【正文】 。（對(duì)）130原射線和散射線的劑量計(jì)算用比釋總能法。（錯(cuò)）131電子獲得能量從低能級(jí)躍遷到高能級(jí)而使低能級(jí)出現(xiàn)空位時(shí)，此時(shí)的原子處于激發(fā)態(tài).(對(duì)) 132測(cè)量劑量的化學(xué)劑量計(jì)法中使用最普遍，測(cè)量精度最高的是硫酸亞鐵化學(xué)劑量劑。（對(duì)）133對(duì)給定的電離輻射，電離室收集的電離電荷會(huì)因收集極工作電壓極性的改變而變化，稱為“極化效應(yīng)”（對(duì)）134電離輻射質(zhì)指的是輻射能量。（對(duì)）135校正電離室的復(fù)合效應(yīng)通常采用“雙電壓法”的實(shí)驗(yàn)方法。（對(duì)）136組織替代材料和被替代組織的物理密度必須近似相等(對(duì))137在標(biāo)準(zhǔn)條件下，準(zhǔn)直器散射因子就是射野輸出因子(對(duì))138消除電子束準(zhǔn)直器遠(yuǎn)離皮膚造成的半影增寬，應(yīng)使用體表限束器.(對(duì))(對(duì))140由直接電離粒子或間接電離粒子或兩者混合組成的輻射稱為電離輻射。（對(duì)）141傳能線密度與線性輻射阻止本領(lǐng)等效。（對(duì)）142單位質(zhì)量物質(zhì)吸收電離輻射的平均能量稱為吸收劑量（正確）143吸收劑量的專用名為戈瑞，吸收劑量適用任何類型和任何能量的電離輻射。（正確）144當(dāng)量劑量的單位是：JKg1。（正確）145當(dāng)滿足電子平衡條件時(shí)。（錯(cuò)誤）146電離室兩個(gè)互相平行的電極之間充滿的介質(zhì)是空氣。（正確）147高能電離輻射吸收劑量校準(zhǔn)的Cλ方法中，Cλ稱為高能電子束吸收劑量轉(zhuǎn)換因子（錯(cuò)）148利用溫度變化與介質(zhì)吸收輻射能量的程度的相關(guān)關(guān)系測(cè)量劑量的方法叫量熱法。（對(duì)）149在所有的掃描技術(shù)中,電磁偏轉(zhuǎn)掃描技術(shù)是實(shí)現(xiàn)調(diào)強(qiáng)治療的最好方法.(對(duì))150 射野影象系統(tǒng)(EPID)主要用于射野形狀和位置的驗(yàn)證,無(wú)法用于劑量驗(yàn)證.(對(duì))2008 LA物理師模擬試卷（三）一 單選題（共120小題，每小題只有一個(gè)選項(xiàng)是正確的）1 下列哪種射線不是放射性核素發(fā)出的：A a射線 B b射線 C X射線 D 正電子 E 中子2 鐳226是典型的a衰變核素， MeV a粒子直接到氡222基態(tài)，或是發(fā) MeV a 粒子到氡222的激發(fā)態(tài)，再通過(guò)發(fā)射g射線躍遷到基態(tài)。問(wèn)發(fā)射的g射線能量是多少?A MeV B MeV C MeV MeV D MeV E MeV 3 放射性核素鈷60的射線平均能量(Mev)和半衰期分別是:A 1590a B C D E 59d4 Ｘ射線與物質(zhì)相互作用中，哪一種相互作用Ｘ射線僅損失部分能量： 5 如下哪種粒子或射線可引起原子間接電離：A 電子 B 質(zhì)子 C a粒子 D 重離子 E X(g)光子6 帶電粒子與物質(zhì)相互作用中,單位長(zhǎng)度的電離損失用下述哪個(gè)物理量表示：A 線性碰撞阻止本領(lǐng) B質(zhì)量碰撞阻止本領(lǐng) C 線性輻射阻止本領(lǐng) D 質(zhì)量輻射阻止本領(lǐng) E 傳能線密度7 如下哪一種射線(或粒子)的射線質(zhì)是用射程表示：A 200KV X射線 B 400KV X射線 C 6MV X射線 D 10MV X射線 E 電子線8 質(zhì)能吸收系數(shù)是用來(lái)描述A X(g)射線與物質(zhì)相互作用中,單位長(zhǎng)度的能量損失份額 B X(g)射線與物質(zhì)相互作用中,單位質(zhì)量厚度的能量損失 C X(g)射線與物質(zhì)相互作用中,單位質(zhì)量厚度被物質(zhì)吸收的能量份額 D X(g)射線與物質(zhì)相互作用中,單位長(zhǎng)度被物質(zhì)吸收的能量份額 E帶電粒子與物質(zhì)相互作用中,單位質(zhì)量被物質(zhì)吸收的能量份額9 醫(yī)用直線加速器與電子感應(yīng)加速器相比，具有哪些優(yōu)勢(shì)？