【正文】 EDI 進(jìn)水量對(duì)產(chǎn)品水水質(zhì)影響極大。同一膜堆在工作電壓、工作電流、進(jìn)水電導(dǎo)率不變的條件下，EDI 產(chǎn)品水電阻率隨進(jìn)水量的增加而降低。 例如 HJJ1EDIMDB2500L/h 膜堆，標(biāo)準(zhǔn)工作條件為工作電壓 125～ 150V、工作電流 ～ ，標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)水量 2500～ 2550L/h，該膜堆在工作電壓、工作電流和進(jìn)水水質(zhì)不變的標(biāo)準(zhǔn)條件下，產(chǎn)水量改變，將產(chǎn)生如下結(jié)果： 當(dāng)產(chǎn)水量 1000L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ cm， 當(dāng)產(chǎn)水量 1500L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ cm， 當(dāng)產(chǎn)水量 2022L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ 15MΩ cm， 當(dāng)產(chǎn)水量 2500L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ 10MΩ cm， 當(dāng)產(chǎn)水量 3000L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ 5MΩ cm， 又如 HJJ2EDIMDB2022L/h 膜堆，標(biāo)準(zhǔn)工作條件為工作電壓 115～ 120V、工作電流 ～ ，標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)水量 2022～ 2050L/h，該膜堆在工作電壓、工作電流和進(jìn)水水質(zhì)不變的條件下，產(chǎn)水量改變，將產(chǎn)生如下結(jié)果： 當(dāng)產(chǎn)水量 1000L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ cm， 當(dāng)產(chǎn)水量 1500L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ 18MΩ cm， 當(dāng)產(chǎn)水量 2022L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ 17MΩ cm， 當(dāng)產(chǎn)水量 2500L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ cm， 當(dāng)產(chǎn)水量 3000L/h 時(shí)，產(chǎn)品水穩(wěn)定電阻率 ≥ 15MΩ cm， 由 上述產(chǎn)水量對(duì)產(chǎn)品水電阻率的影響可見產(chǎn)水量越低，產(chǎn)品水電阻率越高。因此，要制取高電阻率的產(chǎn)品水，應(yīng)盡可能降低產(chǎn)水流量。一級(jí) EDI 在高于標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)水流量條件上運(yùn)行使用，產(chǎn)水電阻率下降幅度較大。二級(jí) EDI 在高于標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)水流量條件上運(yùn)行使用，產(chǎn)水電阻率下降幅度較小。 電流變量對(duì) EDI膜堆及其產(chǎn)品水水質(zhì)的影響 工作電流與膜堆溫度的關(guān)系 當(dāng)電流通過 EDI 膜堆時(shí)，膜堆會(huì)產(chǎn)生熱量。