光學(xué)玻璃的清洗工藝-wenkub.com
2024-08-29 10:01 本頁(yè)面
【正文】 國(guó)內(nèi)外絕大部分LCD企業(yè)采用半水基清洗劑作為CFC113的替代物，使用閃點(diǎn)大于等于61℃碳?xì)浠衔锛缺ＷC了清洗劑在使用、存儲(chǔ)和運(yùn)輸過(guò)程中的安全性,又利用碳?xì)浠衔锱c液晶的互溶性,較快的清洗殘留液晶,并輔以表面活性劑經(jīng)多道水漂洗,可以滿足LCD行業(yè)對(duì)清洗的品質(zhì)和效率越來(lái)越高的要求。其中HCFC類如HCFC141b、HCFC225,因ODP值不等于0，為過(guò)渡性替代物。水基、半水基及溶劑型三種替代清洗劑中，水基清洗劑的清洗速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)不及溶劑和半水基型清洗劑。以下討論LCD行業(yè)非ODS清洗技術(shù)的現(xiàn)狀。到目前為止，LCD行業(yè)已有15家企業(yè)參與了《中國(guó)清洗行業(yè)ODS整體淘汰計(jì)劃》，并獲得國(guó)際多邊基會(huì)贈(zèng)款。通?？刹捎眠^(guò)堿性清洗的方式解決燒蝕問(wèn)題。（5）隨著玻璃表面的研磨拋光，表層的SiO2（二氧化硅）和大部分的H2SiO3凝膠被去除，打破了方程式（1）、（5）的平衡，使方程式（1）、（5）的反應(yīng)更深入地向右進(jìn)行，生成更多的堿性物質(zhì)，導(dǎo)致研磨液的pH值持續(xù)上升，其中的堿性液體與H2SiO3凝膠反應(yīng)，如方程式（4），如此循環(huán)加速水解反應(yīng)，導(dǎo)致玻璃表面燒蝕。通常，以CeO2（二氧化鈰）為主要成分的研磨粉是不會(huì)對(duì)鏡片構(gòu)成腐蝕的，但在進(jìn)行研磨加工時(shí)，研磨液是由水加研磨粉配制而成，因此新配制的研磨液的初始pH值是由水和研磨粉的酸堿性共同決定的，一般呈堿性（pH7）。同時(shí)由于硅膠質(zhì)層具有多孔龜裂結(jié)構(gòu)，使OH離子繼續(xù)向玻璃層侵蝕，特別是含硅少、化學(xué)穩(wěn)定性差的材質(zhì)，硅酸凝膠膜層的致密性和牢固性較差，更加劇了OH的侵蝕。+H+其交換過(guò)程如下：H2Oamp。2NaOH+H2SiO3 當(dāng)前，光學(xué)玻璃加工過(guò)程中最棘手的問(wèn)題是玻璃表面的燒蝕。工藝流程及所用化學(xué)藥劑類型如前所述。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴(yán)格，因此清洗劑的選擇是很重要的。它的缺點(diǎn)就是清洗的速度比溶劑稍慢，并且必須要進(jìn)行漂洗。（3）兩種清洗方式的比較但由于半水基清洗劑粘度較大，并且對(duì)后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用，所以第二個(gè)單元須市水漂洗，并且最好將其設(shè)為流水漂洗。而目前國(guó)內(nèi)已有公司開(kāi)發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑，并成功地應(yīng)用在國(guó)內(nèi)數(shù)家大型光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠，清洗效果完全可以取代進(jìn)口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標(biāo)上更是優(yōu)于進(jìn)口產(chǎn)品。由于三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品，目前處于強(qiáng)制淘汰階段；而長(zhǎng)
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