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多晶硅產(chǎn)品的用途與生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)介-資料下載頁(yè)

2025-06-21 18:34本頁(yè)面
  

【正文】 (作廢液處理)附件13: HCL合成工藝流程示意圖 附件14:三氯氫硅合成工藝流程示意圖 附件15 3000噸提純新工藝流程圖——精餾提純物料平衡圖 ( 單位: kg/h ) 0805251, 合成氯硅烷分離精餾提純(2個(gè)系列,10臺(tái)塔,塔徑1400/900/1200/1200/1200 mm) 11級(jí)塔41級(jí)塔51級(jí)塔21級(jí)塔1級(jí)塔31級(jí)塔 10 10 10 合成氯硅烷 純TCS供還原爐 12級(jí)塔42級(jí)塔52級(jí)塔22級(jí)塔1級(jí)塔32級(jí)塔 10 10 102,回收合成氯硅烷的四氯化硅(1級(jí)塔排出的,單塔連續(xù)精餾,2個(gè)系列,2臺(tái)塔,塔徑900mm) 2 262級(jí)塔61級(jí)塔 280 280 去高沸物回收塔 去高沸物回收塔 3, 還原回收氯硅烷分離精餾提純 (4個(gè)系列 ,8臺(tái)塔,塔徑2200 /2200/2200/2200mm) 5 5101級(jí)塔91級(jí)塔81級(jí)塔71級(jí)塔 供還原 供還原 1705 25 1705 25 5 5102級(jí)塔92級(jí)塔82級(jí)塔72級(jí)塔 供還原 供還原 1705 25 1705 254, 氫化尾氣回收氯硅烷分離精餾提純 (2個(gè)系列 ,4臺(tái)塔,塔徑1400/1400 mm) 3 3111級(jí)塔121級(jí)塔112級(jí)塔122級(jí)塔 供還原 供還原 5,回收的高沸物分離精餾提純 (2個(gè)系列,4臺(tái)塔,塔徑1000mm/1400 mm) 3 3142級(jí)塔141級(jí)塔132級(jí)塔131級(jí)塔13級(jí)塔9級(jí)塔11級(jí)塔13級(jí)塔11級(jí)塔9級(jí)塔7級(jí)塔 去氫化 去氫化 6,回收的低沸物分離精餾提純 (2個(gè)系列,4臺(tái)塔,塔徑900/900mm) 6 5 6 5162級(jí)塔161級(jí)塔152級(jí)塔151級(jí)塔13級(jí)塔9級(jí)塔11級(jí)塔13級(jí)塔11級(jí)塔9級(jí)塔7級(jí)塔 160 160 可供還原 可供還原 附件16: 三氯氫硅還原生產(chǎn)多晶硅工藝流程示意圖 附件17: 四氯化硅氫化工藝流程示意圖 附件18: 尾氣干法回收工藝流程示意圖附件A 硅棒直徑與電流電壓曲線圖附件B 硅棒生長(zhǎng)電流電壓曲線圖附件C 硅棒直徑與電流密度關(guān)系圖 附件D 單位時(shí)間單位表面積供料量圖 附件E H2對(duì)TCS配比與硅轉(zhuǎn)化率關(guān)系圖 附件F 四氯化硅高溫高壓氫化工藝的轉(zhuǎn)化率圖 附件G 氫氣和三氯氫硅配比與蒸發(fā)器內(nèi)溫度關(guān)系圖 附件H 沉積速率與產(chǎn)量關(guān)系(1) 071126沉積速率(mm/h)生長(zhǎng)時(shí)間(h)裝拆爐時(shí) 間(h)總時(shí)間(h)年生長(zhǎng)爐 數(shù)硅芯總長(zhǎng)度()備 注2米76 米83米94米2842030425778496硅棒最終直徑以150mm計(jì)23720257298998111硅芯直徑以8mm計(jì)2032022333102111126還原爐操作時(shí)間以310天,7440小時(shí)1782019838117128145年總產(chǎn)量為3030噸計(jì)1582017842129142160142201624614215517612920149501541681911182013854166182206沉積速率mm/h 硅芯2米長(zhǎng) 60 80 100 120 140 160 180 200 220 Psi (t/a) 附件I 半導(dǎo)體硅溫度與電阻率關(guān)系圖 附件J 獲得太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的無(wú)氯工藝——生態(tài)結(jié)凈工藝基于下面化學(xué)反應(yīng)Si + 3C2H5OH = SiH(OC2H5)3 + H24 SiH(OC2H5)3 = SiH4 +3Si(OC2H5)4SiH4 = Si + 2H2 工藝優(yōu)勢(shì):1, 無(wú)氯的化學(xué)過(guò)程,工藝生態(tài)結(jié)凈安全;2, 溫度不超過(guò)300℃;3, 只有硅進(jìn)行反應(yīng),無(wú)其他雜質(zhì)反應(yīng),降低凈化提純費(fèi)用;4, 參加反應(yīng)物質(zhì)與反應(yīng)器內(nèi)壁不發(fā)生作用,對(duì)終端產(chǎn)品污染降到最低程度;5, 無(wú)廢舊物資料產(chǎn)生;6, TCS法耗電200Kwh/,而本工藝只有30Kwh/。7, 與TCS法相比產(chǎn)品成本低23倍。
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