢驗(yàn)： 8311 不合格分布在連續(xù)的產(chǎn)品流上（如：每條尼龍上的瑕疵，玻 璃上的氣泡或電線上絕緣層薄的點(diǎn)），以及可以用不合格的 平均比率表示的地方（如 100平方米上的缺陷） 8312 在單個(gè)的產(chǎn)品檢驗(yàn)中可能發(fā)現(xiàn)不同原因造成的不合格。 822 數(shù)據(jù)的收集（基本和 p 圖相同） 8221 受檢驗(yàn)的樣本的容量必須相同，樣本容量足夠大使每個(gè)子組 內(nèi)都有幾個(gè)不良品并在。并在備 注欄中詳細(xì)記錄。 81313 明顯的非隨機(jī)圖形 a 非隨機(jī)圖形例子：明顯的趨勢；周期性；子組內(nèi)數(shù)據(jù)間有 規(guī)律的關(guān)系等 。 b 低于控制限之下的點(diǎn)，說明存在下列情況的一種或多種： 控制限或描點(diǎn)時(shí)描錯(cuò)。 ） 813 過程控制用控制圖解釋： 8131 分析數(shù)據(jù)點(diǎn)，找出不穩(wěn)定的證據(jù)（一個(gè)受控的 P管制圖 中，落在均值兩側(cè)的點(diǎn)的數(shù)量將幾乎相等） 。 C、 按上式分別計(jì)算樣本容量為 n 和 n 時(shí)的點(diǎn)的控制限 . UCL,LCL = P 177。 在實(shí)際運(yùn)用中 ， 當(dāng)各組容量不超過其平均容量 25%時(shí) ， 可用平均樣本容量 n 代替 n 來計(jì)算控制限 UCL； LCL。 選擇控制圖的坐標(biāo)刻度 8113 選擇控制圖的坐標(biāo)刻度 一般不良品率為縱坐標(biāo) ， 子組別 （ 小時(shí) /天 ） 作為橫坐標(biāo) ,縱坐標(biāo)的刻度應(yīng)從 0到初步研究數(shù)據(jù)讀讀數(shù)中最大的不合格率值的 到 2倍 。 分組頻率： 根據(jù)實(shí)際情況，兼大容量和信息反饋快的要求。 式中： R 為移動(dòng)極差的均值， d2是隨樣本容量變化的常數(shù)。 b 單值的最大值與最小值之差的 2倍 。 單值和移動(dòng)極差圖（ X—MR） 用途 測量費(fèi)用很大時(shí)，（例如破壞性實(shí)驗(yàn)）或是當(dāng)任何時(shí)刻點(diǎn)的輸出 性質(zhì)比較一致時(shí)（例如：化學(xué)溶液的 PH值）。 12 53 描點(diǎn) 13 操作者將每個(gè)單值的點(diǎn)標(biāo)在中位數(shù)圖上。 6 32 畫一個(gè)窄的垂直框標(biāo)注超過極差控制限的子組。 7 c 刻度應(yīng)與量具一致。 13 過程控制的分析（同 XR） 14 過程能力的分析（同 XR） 估計(jì)過程標(biāo)準(zhǔn)差： σ = S / C4= σ S / C4 n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 B4 B3 * * * * A3 ? ? 式中： S 是樣本標(biāo)準(zhǔn)差的均值（標(biāo)準(zhǔn)差受控時(shí)的）， C4為隨樣本容量變化的常數(shù)。 n – 1 式中： Xi， X； N 分別代表單值、均值和樣本容量。方法如下： b 1 估計(jì)過程的標(biāo)準(zhǔn)偏差（用 σ? 表示），用 現(xiàn)有的 子組容 量計(jì)算： σ? = R/d2 式中 R為子組極差的均值（在極差受控期間）， d2 為隨樣本 容量變化的常數(shù)，如下表： n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 d2 b –2 按照 新的 子組容量查表得到系數(shù) d2 、 D D4 和 A2，計(jì)算新 的極差和控制限： R新 = σ? d2 UCLR= D4 R新 LCLR = D3 R新 UCLX = X+ A2 R新 LCLX = X– A2 R新 將這些控制限畫在控制圖上。 b 應(yīng)及時(shí)分析問題，例如：出現(xiàn)一個(gè)超出控制限的點(diǎn)就立即開 始分析過程原因。 c3 數(shù)據(jù)已經(jīng)過編輯 (極差和均值相差太遠(yuǎn)的幾個(gè)子組更改刪除） d 如果顯著少余 2/3以上的描點(diǎn)落在離 X很近之處（對(duì)于 25子組， 如 果有 40%的點(diǎn)落在控制限的 1/3區(qū)域），則應(yīng)對(duì)下列情況的一 種或更多進(jìn)行調(diào)查： d1 控制限計(jì)算錯(cuò)或描點(diǎn)描錯(cuò) 。 