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工程光學(xué)matlab仿真-資料下載頁

2025-06-27 00:08本頁面
  

【正文】 半徑增大。(3)圓柱曲面干涉L=630*10^(9)。R=3。 %波長630nm,曲率半徑3Ma2=axes(39。Position39。,[,])。 %定位在繪圖中的位置[x,y]=meshgrid(linspace(,200))。 %將5mm*5mm區(qū)域打散成200*200r2=(x.^2+0*y.^2)。 % r2為各個(gè)點(diǎn)距中心的距離^2矩陣h=Rsqrt(R^2r2) %空氣薄膜厚度Delta=2*h+L/2 %光程差I(lǐng)n=+(cos(Delta*pi*2/L))/2。 %光強(qiáng)分布(按比例縮小到01) imshow(In) %生成灰度圖 λ=630nm ,R=3M λ=430nm ,R=3M λ=630nm ,R=10M 可見增大波長或者增大圓柱底面的半徑會使干涉條紋變寬。 (4) 任意曲面L=630*10^(9)。R=3。 %波長630nm 曲率半徑3Ma2=axes(39。Position39。,[,])。 %定位在繪圖中的位置[x,y]=meshgrid(linspace(,200))。 %將5mm*5mm區(qū)域打散成200*200r2=(x.^2+y.^2)。 %r2為各個(gè)點(diǎn)距中心的距離^2矩陣h=sin(r2*3000) %空氣薄膜厚度Delta=2*h+L/2 %光程差I(lǐng)n=+(cos(Delta*pi*2/L))/2。 %光強(qiáng)分布(按比例縮小到01) imshow(In) 曲面函數(shù):z=sin[3000(x^2+y^2)] 等傾干涉(1) 平行平板干涉 ,擴(kuò)展光源上一點(diǎn)S發(fā)出的一束光經(jīng)平行平板的上、下表面的反射和折射后,在透鏡后焦平面P點(diǎn)相遇產(chǎn)生干涉。兩支光來源于同一光線,因此其孔徑角是零。在P點(diǎn)的強(qiáng)度是: (81)其中光程差 (82)光程差越大,對應(yīng)的干涉級次越高,因此等傾條紋在中心處具有最高干涉級次。 (83) 一般不一定是整數(shù),即中心不一定是最亮點(diǎn),它可以寫成,式中是最靠近中心的亮條紋的整數(shù)干涉級,第N條亮條紋的干涉級表示為。如圖2,其角半徑記為則 (84)上式表明平板厚度h越大,條紋角半徑就越小。條紋角間距為 (85)表明靠近中心的條紋稀疏,離中心越遠(yuǎn)的條紋越密,呈里疏外密分布。(2) 仿真程序xmax=。ymax=。 %設(shè)定y方向和x方向的范圍Lamd=452e006。 %設(shè)定波長,以Lambda表示波長h=2。 %設(shè)置平行平板的厚度是2mmn=input(39。輸入折射率39。)。 %設(shè)置平行平板的折射率,以n表示f=50。 %透鏡焦距是50mmN=500。 %N是采樣點(diǎn)數(shù)x=linspace(xmax,xmax,N)。%X方向采樣的范圍從ymax到y(tǒng)max,采樣數(shù)組命名為xy=linspace(ymax,ymax,N)。%Y方向采樣的范圍從ymax到y(tǒng)max,采樣數(shù)組命名為yfor i=1:N %對屏幕上的全部點(diǎn)進(jìn)行循環(huán)計(jì)算,則要進(jìn)行N*N次計(jì)算 for j=1:N r(i,j)=sqrt(x(i)*x(i)+y(j)*y(j))。 %平面上一點(diǎn)到中心的距離 u(i,j)=r(i,j)/f。 %角半徑 t(i,j)=asin(n*sin(atan(u(i,j))))。 %折射角 phi(i,j)=2*n*h*cos(t(i,j))+Lamd/2。 %計(jì)算光程差 B(i,j)=4*cos(pi*phi(i,j)/Lamd).^2。%建立一個(gè)二維數(shù)組每一個(gè)點(diǎn)對應(yīng)一個(gè)光強(qiáng) end %結(jié)束循環(huán)end %結(jié)束循環(huán)Nclevels=255。 %確定使用的灰度等級為255級Br=B/*Nclevels。 %定標(biāo):使最大光強(qiáng)(4. 0)對應(yīng)于最大灰度級(白色)image(x,y,Br)。 %做出函數(shù)Br的圖像colormap(gray(Nclevels))。 %用灰度級顏色圖設(shè)置色圖和明暗(3) 干涉圖樣及分析折射率變化對干涉圖樣的影響 a)n= b)n= c)n= 觀察上面三幅圖,、。由圖可以看出,等傾干涉的條紋間距是不相等的,靠近中心處比較稀疏,外部比較密集。隨著折射率的增大,視野內(nèi)的條紋變少,條紋間距變大,條紋更稀疏。 20
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