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正文內(nèi)容

現(xiàn)代材料分析方法(7-xps)-資料下載頁(yè)

2025-08-16 02:35本頁(yè)面
  

【正文】 對(duì)峰位位移的影響 。 XPS ? XPS分析方法 ? 化合態(tài)識(shí)別 光電子峰 ? 由于元素所處的化學(xué)環(huán)境不同 , 它們的內(nèi)層電子的軌道結(jié)合能也不同 , 即存在所謂的化學(xué)位移 。 ? 其次 , 化學(xué)環(huán)境的變化將使一些元素的光電子譜雙峰間的距離發(fā)生變化 , 這也是判定化學(xué)狀態(tài)的重要依據(jù)之一 。 ? 元素化學(xué)狀態(tài)的變化有時(shí)還將引起譜峰半峰高寬的變化 。 XPS ?? XPS分析方法 ? 化合態(tài)識(shí)別 光電子峰 S的 2p峰在不同化學(xué)狀態(tài)下的結(jié)合能值 XPS ? XPS分析方法 ? 化合態(tài)識(shí)別 光電子峰 Ti及 TiO2中 2p3/2峰的峰位及 2p1/2和 2p3/2之間的距離 XPS ? XPS分析方法 ? 化合態(tài)識(shí)別 光電子峰 CF4 C6H6 CO CH4 半峰高寬(eV) C1s在不同化學(xué)狀態(tài)下半峰高寬的變化 XPS ? XPS分析方法 ? 化合態(tài)識(shí)別 Auger線 ? 由于元素的化學(xué)狀態(tài)不同,其 Auger電子譜線的峰位也會(huì)發(fā)生變化。 ? 當(dāng)光電子峰的位移變化并不顯著時(shí), Auger電子峰位移將變得非常重要。 ? 在實(shí)際分析中,一般用 Auger參數(shù) α作為化學(xué)位移量來(lái)研究元素化學(xué)狀態(tài)的變化規(guī)律。 XPS ? XPS分析方法 化合態(tài)識(shí)別 Auger線 Auger參數(shù)定義為最銳的 Auger譜線與光電子譜主峰的動(dòng)能差,即 α=Ek(A) Ek(P) 為避免 ?0,將 Auger參數(shù)改進(jìn)為 α’= α +hν=Ek(A) + Eh(P) XPS ? XPS分析方法 ?化合態(tài)識(shí)別 Auger線 ?以 Eb(P)為橫坐標(biāo) , Ek(A)為縱坐標(biāo) , ?‘ 為對(duì)角參數(shù)將給出二維化學(xué)狀態(tài)平面圖 , 對(duì)識(shí)別表面元素的化學(xué)狀態(tài)極為有用 。 Ag及其化合物的 二維化學(xué)狀態(tài)圖 XPS ? XPS分析方法 ? 化合態(tài)識(shí)別 伴峰 ? 震激線、多重分裂等均可給出元素化學(xué)狀態(tài)變化方面的信息 。 XPS ? XPS分析方法 深度剖析 (1) 利用逃逸深度與角度的關(guān)系: λ=λmcos θ (2) 利用離子濺射技術(shù) XPS ? XPS分析方法 ? 小面積 XPS分析 ? 小面積 XPS是近幾年出現(xiàn)的一種新型技術(shù) 。由于 X射線源產(chǎn)生的 X射線的線度小至 mm左右 , 使 XPS的空間分辨能力大大增加 , 使得 XPS也可以成像 , 并有利于深度剖面分析 。 XPS ?? XPS分析總結(jié) ? 基本原理: 光電效應(yīng) ? 基本組成: 真空室、 X射線源、電子能量分析器 ? 輔助組成: 離子槍 ? 主要功能: 成分分析、化學(xué)態(tài)分析 ? 采譜方法: 全譜、高分辨率譜 ? 分析方法: 定性分析、定量分析
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