圓柱形平面式磁控濺射靶的特點與設計原理-資料下載頁
2025-07-22 05:41本頁面
【正文】 表面分布這一特點可知：這時磁力線是沿“極靴”的外圓表面發(fā)射的，即“極靴”代替了磁鐵的一個磁極．而“極靴”的外圓表面發(fā)射的磁力線，正好與所希望的理想環(huán)形磁鐵的磁力線方向相同．由此可知，用同軸圓柱形磁控濺射靶中磁鐵與極靴的原理，可解決圓柱形、平面式磁控濺射靶端部磁場與中間段磁場的連接問題．圖8 平面矩形靶的環(huán)狀腐蝕凹坑圖9 圓柱形、平面式磁控靶的環(huán)狀腐蝕凹坑5 圓柱形、平面式磁控濺射靶與矩形靶工作狀況對比 平面矩形靶在靶面上形成一條封閉的環(huán)形輝光帶，隨著靶材的消耗，在靶材表面上形成與輝光區(qū)對應的環(huán)狀腐蝕凹坑(如圖8所示)． 圓柱形、平面式磁控濺射靶在靶面上形成兩組(四條)對稱的封閉的環(huán)形輝光帶，隨著靶材的消耗，將在靶材表面上形成與輝光區(qū)對應的環(huán)狀腐蝕凹坑(如圖9所示)．6 圓柱形、平面式磁控濺射靶的優(yōu)勢 與其它形式的磁控濺射靶相比，圓柱形、平面式磁控濺射靶在保留了矩形平面靶鍍膜均勻性好的優(yōu)點的同時，可通過以下兩條途徑最大限度地提高靶材的利用率，(1)當靶材表面的2組(四條)環(huán)狀凹坑達到一定深度時，可將靶芯(磁體部分)相對靶管旋轉45176。，這樣就可以對靶管上另外沒有腐蝕過的區(qū)域進行利用；(2)當圓柱形、平面式磁控濺射靶的靶芯設計成轉靶芯時，(濺射時靶芯在旋轉)，可將靶材表面一層一層均勻地濺射掉，而不會產(chǎn)生凹坑，此時，靶材將得到最有效的利用，靶材的利用率可達50%～60%．當靶材為貴重金屬材料時，這無疑是具有重大意義的［2］．7 結論 通過采用同軸圓柱形磁控濺射靶中磁鐵與靴的原理來解決端部磁場問題，可以將矩形平面靶演變成圓柱形、平面式磁控濺射靶．該靶在保留矩形平面靶鍍膜均勻性好的情況下，可最大限度地提高靶材的利用率．從而提高經(jīng)濟效益．
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