A 輸出劑量率高B劑量輸出穩(wěn)定性好，射野范圍大C輸出劑量率高，劑量輸出穩(wěn)定性好D射野范圍大，體積小E輸出劑量率高，劑量輸出穩(wěn)定性好，射野范圍大，體積小 10 鈷60治療機(jī)和醫(yī)用電子加速器的共同點(diǎn)是：A 結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不易出故障B 結(jié)構(gòu)復(fù)雜，容易出故障C 結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不易出故障，無(wú)須定期檢測(cè)D 結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于出故障，需定期檢測(cè)E 結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，不易出故障11 碘125源常用于什么疾病的治療？ A 皮膚癌 B 淋巴瘤 C 眼內(nèi)黑色素瘤 D 宮頸癌 E 食管癌12 哪項(xiàng)不是產(chǎn)生X射線的必要條件？ A 電子源 B 真空盒 C 加速電場(chǎng) D 靶 E 濾過(guò)板 13 半影的表示方法哪項(xiàng)正確？　A P90%10% B P90%20% C P80%10% D P95%10% E P95%20%14 用于放射治療的重離子是指元素周期表（ ）號(hào)元素以前的原子核離子。 A 10 B 12 C 14 D 16 E1815在小照射野條件下，應(yīng)用平行板電離室測(cè)量較低能量的電子束劑量分布劣于半導(dǎo)體探頭的原因是：A體積較大 B對(duì)側(cè)向散射反應(yīng)不靈敏 C 受“熱效應(yīng)”影響大 D 易受環(huán)境及溫度影響 E 受照射野大小影響16 能調(diào)節(jié)各射野照射靶區(qū)內(nèi)某一點(diǎn)的時(shí)間的方式是:A 一維物理楔形板 B 動(dòng)態(tài)楔形板 C多葉準(zhǔn)直器動(dòng)態(tài)掃描 D 多葉準(zhǔn)直器靜態(tài)掃描 E 筆形束電磁掃描17 下列關(guān)于等劑量分布的描述，錯(cuò)誤的是：　A 射線能量影響等劑量分布的形狀和物理半影的寬度 B 低能X射線在線束邊緣出現(xiàn)劑量不連續(xù)現(xiàn)象 C 隨著能量升高，射野中心部分等劑量曲線由平直逐漸彎曲 D 半影越大，線束邊緣等劑量曲線的彎曲越明顯 E 低能X線的邊緣散射多，并隨射野增大18 無(wú)限大射野內(nèi)任意離軸點(diǎn)的劑量率與相同深度處中心軸上相應(yīng)點(diǎn)的劑量率之比是：A 原射線的離軸比 B 射野的邊界因子 C 射野的對(duì)稱性 D射野的平坦度 　E 射野的均質(zhì)性19 以下描述錯(cuò)誤的是：　 A 低能X射線加入楔形板后射線質(zhì)變硬 B 鈷60γ線射線質(zhì)不受楔形板影響 C 對(duì)鈷60治療機(jī)和加速器，楔形因子不隨射野中心軸上的深度改變 D 對(duì)于通用型系統(tǒng)，楔形因子隨射線寬度而變化 E 楔形因子定義為加和不加楔形板對(duì)射野中心軸上某一點(diǎn)劑量率之比20 關(guān)于照射野對(duì)百分深度劑量的影響,哪項(xiàng)錯(cuò)誤? A 照射野越大,影響越大 B 電子束射程越短,影響越大 C 低能時(shí),影響較大 D 