集成光學(xué)器件的材料-資料下載頁
2025-08-05 18:07本頁面
【正文】 ，然后將襯底提起，從而在襯底表面附著一層薄膜。 上述兩種方法制作工藝最簡單，成本最低，但是薄膜的純度和均勻性也比較低。 ? 加熱蒸發(fā)淀積法：在高真空狀態(tài)下，將蒸發(fā)材料加熱使之蒸發(fā)，蒸汽分子到達(dá)襯底表面淀積下來，形成薄膜，所以該方法也稱為真空蒸發(fā)鍍膜法。隨著蒸發(fā)的材料不同，加熱的方法也不同。 通常，低熔點(diǎn)的材料采用電阻加熱蒸發(fā)法，高熔點(diǎn)的材料采用電子束加熱蒸發(fā)法。 ? 濺射法：使濺射氣體（一般為惰性氣體）通過放電而等離子化，位于等離子體中的靶材由于正離子的轟擊，靶材的原子被打出，這些原子淀積在襯底上而形成薄膜。 ? 濺射法特別適用于難于用加熱蒸發(fā)淀積法制作薄膜的高熔點(diǎn)材料。 ? 上述濺射法中采用的是不與靶材發(fā)生反應(yīng)的惰性氣體作為濺射氣體，如果改用能夠與靶材發(fā)生反應(yīng)的氣體作為濺射氣體，就會得到二者的化合物薄膜，稱為反應(yīng)濺射法。 ? 化學(xué)氣相沉積法（ CVD）：以某種氣體為原料，通過化學(xué)反應(yīng)，在襯底上淀積薄膜。 ? 聚合法：將單體在真空中加熱使之蒸發(fā)，同時通過加熱、電子束照射、紫外線照射或者等離子體照射的方法，使單體蒸汽在襯底表面淀積下來并且聚合形成薄膜。 ? 熱擴(kuò)散法：先將需要進(jìn)行熱擴(kuò)散的材料淀積在襯底的表面，然后放入高溫爐中，使淀積材料擴(kuò)散進(jìn)襯底中，在襯底表面形成一層折射率略高的擴(kuò)散層。擴(kuò)散材料隨縱向深度的濃度分布是從大到小的平滑分布，又稱為內(nèi)擴(kuò)散。 與內(nèi)擴(kuò)散法相對應(yīng)的是外擴(kuò)散法。外擴(kuò)散法是將襯底加熱，使襯底內(nèi)部的物質(zhì)往外部擴(kuò)散出去，以制作高折射率層。 ? 離子交換法：將襯底浸入某種溶液中，通過襯底中的離子與溶液中的離子之間的交換，在襯底的表面附近制作高折射率的方法。 ? 離子注入法：將離子加速注入襯底引起晶格缺陷，從而得到高折射率層。 ? 外延生長法：將晶格結(jié)構(gòu)與襯底相同、晶格常數(shù)與襯底相近的材料，以液態(tài)（液相外延法）或者氣態(tài)（氣相外延法）與襯底晶體接觸，就會在形成結(jié)晶狀薄膜。
環(huán)評公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1