在系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)，在規(guī)定的工作電流和再生電流條件下，必須使用規(guī)定的產(chǎn)品水流量、濃水流量和極水流量，讓水流把熱量帶出。因此在 EDI 產(chǎn)品水 、濃水、極水水流不暢或者水流停止時(shí)，必須關(guān)閉電源，否則 EDI 膜堆部件會(huì)被在電流作用下產(chǎn)生的高溫?zé)崴疇C壞。 重要警告： EDI 停機(jī)或無水時(shí)， EDI 膜堆供電電流必須切斷！ 工作電流與產(chǎn)品水水質(zhì)的關(guān)系 獲得高質(zhì)量的產(chǎn)品水對(duì)應(yīng)著一個(gè)最佳電流值。若實(shí)際運(yùn)行電流低于最佳電流，產(chǎn)品水中的離子則不能徹底遷移至濃水室，部分離子被樹脂吸附，短時(shí)間內(nèi)產(chǎn)品水水質(zhì)較好，當(dāng)樹脂失效后，產(chǎn)品水水質(zhì)大幅下降；若實(shí)際運(yùn)行電流高于最佳電流，多余的電流會(huì)引起極化，產(chǎn)生多余的 H+和 OH－ 離子，無法被樹脂吸附或被遷移出去，使產(chǎn)品水的電阻率 降低。 重要警告：選擇合適的最佳工作電流是制取高質(zhì)量產(chǎn)品水的重要條件之一！ 進(jìn)水水質(zhì)對(duì)工作電流的影響 EDI 工作電流與 EDI 膜堆中離子遷移數(shù)量成正比。這些離子包括 TES，也包括由水電離產(chǎn)生的 H+和OH－ 。當(dāng)進(jìn)水的 TDS 增高時(shí)，一方面，離子遷移所需要的電流要增大；另一方面，水電離所需要的電流也要增大。因此，總的工作電流要增大。 東莞市石碣 臺(tái)泉純 水 設(shè)備 有限公司 HJJEDI 產(chǎn)品與技術(shù)手冊(cè) 臺(tái)泉 : 17 每個(gè)膜堆最佳工作電流與進(jìn)水的 TDS 有關(guān)。其關(guān)系式近似于電流的平方等于 TDS，即電流等于 TDS開平方。 水壓變量對(duì)產(chǎn)品水水質(zhì)的影響 膜堆進(jìn)口壓力對(duì)產(chǎn)品水水質(zhì) 的影響 膜堆的純水室、濃水室、極水室進(jìn)口壓力是相同的， EDI 膜片位于純水室和濃水室之間或純水室和極水室之間，膜片的最高爆破壓力為 ，標(biāo)準(zhǔn)水透過壓差為 。因此，純水室和濃水室、純水室和極水室的進(jìn)水壓差必須小于 。如果兩室之間的壓差超過 ，膜片會(huì)爆裂。如果兩室之間的壓差在 ～ 之間，水透過 EDI 膜片的量會(huì)增大，因此，要求 EDI 膜堆純水室、濃水室、極水室進(jìn)口壓力保持一致或純水室進(jìn)口壓力略大于濃水室、極水室的壓力。 膜堆出口壓力對(duì)產(chǎn)品水水質(zhì)的影響 為 了保證內(nèi)部泄漏不影響產(chǎn)品水水質(zhì)，產(chǎn)品水出口壓力應(yīng)當(dāng)比濃水和極水出口壓力高 ～。因此，任何內(nèi)部泄漏只會(huì)稀釋濃水，而不會(huì)污染產(chǎn)品水。 濃水出口應(yīng)當(dāng)沒有任何背壓。設(shè)計(jì)系統(tǒng)時(shí)，應(yīng)當(dāng)選用足夠粗的管子和盡量短的流程。濃水排放部分如果回送到反滲透入口或作其他用途，最好先進(jìn)入一個(gè)儲(chǔ)水罐，再用泵打出去。 重要警告：產(chǎn)品水出口壓力比濃水和極水出口壓力略高！ 溫度的影響 溫度與壓力損失的關(guān)系 壓力損失與溫度有關(guān)，主要是由于水粘性的改變。下面的表格顯示了在不同溫度下水的粘度。壓力損失和水的粘 度成比例關(guān)系。 表 3 水的粘度與溫度的關(guān)系表 溫度（℃） 5 15 20 25 30 35 粘度 溫度與 EDI 產(chǎn)品水水質(zhì)的關(guān)系 運(yùn)行有一個(gè)最佳溫度范圍。