光刻技術簡介ppt課件-資料下載頁
2025-05-06 03:51本頁面
【正文】 產(chǎn)生放電現(xiàn)象。 傳統(tǒng)方法制作電極的缺陷： PVDF壓電薄膜被廣泛的應用于超聲領域。本例中選擇了厚度為 9微米的 PVDF壓電薄膜作為超聲敏感元件。 設計要制作的電極的形狀與尺寸 第一步： 對 PVDF壓電薄膜進行清洗處理。采用有機溶劑丙酮。 第二步： 第三步： 涂膠。選用正性光刻膠，采用手工操作涂到需要保護的電極層上。 第三步： 前烘與曝光。 第四步： 腐蝕。采用濕法刻蝕方法。選取碘和碘化鉀的水溶液（質量比為 1:4:40）作為金的腐蝕溶劑，體積分數(shù)為 40%的氫氟酸作為鉻層的腐蝕溶劑。 第五步： 去膠。需要將起保護作用的正性膠去掉，采用乙醇做去膠溶劑。 制備好的電極： 設計圖樣 制備的電極 與設計圖樣一致 表一是用萬用表測試保留的電極層及被腐蝕處的導電性。 表二的數(shù)據(jù)是對壓電薄膜的壓電常數(shù)的測量。
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