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2025-07-12 02:25 本頁面
【正文】 5. 李尚璋，F(xiàn)enton法氧化TCE DNAPL之探討，屏東科技大學(xué)環(huán)境工程與科學(xué)系碩士論文，2000。參考文獻(xiàn) 1. 羅兆棋，“整頓廢水之芬頓、泡沫分離處理法之研究”，元智大學(xué)化學(xué)工程學(xué)系，碩士論文，中壢，1994。 mg/l，F(xiàn)e2+濃度200 mg/l）以全部一次加入藥劑量為COD去除效果最佳。結(jié)論1. H2O2濃度100 mg/l，F(xiàn)e2+濃度200 mg/l為Fenton法處理PCB電路版高濃度酸性廢水之最適劑量。 min分三次加入、F為Fe2+全加，H2O2每隔10 min分三次加入、G為H2O2/Fe2+每隔10 min分三次同時(shí)加入。由上述方案D、E、F、G同樣操作條件下，以高劑量(H2O2濃度5000 mg/l，F(xiàn)e2+濃度3000 mg/l)來進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，其結(jié)果由圖8所示得知COD去除率達(dá)68%~84%，尤以方案G之去除效率為佳。 低濃度H2O2/Fe2+劑量不同添加方式對(duì)COD去除率影響注：A為快混30 min沉淀30 min、B為快混60 min沉淀30 min、C為快混90 min沉淀30 min、D為快混2 min慢混28 min沉淀30 min。結(jié)果如圖7所示得知在低濃度H2O2/Fe2+劑量下D、E、F、G之COD去除效果在50%~57%之間，表示全部一次加入劑量較分批三次加入劑量之全程操作控制簡(jiǎn)單，故在低濃度H2O2/Fe2+劑量下以方案D為最適操作方案。 min慢混28 固定Fe2+劑量(300 mg/l)改變H2O2劑量對(duì)COD去除的影響圖5 mg/l降為200由圖圖4及上述結(jié)果整理得知，H2O2/Fe2+ =100 mg/l，探討在不同F(xiàn)e2+劑量下對(duì)COD之去除影響，由圖3可觀察到對(duì)于COD去除率都在87~89%之間，去除效果沒有很明顯之變化，由此可知，F(xiàn)e2+濃度之改變對(duì)于Fenton反應(yīng)并非為主要因素。 mg/l /3000 mg/l，、探討在固定H2O2/Fe2+劑量下，pH對(duì)于COD去除之影響，其結(jié)果由圖2所示，、去除率皆為80%以上，其不同pH控制下去除率并無明顯差別，且實(shí)場(chǎng)廢水pH值原為2，故為了配合廠商經(jīng)濟(jì)成本需求，不需再調(diào)整pH值，故選pH=2為本研究之控制參數(shù)，并進(jìn)一步尋求H2O2/Fe2+最適劑量比。 min加入Fe2+） ，經(jīng)快混2 min后，持續(xù)慢混。方案C：同時(shí)快混90 min沉淀30 min。 mg/l之最佳劑量比，再以求得之Fe2+劑量為固定劑量，尋求H2O2在100、500、1000、5000 mg/l最佳劑量比，可得知最佳劑量比之后，再進(jìn)一步固定過氧化氫最佳劑量，降低Fe2+最佳劑量(50、200及300 mg/l)，探討最低成本操作，綜合以上方法以求得之最佳Fenton試劑。2~4李氏(5)應(yīng)用Fenton法氧化比水重非水相之三氯乙烯(Trichloroethylene Dense Non Aqueous Phase Liquid，TCE DNAPL)可得知，處理溶解相中不同濃度之TCE，F(xiàn)e2+= mM、H2O2= mM下，F(xiàn)enton試劑可氧化溶解相之TCE水溶液，且在一小時(shí)內(nèi)皆可氧化完畢。但多半採(cǎi)取化學(xué)混凝沉淀方式，亦即使產(chǎn)生氫氧化物的沉淀，將其去除。關(guān)鍵詞：Fenton程序、PCB電路版製程廢水、COD、試劑添加方式前言印刷電路版
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