當(dāng)溫度增加到接近 35℃時(shí)，由于離子“泄漏”的增加，產(chǎn)品水水質(zhì)將降低。當(dāng)溫度降低時(shí)，產(chǎn)品水的表觀水質(zhì)可以得到改善。其中有電阻率儀溫度補(bǔ)償誤差的原因，也有離子交換樹脂對(duì)離子選擇性增強(qiáng)的原因。但是，如果溫度進(jìn)一步降低，離子通過膜的擴(kuò)散能力會(huì)按照指數(shù)規(guī)律降低，因此使 EDI 的去離子能力下降， 水質(zhì)降低。 167。在較低的溫度下，可以降低電壓以節(jié)省能源 167。在較高的溫度下，為了繼續(xù)有效地離解水，需要較高的電壓 電阻率儀表的溫度補(bǔ)償 電阻率 /電導(dǎo)率測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)溫度為 25℃。在較高的溫度下，因?yàn)殡x子的遷移加快，含有離子的水的電導(dǎo)率增高。對(duì)于超純水，較高溫度時(shí)，水分解出來的 H+、 OH－ 的量更多，電導(dǎo)率增高。 自來水和反滲透水的電導(dǎo)率隨溫度變化率大約為 2％ /℃。超純水的變化率約為 57％ /℃。因此如果工作溫度不是 25℃，溫度補(bǔ)償很重要。即使有較好的溫度補(bǔ)償系統(tǒng)，較熱純水的電阻率是很難準(zhǔn)確測(cè)量的。下表是不 同溫度下純水的電阻率。 表 4 不同溫度下產(chǎn)品水的電阻率 溫度（℃） 15 25 35 電阻率（ MΩ cm） 東莞市石碣臺(tái)泉純水設(shè)備有限公司 HJJEDI 產(chǎn)品和技術(shù)手冊(cè) 臺(tái)泉 : 18 第六章 使用 EDI設(shè)備的水處理全系統(tǒng)設(shè)計(jì) 本章是為使用 HJJEDI 膜堆的用戶合理設(shè)計(jì)工程系統(tǒng)而設(shè)。 EDI進(jìn)水預(yù)處理原則 進(jìn)水預(yù)處理對(duì) EDI 極其重要。 EDI 膜堆的使用壽命、性能及維修量都取決于水中的雜質(zhì)含量。應(yīng)根據(jù)原水水質(zhì)和第三章第 2 節(jié)中 EDI 對(duì)進(jìn)水的要求設(shè)計(jì) EDI 進(jìn)水預(yù)處理設(shè)施。 如果給 EDI 提供較好的預(yù)處理水，膜堆的清洗頻率將會(huì)降低。 EDI系統(tǒng)進(jìn)水的預(yù)處理 EDI 進(jìn)水為反滲透產(chǎn)品水。反滲透是 EDI 前處理的終端設(shè)備。反滲透膜使用的好壞直接關(guān)系到 EDI的進(jìn)水質(zhì)量。所以，保證反滲透產(chǎn)品水的質(zhì)量，是保證 EDI 產(chǎn)品水質(zhì)量的前提條件。 反滲透的進(jìn)水條件： 連續(xù)運(yùn)行 pH 的范圍： 2～ 11 最大給水污染指數(shù) SDI： 5 最大給水硬度： 最大給水濁度： 1NTU 游離氯容忍量： 要保證反滲透的進(jìn)水條件，可選用如下設(shè)備。 機(jī)械過濾器 機(jī)械過濾器是利用器內(nèi)濾料來去除水中的懸浮物及經(jīng)沉淀澄清不能去除的膠體雜質(zhì)。如：去除泥、沙等大顆粒雜質(zhì)。利用石英砂有較好的載污能力，水通過石英砂時(shí)，水中的懸浮物和膠體雜質(zhì)被吸附截留，水中雜質(zhì)從而被去除，出水達(dá)到透明。使用該設(shè)備，可保證給水污染指數(shù) SDI5,給水濁度 1NTU。 除氯裝置 反滲透進(jìn)水不能檢測(cè)到氯。 為滿足上述要求，主要有三種處理方法：顆?；钚蕴俊⒓恿蛩釟溻c和硫酸鈉、 UV 法。加藥除氯法比活性炭除氯好，因?yàn)樗煽慷覜]有微生物污染問題。 UV 法是除氯的新方法，它很難完全去除氯，特別是經(jīng)過氯處理過的進(jìn)水。 進(jìn)水氯含量能夠用余氯檢測(cè)儀檢測(cè)。 