實驗4磁控濺射法制備薄膜材料-資料下載頁
2025-08-03 11:30本頁面
【正文】 氣完畢打開腔室門放置基片，注意裝載過程中確保玻璃面的整潔。置入內(nèi)襯，關(guān)閉充氣閥門。 。 ，設(shè)置好靶基距和基片加熱溫度，打開基片加熱。 ，打開限流閥，到 90176。處，設(shè)置基片臺轉(zhuǎn)速，打開基片臺旋。 ，充入氬氣，至工作真空度。 30s 左右，設(shè)置直流或射頻電源的功率和工作時間，點擊 ON 按鈕開始濺射（鍍膜前一定要確定靶擋板是關(guān)閉的）。待濺射一段時間后，打開擋板，開始鍍膜，鍍膜時間到后電源自動關(guān)閉。 0，關(guān)閉加熱。 0，關(guān)閉進氣閥、限流閥，限流閥到 0176。 ，一鍵停真空。 ，關(guān)閉真空計、打開放氣閥。待放氣完畢，打開腔室門取樣品，打開真空計，關(guān)閉放氣閥。打開一鍵抽真空，待真空抽至 10 多 Pa 時點擊一鍵停真空，待設(shè)備停機后再關(guān)閉總電源。 五、注意事項 1. 抽真空前檢查：1）樣品是否放好2）腔室門是否關(guān)好3）放氣閥是否關(guān)閉4）真空計是否打開 ，及時去除基片臺及基片擋板，靶屏蔽罩及靶擋板上沉積的各種材料，防止掉渣使靶與屏蔽罩短接燒壞靶。方法是將把擋板卸下用綠色拉絲布擦拭附著物后用衛(wèi)生紙蘸丙酮或酒精擦干凈，對基片臺如不拆下的話用報紙墊在腔室口上防止擦拭時臟東西掉入腔室。 ，以免損壞分子泵，同時要關(guān)緊氣路截止閥，以免氣路受污染。 、分子泵工作時，一定要通水冷卻。 ，要注意真空室的清潔，同時要保證屏蔽罩與靶材之間的距離小于3 mm，但是不能太近要避免短路。 ，換鋼瓶后要清洗氣路，質(zhì)量流量計要開至清洗檔。六、實驗數(shù)據(jù) 濺射方式濺射功率工作氣壓濺射時間本底真空2. 樣品圖片4 5
法律信息相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1