當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的1/2時(shí),影響較小 E 當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的2/3時(shí),影響較大21 OUF因子與Sc,Sp,Scp的關(guān)系表達(dá)式是：A Sp(FSZ)= Scp/OUF= Scp/ScB Sp(FSZ)= OUF/ Scp= Sc/ ScpC Sc= Scp/OUF= Scp/ SpD Sc= OUF/ Scp= Sp / ScpE OUF=(Sc+Sp)/Scp22 電子束百分深度劑量隨源皮距增加而變化的特點(diǎn),哪項(xiàng)錯(cuò)誤: A 表面劑量增加 B 最大劑量深度變深 C X射線污染增加 D 劑量梯度變陡 E 高能電子束較低能電子束變化顯著23 TAR的定義是：A 腫瘤中心（固定野的等中心）處小體積軟組織中的吸收劑量率與同一空間位置空氣中一小體積軟組織內(nèi)的吸收劑量率之比。B腫瘤中心（旋轉(zhuǎn)中心）處小體積軟組織中的吸收劑量率與同一空間位置空氣中一小體積軟組織內(nèi)的吸收劑量率之比。C同一空間位置空氣中一小體積軟組織內(nèi)的吸收劑量率與腫瘤中心（固定野的等中心）處小體積軟組織中的吸收劑量率之比 D同一空間位置空氣中一小體積軟組織內(nèi)的吸收劑量率與腫瘤中心（旋轉(zhuǎn)中心）處小體積軟組織中的吸收劑量率之比E空氣組織比24 設(shè)θ為兩楔形野中心軸交角，則兩楔形野交角照射時(shí)，所選楔形角α為： A α=900（θ/2） B α=900+（θ/2） C α=900θ D α=900+θ E α=（900θ）/225 近距離照射放射源強(qiáng)度的表示方法中,比較給定放射性核素和鐳226在同一特定點(diǎn)位置造成的照射量率的概念表達(dá)是:A 毫克鐳當(dāng)量 B 參考照射量率 C 顯活度 D 空氣比釋動(dòng)能強(qiáng)度 E空氣比釋動(dòng)能率常數(shù)26 TBI（全身照射）時(shí)，在患者和混凝土墻之間增加吸收屏的目的是： A 增加射線的吸收 B 減小反向散射 C增加皮膚劑量 D 增加劑量在患者體內(nèi)的建成 E 增加反向散射27 TBI（分次全身照射）與白內(nèi)障有明顯的相關(guān)性嗎？A 有 B 無(wú) C 與分次數(shù)有關(guān) D 與劑量率有關(guān) E 不確定28 TBI（全身照射）現(xiàn)在常用的技術(shù)要求是： A 延長(zhǎng)距離23米 B 機(jī)架旋轉(zhuǎn)45度 C 治療頭旋轉(zhuǎn)90度 D 照射野的對(duì)角線平行于患者的長(zhǎng)軸方向 E 垂直照射29 TBI（全身照射）中，肺劑量與間質(zhì)性肺炎發(fā)生率的關(guān)系是：A 無(wú)閾值 B具有一定的閾值， C具有一定的閾值， D具有一定的閾值， E具有一定的閾值，30 “跟隨作用”描述的是（）的幾何尺寸取決于（）的大小A X射線準(zhǔn)直器 電子束準(zhǔn)直器 B X射線準(zhǔn)直器 體表限束器C電子束準(zhǔn)直器 X射線準(zhǔn)直器D電子束準(zhǔn)直器 體表限束器E 體表限束器 X射線準(zhǔn)直器31 雙機(jī)架角多野技術(shù)在治療部位的電子束平均能量為（ ）Mev。A B C D E 32 雙對(duì)稱旋轉(zhuǎn)技術(shù)在治療部位的電子束平均能量為（Mev）:A B C D E 33 電子束旋轉(zhuǎn)治療時(shí)的β角，射野寬W和曲率半徑r 的關(guān)系是：A W=2rSin(β/2)/[1(f/r)Cos(β/2)]B W=2rSin(β/2)/[1(r/f)Cos(β/2)]C W=2rSin(f/2)/[1(r/f)Cos(β/2)]D W=2rSin(β/2)/[1(r/f)Cos(f/2)]E W=2rCos (β/2)/[1(r/f) Sin (β/2)]34 關(guān)于高能電子束的百分深度劑量, 描述錯(cuò)誤的是: A 劑量建成區(qū) B 低劑量坪區(qū) C 高劑量坪區(qū) D 劑量跌落區(qū) E X射線污染區(qū)35 電子束和X（γ）線在皮膚表面相交，會(huì)在銜接處出現(xiàn)劑量冷點(diǎn)和熱點(diǎn)，其原因是電子束照射野產(chǎn)生的( ). A 側(cè)向散射 B 反向散射 C 偏轉(zhuǎn) D 半影 E 加速36 近距離照射中, 距離源1cm和3cm 之間的劑量變化為:A 1倍 B 3倍 C 6倍 D 9倍 E 16倍37 為防止高劑量率照射引起治療增益比的下降,可采用分次大劑量照射,其所用分次劑量為:A Gy Gy C 2 Gy D 5 Gy E 12 Gy38 現(xiàn)代近距離照射中,模擬線源時(shí)假設(shè)駐留位為N,相鄰駐留位之間的距離為S, 則距離源（）之內(nèi),模擬源的劑量分布為波浪形,且離放射源距離越近越明顯.A N/2 B S/2 C NS D N/S E S/N39 采用等中心方法, 拍攝兩張互相垂直的影象片, 此種放射源的定位技術(shù)稱為:A 正交技術(shù) B 立體平移技術(shù) C 立體交角技術(shù) D 立體斜交技術(shù) E 旋轉(zhuǎn)技術(shù)40 曼徹斯特系統(tǒng)規(guī)定，若放射源不能形成封閉的輻射平面，則治療的面積會(huì)有所減少，一般單側(cè)無(wú)交叉，面積減少： A 5% B 10% C 15% D 20% E 25%41 曼徹斯特系統(tǒng)規(guī)定，輻射平面的面積決定周邊源與中心源強(qiáng)度之比，當(dāng)面積小于25 cm2時(shí)，二者的比值是： A 1/4 B1/3 C 1/2 D 2/3 E 4/542 關(guān)于巴黎系統(tǒng)的插植基本規(guī)則，描述錯(cuò)誤的是： A 所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等 B 放射源是相互平行的直線源 C 插植時(shí)各直線源強(qiáng)度及長(zhǎng)度相等 D 各源的中心在同一平面，即中心平面 E 多平面插植放射源排列為長(zhǎng)方形或等邊三角形。43 巴黎系統(tǒng)規(guī)定，單平面插植最多使用9根放射源，三角形雙平面插植最多也使用9根放射源，而正方形排列為（）根放射源。 A 8 B 9 C 10 D 11 E 1244 腫瘤組織內(nèi)的克隆源性細(xì)胞數(shù)，通常用腫瘤的（ ）表示。 A SF2 B Tpot C T分期 D N分期 E M分期45 關(guān)于不對(duì)稱射野，下列描述錯(cuò)誤的是：　 A 不對(duì)稱射野是指射野中心軸線偏離線束中心軸的射野 B IEC1217號(hào)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，當(dāng)葉片位于不對(duì)稱射野坐標(biāo)系的正方向時(shí)，葉片位置為正 C 不對(duì)稱射野由獨(dú)立準(zhǔn)直器的四個(gè)葉片形成 D 不對(duì)稱射野用于共面相鄰野銜接時(shí)，會(huì)在相鄰區(qū)出現(xiàn)劑量不均勻現(xiàn)象 E 不對(duì)稱射野可以實(shí)施彎曲形靶區(qū)的等中心旋轉(zhuǎn)切線照射技術(shù)46 照射區(qū)是指對(duì)一定的照射技術(shù)及射野安排，（）等劑量線面所包括的范圍。 A 50% B 80% C 90% D95% E 100% 47 靶劑量的定義是：A PTV內(nèi)接受的最大劑量 B PTV內(nèi)接受的平均劑量 C 靶區(qū)內(nèi)接受的最大劑量 D 靶區(qū)內(nèi)接受的平均劑量 E 腫瘤得到控制或治愈的腫瘤致死劑量48 測(cè)量出射劑量時(shí)，在患者表面放置足夠厚的反散射材料的目的是：