[精選]半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)教材-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻(上)光刻的作用和目的圖形的產(chǎn)生和布局1半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻(上)光刻的定義光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。用照相復(fù)印的方法將掩模版上的圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面的光刻膠上，以實現(xiàn)后續(xù)的有選擇刻蝕或注入摻雜光刻的目的：光

2025-03-01 04:28

[精選]半導(dǎo)體制造工藝技術(shù)-資料下載頁

【總結(jié)】電信學(xué)院微電子教研室半導(dǎo)體制造技術(shù)byMichaelQuirkandJulianSerda淀積電信學(xué)院微電子教研室半導(dǎo)體制造技術(shù)byMichaelQuirkandJulianSerda概述薄膜淀積是芯片加工過程中一個至關(guān)重要的工藝步驟，通過淀積工藝可以在硅片上生長導(dǎo)各種導(dǎo)電薄膜層和絕緣薄膜層。

2025-03-01 04:28

[精選]現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝-資料下載頁

【總結(jié)】現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝桂林電子科技大學(xué)晶體生長和外延1晶體生長和外延現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝PhysicsandTechnologyofModernSemiconductorDevices2023,7,30現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝桂林電子科技大學(xué)晶體生長和外延2晶體生長與外延對分立器件而言，最重要的半導(dǎo)

2025-01-23 03:14

[精選]半導(dǎo)體制造工藝課件-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝第4章　氧　　化第4章　氧　　化　引言　二氧化硅膜的性質(zhì)　二氧化硅膜的用途　熱氧化原理　氧化設(shè)備　氧化膜的質(zhì)量控制　氧化工藝模擬　引言二氧化硅(SiO2)是一種絕緣介質(zhì)。它在半導(dǎo)體器件中起著十分重要的作用。硅暴露在空氣中，即使在室溫條件下，其表面也能生長一層4nm左右的氧化膜。這一層氧化膜結(jié)構(gòu)致密，能防止硅表面繼續(xù)被氧

2025-03-01 04:31

半導(dǎo)體設(shè)備工藝簡介-資料下載頁

【總結(jié)】中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所InstituteofSemiconductors,ChineseAcademyofSciences單擊此處編輯母版文本樣式中科院半導(dǎo)體所照明研發(fā)中心工藝設(shè)備簡介

2025-05-13 17:48

[精選]半導(dǎo)體制造工藝流程-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識?本征材料：純硅9-10個9?N型硅：摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅：摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié)：NP+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段（FrontEnd）制程晶圓處理制程（Wa

2025-03-01 04:29

半導(dǎo)體工藝流程-資料下載頁

【總結(jié)】1、清洗集成電路芯片生產(chǎn)的清洗包括硅片的清洗和工器具的清洗。由于半導(dǎo)體生產(chǎn)污染要求非常嚴(yán)格，清洗工藝需要消耗大量的高純水；且為進(jìn)行特殊過濾和純化廣泛使用化學(xué)試劑和有機(jī)溶劑。在硅片的加工工藝中，硅片先按各自的要求放入各種藥液槽進(jìn)行表面化學(xué)處理，再送入清洗槽，將其表面粘附的藥液清洗干凈后進(jìn)入下一道工序。常用的清洗方式是將硅片沉浸在液體槽內(nèi)或使用

2025-06-26 08:02

[精選]半導(dǎo)體制造工藝_04光刻(上)-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻(上)光刻的作用和目的圖形的產(chǎn)生和布局1半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻(上)光刻的定義光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。用照相復(fù)印的方法將掩模版上的圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面的光刻膠上，以實現(xiàn)后續(xù)的有選擇刻蝕或

2025-02-28 12:02

[精選]半導(dǎo)體制造工藝流程課件-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識?本征材料：純硅9-10個9?N型硅：摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅：摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié)：NP+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段（FrontEnd）制程晶圓處理制程（Wafe

2025-03-01 04:30

[精選]半導(dǎo)體制造工藝第3章清洗工藝-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝第3章　清洗工藝第3章　清洗工藝　引言　污染物雜質(zhì)的分類　清洗方法概況　常用清洗設(shè)備——超聲波清洗設(shè)備　質(zhì)量控制　引言表3-1　國際半導(dǎo)體技術(shù)指南——清洗技術(shù)　引言表3-1　國際半導(dǎo)體技術(shù)指南——清洗技術(shù)　污染物雜質(zhì)的分類表3-2　各種沾污的來源和相對的影響　污染物雜質(zhì)的分類　

2025-03-01 04:30

半導(dǎo)體工藝流程簡介-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識?本征材料：純硅9-10個9?N型硅：摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅：摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié)：NP------+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段

2025-05-12 20:53

半導(dǎo)體工藝概述ppt課件-資料下載頁

【總結(jié)】第一章微電子工藝概述?微電子工藝是指微電子產(chǎn)品的制作方法、原理、技術(shù)。不同產(chǎn)品的制作工藝不同，且繁瑣復(fù)雜，但可以分解為多個基本相同的小單元，就是單項工藝，不同產(chǎn)品的制作就是將單項工藝按需要排列組合來實現(xiàn)的。?芯片制造半導(dǎo)體器件制作在硅片表面僅幾微米的薄層上，在一片硅片上可以同時制作幾十甚至上百個特定的芯片。?芯片制造涉及五個大的制造

2025-05-07 12:40

[精選]半導(dǎo)體制造工藝_08擴(kuò)散(下)-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)第六章擴(kuò)散原理(下)上節(jié)課主要內(nèi)容1、摻雜工藝一般分為哪兩步？結(jié)深？薄層電阻？固溶度？2、兩種特殊條件下的費克第二定律的解及其特點？特征擴(kuò)散長度？預(yù)淀積＋退火。預(yù)淀積：氣固相預(yù)淀積擴(kuò)散或離子注入。Rs：表面為正方形的半導(dǎo)體薄層（結(jié)深），在平行電流方向所呈現(xiàn)的電阻，單位為?/?，反映擴(kuò)散入硅

2025-03-03 14:53

[精選]半導(dǎo)體制造工藝第2版-資料下載頁

【總結(jié)】學(xué)習(xí)情景三常州信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院學(xué)習(xí)情景三：薄膜制備子情景4：物理氣相淀積學(xué)習(xí)情景三常州信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院半導(dǎo)體制造工藝第2版?書名：半導(dǎo)體制造工藝第2版?書號：978-7-111-50757-4?作者：張淵?出版社：機(jī)械工業(yè)出版社學(xué)習(xí)情景三常州信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院物理氣相淀積?概念：物

2025-03-01 04:30

[精選]半導(dǎo)體制造工藝_05光刻(下)-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻原理(下)光刻膠的一些問題1、由于硅片表面高低起伏，可能造成曝光不足或過曝光。線條寬度改變！1半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻原理(下)2、下層反射造成駐波，下層散射降低圖像分辨率。DUV膠—ARCg線和i線膠—使用添加劑，吸光并

2025-02-28 12:03

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