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[計算機軟件及應用]第2章cmos集成電路基礎(chǔ)-資料下載頁

2025-02-20 22:16本頁面
  

【正文】 制造工藝中,通過光刻和刻蝕將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。這種制造集成電路時使用的掩膜版上的幾何圖形定義為集成電路的版圖。 ?版圖要求與對應電路嚴格匹配,具有完全相同的器件、端口、連線 柵極負責施加控制電壓 源極、漏極負責電流的流進流出 導電溝道 一、單個 MOS管的版圖實現(xiàn) 有源區(qū) 柵 導電溝道 有源區(qū)注入雜質(zhì)形成晶體管, 柵與有源區(qū)重疊的區(qū)域確定器件尺寸, 稱為 導電溝道 圖形關(guān)系 只要源極、漏極以及導電溝道所覆蓋的 區(qū)域稱為 有源區(qū) 。 芯片中有源區(qū)以外的區(qū)域定義為 場區(qū)。 MOS管中電流由源極流向漏極。 溝道中電流流過 的距離為溝道 長度 ; 截面尺寸為溝道 寬度 。 電流方向 溝道長度 L 溝道寬度 W 器件尺寸設(shè)計 ?設(shè)計中,常以寬度和長度值的比例式即 寬長比( W/L) 表示器件尺寸。 ?例:假設(shè)一 MOS管,尺寸參數(shù)為 20/5。則在版圖上應如何標注其尺寸。 20/5
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