a1 過程均值已改變 a2 測量系統(tǒng)已改變（漂移，偏差，靈敏度） 注：標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸到 鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢或變化的時(shí)間。而是排除受已知的特殊原因影響的點(diǎn)。 b 由于出現(xiàn)特殊原因而從 R 圖中去掉的子組，也應(yīng)從 X圖中去掉。 注： 如果存在幾個(gè)過程流，應(yīng)分別識(shí)別和追蹤。 c2 過程或取樣方法被分層，每個(gè)子組系統(tǒng)化包含了從兩個(gè)或多 個(gè)具有完全不同的過程均值的過程流的測量值（如：從幾組 軸中，每組抽一根來測取數(shù)據(jù)）。 注 2： 標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸 到鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢或變化的時(shí)間 。 a2 測量系統(tǒng)的改變 （ 如新的檢驗(yàn)人或新的量具 )。 6 7 注 1： R 圖和 X 圖應(yīng)分別分析，但可進(jìn)行比較，了解影響過程 8 的特殊原因。 ? 各控制限畫成虛線。 13 計(jì)算公式： 14 UCLx=X+ A2R UCLR=D4R 15 LCLx=X A2R LCLR=D3R 16 接上頁 注： 式中 A2,D3,D4為常系數(shù)，決定于子組樣本容量。 注： 對(duì)于還沒有計(jì)算控制限的初期操作的控制圖上應(yīng)清楚地注明“ 初始研究 ”字樣。 42 刻度選擇 ： 接上頁 對(duì)于 X 圖，坐標(biāo)上的刻度值的最大值與最小值的差應(yīng)至少為子組均值（ X）的最大值與最小值的差的 2倍，對(duì)于 R圖坐標(biāo)上的刻度值的最大值與最小值的差應(yīng)為初始階段所遇到的最大極差（ R）的 2倍。 接上頁 113 子組數(shù)： 子組越多，變差越有機(jī)會(huì)出現(xiàn)。 11 選擇子組大小，頻率和數(shù)據(jù) 111 子組大小 ：一般為 5件連續(xù)的產(chǎn)品，僅代表單一刀具 /沖頭 /過程 流等。 b 確保檢測設(shè)備或量具本身的準(zhǔn)確性和精密性 。應(yīng)用過程參數(shù)判斷 控制圖類型 計(jì)量型數(shù)據(jù) XR 均值和極差圖 計(jì)數(shù)型數(shù)據(jù) P chart 不合格品率控制圖 Xδ均值和標(biāo)準(zhǔn)差圖 nP chart不合格品數(shù)控制圖 X R 中位值極差圖 C chart 缺陷數(shù)控制圖 XMR 單值移動(dòng)極差圖 U chart 單位缺陷數(shù)控制圖 控制圖的選擇方法 確定要制定控制圖的特性 是計(jì)量型數(shù)據(jù)嗎？ 否 關(guān)心的是不合格品率？ 否 關(guān)心的是不合格數(shù)嗎？ 是 樣本容量是否恒定？ 是 使用 np或 p圖 否 使用 p圖 樣本容量是否 桓定？ 否 使用 u圖 是 是 使用 c或 u圖 是 性質(zhì)上是否是均勻或不能按子組取樣 —例如：化學(xué)槽液、批量油漆等？ 否 子組均值是 否能很方便 地計(jì)算？ 否 使用中 位數(shù)圖 是 使用單值圖XMR 是 接上頁 子組容量是否大于或等于 9？ 是 否 是否能方便地計(jì)算每個(gè)子組的 S值？ 使用 X—R圖 是 否 使用 X—R圖 使用 X— s圖 注：本圖假設(shè)測量系統(tǒng)已經(jīng)過評(píng)價(jià)并且是適用的。 ? 觀察控制圖的數(shù)據(jù)位置，可以了解過程情況有無改變。 3 σ的概率是 %。 過程控制 ? 目標(biāo)：對(duì)影響過程的措施做出合理經(jīng)濟(jì)的決定 ? 過程在統(tǒng)計(jì)控制下運(yùn)行（過程受控）：僅存在造成變差的特殊原因 ? 過程控制的作用：當(dāng)出現(xiàn)變差的特殊原因時(shí)報(bào)警；反之，不報(bào)警 過程控制 受控 （消除了特殊原因） 時(shí)間 范圍 不受控 （存在特殊原因） 過程能力 ? 過程能力是指過程處于受控狀態(tài)下（不存在變差的特殊原因）的實(shí)際加工能力 – 一個(gè)穩(wěn)定過程的固有變差的總范圍 ? 過程能力是由造成變差的普通原因造成 ? 工序能力高時(shí)：產(chǎn)品品質(zhì)出現(xiàn)異常的幾率越小 ? 工序能力低時(shí)：產(chǎn)品品質(zhì)出現(xiàn)異常的幾率越大 過程能力 受控且有能力符合規(guī)范 （普通原因造成的變差已減少） 規(guī)范下限 規(guī)范上限