光學玻璃的清洗工藝-預覽頁
【正文】 過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的，故而對水基清洗劑提出了極高的要求。（2）半水基清洗采用的清洗流程如下：半水基清洗劑（超聲波）市水漂洗水基清洗劑市水漂洗純水漂洗IPA脫水IPA慢拉干燥半水基清洗劑的特點是揮發(fā)速度很慢，氣味小。從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。 溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點也比較明顯，由于光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設(shè)備時。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng)；設(shè)備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長；在運行成本上比溶劑更低。鍍膜后清洗接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。反應方程式如下：Na2SiO3+2H2Oamp。H++OH分解SiOSiNaOSiONa+OH離子增加的結(jié)果是玻璃的液體環(huán)境堿性不斷增強，生成高濃堿性液體，與H2SiO3發(fā)生化學反應，方程式如下：2OH+sup2。水解作用的表現(xiàn)形式，或者說加劇水解程度的外在條件有很多，比如堿性腐蝕、鹽類腐蝕、溫度腐蝕（包括清洗劑溫度、烘干溫度、室內(nèi)溫度）等。SiO2（二氧化硅）這是由于玻璃表面燒蝕后，相應位置的折射率發(fā)生變化所致。通過外力（超聲波）清洗，使玻璃表面因腐蝕而松動的表層脫落，達到去除因燒蝕產(chǎn)生的塊狀印痕的目的。所采用的清洗工藝也可分為溶劑清洗和半水基清洗兩種，兩者最大的區(qū)別在于前者對無機污染物的清洗完全依賴水基清洗劑，后者所使用的半水基清洗劑對于無機污染物的清洗效果也較好；兩者的共同點是對于有機污染物都具有良好的清洗效果，并采用相同的脫水及干燥方式，同時對鏡片的安全性極高。本文簡單介紹LCD替代ODS清洗技術(shù)和不用或少用清洗劑的物理清洗技術(shù),并對其未來的發(fā)展進行了簡單評說。但仍有少數(shù)LCD廠繼續(xù)使用CFC113及TCA。表1列舉了各種清洗技術(shù)的比較,表2列舉了部分溶劑型HCFC和 HFC等替代物的基本物化性能指標。而表面張力較低的半水基和溶劑型清洗劑與液晶是一種溶解作用。160
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