圓柱形平面式磁控濺射靶的特點(diǎn)與設(shè)計(jì)原理-資料下載頁
2025-07-22 05:41本頁面
【正文】 表面分布這一特點(diǎn)可知：這時(shí)磁力線是沿“極靴”的外圓表面發(fā)射的，即“極靴”代替了磁鐵的一個(gè)磁極．而“極靴”的外圓表面發(fā)射的磁力線，正好與所希望的理想環(huán)形磁鐵的磁力線方向相同．由此可知，用同軸圓柱形磁控濺射靶中磁鐵與極靴的原理，可解決圓柱形、平面式磁控濺射靶端部磁場(chǎng)與中間段磁場(chǎng)的連接問題．圖8 平面矩形靶的環(huán)狀腐蝕凹坑圖9 圓柱形、平面式磁控靶的環(huán)狀腐蝕凹坑5 圓柱形、平面式磁控濺射靶與矩形靶工作狀況對(duì)比 平面矩形靶在靶面上形成一條封閉的環(huán)形輝光帶，隨著靶材的消耗，在靶材表面上形成與輝光區(qū)對(duì)應(yīng)的環(huán)狀腐蝕凹坑(如圖8所示)． 圓柱形、平面式磁控濺射靶在靶面上形成兩組(四條)對(duì)稱的封閉的環(huán)形輝光帶，隨著靶材的消耗，將在靶材表面上形成與輝光區(qū)對(duì)應(yīng)的環(huán)狀腐蝕凹坑(如圖9所示)．6 圓柱形、平面式磁控濺射靶的優(yōu)勢(shì) 與其它形式的磁控濺射靶相比，圓柱形、平面式磁控濺射靶在保留了矩形平面靶鍍膜均勻性好的優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，可通過以下兩條途徑最大限度地提高靶材的利用率，(1)當(dāng)靶材表面的2組(四條)環(huán)狀凹坑達(dá)到一定深度時(shí)，可將靶芯(磁體部分)相對(duì)靶管旋轉(zhuǎn)45176。，這樣就可以對(duì)靶管上另外沒有腐蝕過的區(qū)域進(jìn)行利用；(2)當(dāng)圓柱形、平面式磁控濺射靶的靶芯設(shè)計(jì)成轉(zhuǎn)靶芯時(shí)，(濺射時(shí)靶芯在旋轉(zhuǎn))，可將靶材表面一層一層均勻地濺射掉，而不會(huì)產(chǎn)生凹坑，此時(shí)，靶材將得到最有效的利用，靶材的利用率可達(dá)50%～60%．當(dāng)靶材為貴重金屬材料時(shí)，這無疑是具有重大意義的［2］．7 結(jié)論 通過采用同軸圓柱形磁控濺射靶中磁鐵與靴的原理來解決端部磁場(chǎng)問題，可以將矩形平面靶演變成圓柱形、平面式磁控濺射靶．該靶在保留矩形平面靶鍍膜均勻性好的情況下，可最大限度地提高靶材的利用率．從而提高經(jīng)濟(jì)效益．
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