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光刻技術(shù)簡介ppt課件-資料下載頁

2025-05-06 03:51本頁面

　　

【正文】產(chǎn)生放電現(xiàn)象。傳統(tǒng)方法制作電極的缺陷： PVDF壓電薄膜被廣泛的應(yīng)用于超聲領(lǐng)域。本例中選擇了厚度為 9微米的 PVDF壓電薄膜作為超聲敏感元件。設(shè)計(jì)要制作的電極的形狀與尺寸第一步：對(duì) PVDF壓電薄膜進(jìn)行清洗處理。采用有機(jī)溶劑丙酮。第二步：第三步：涂膠。選用正性光刻膠，采用手工操作涂到需要保護(hù)的電極層上。第三步：前烘與曝光。第四步：腐蝕。采用濕法刻蝕方法。選取碘和碘化鉀的水溶液（質(zhì)量比為 1:4:40）作為金的腐蝕溶劑，體積分?jǐn)?shù)為 40%的氫氟酸作為鉻層的腐蝕溶劑。第五步：去膠。需要將起保護(hù)作用的正性膠去掉，采用乙醇做去膠溶劑。制備好的電極：設(shè)計(jì)圖樣制備的電極與設(shè)計(jì)圖樣一致表一是用萬用表測試保留的電極層及被腐蝕處的導(dǎo)電性。表二的數(shù)據(jù)是對(duì)壓電薄膜的壓電常數(shù)的測量。

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