活性炭除 氯：確保系統(tǒng)中活性炭過濾器大小能夠完全消除進(jìn)水中的余氯和有機(jī)物，設(shè)計(jì)時(shí)注意進(jìn)水含氯濃度，進(jìn)水至少在活性炭過濾器停留 6 分鐘。 加藥除氯：注意進(jìn)水中氯的含量，確保加藥系統(tǒng)剛好完全宣消除進(jìn)水中的氯。加藥系統(tǒng)必須包括足夠的水質(zhì)檢測(cè)儀器和安全控制裝置。對(duì)于需要多種加藥的預(yù)處理系統(tǒng)（如硫酸氫鈉、硫酸鈉和氫氧化鈉）。我們建議每種藥物都有獨(dú)立的加藥系統(tǒng)，并帶有相應(yīng)的攪拌系統(tǒng)。 紫外線（ UV）除氯：確保系統(tǒng)中紫外線大小能夠完全消除水中的氯，設(shè)計(jì)時(shí)必須考慮進(jìn)水中氯的濃度。 使用上述方法，可保證游離氯 ，并可防止有機(jī) 物污染反滲透膜。 軟水器 當(dāng)反滲透產(chǎn)品水的硬度大于 （ CaCO3）時(shí)，建議在反滲透前增加軟化裝置。 軟化使用強(qiáng)酸性陽離子交換樹脂，用于軟化除去 RO 進(jìn)水中的 Ca2+、 Mg2+等離子，降低進(jìn)水的硬度，防止 RO 膜結(jié)垢，保護(hù) RO 膜，延長(zhǎng) RO 膜的使用壽命，離子交換樹脂飽和后，用食鹽水再生。 東莞市石碣臺(tái)泉純水設(shè)備有限公司 HJJEDI 產(chǎn)品和技術(shù)手冊(cè) 臺(tái)泉 : 19 使用上述方法，可保證反滲透進(jìn)水硬度小于 。 保安過濾器 保安過濾器是為了保護(hù)反滲透系統(tǒng)而設(shè)置的部件，去除水中直徑 5μ m 以上殘余微粒，防止堵塞反滲透膜。 PH 調(diào)節(jié)系統(tǒng) 大多水源偏酸，因此，經(jīng)軟化， RO 處理后產(chǎn)品水 PH 更低。因此，增加 PH 調(diào)節(jié)系統(tǒng)，使 RO 產(chǎn)水 PH值在 7～ 8 的范圍，有利于 EDI 產(chǎn)品水水質(zhì)的提高。 反滲透裝置 反滲透可以除掉大部分溶解鹽類。正常情況下單級(jí)或雙級(jí)反滲透可以有效的去除高達(dá) 99％的離子和分子量在 200 以上的有機(jī)物。 反滲透的預(yù)處理以及反滲透設(shè)備本身的設(shè)計(jì)應(yīng)參考有關(guān)反滲透技術(shù)資料設(shè)計(jì)。 反滲透將進(jìn)水分成滲透水和濃水，只有滲透水才能進(jìn)入 EDI。 脫氣裝置 反滲透產(chǎn)水 CO2含量一般都偏高，嚴(yán)重影響 EDI 設(shè)備的產(chǎn)水電阻率。為了得到高電阻率的產(chǎn)品水，必須重視 CO2的去除。當(dāng) EDI 進(jìn)水 TEA 高于 25ppm 時(shí)，可以考慮使用脫氣的方法脫除水中的 CO2。另外，當(dāng) CO2含量較低時(shí) EDI 膜堆的除硅效果會(huì)更好。脫氣裝置可用脫氣膜或脫氣塔。該裝置最好放置在反滲透之后。應(yīng)將 CO2清除至 5ppm 以下。 沉淀物過濾器 為防止 EDI 被堵塞，需在 EDI 前安裝精密過濾器。 EDI裝置的安全保護(hù) EDI 裝置設(shè)在 RO 裝置的下游，用以去除 RO 水中剩余的少量離子，實(shí)現(xiàn)深度脫鹽，使產(chǎn)品水達(dá) 到高純水的程度。 EDI 裝置的安全保護(hù)要求 EDI 純水室、濃水室、極水室出水口流量過低或斷流時(shí)的保護(hù) EDI 膜堆純水室、濃水室、極水室出水口流量過低或斷流會(huì)造成膜堆發(fā)熱，甚至熔化膜堆部件，造成 EDI 膜堆永久性損壞。為防止這一項(xiàng)現(xiàn)象發(fā)生，我們建議在純水室、濃水室、極水室出水口處加流變開關(guān)。流變開關(guān)接通條件為規(guī)定出水量的 50％。當(dāng)各路流量 50％時(shí)，流變開關(guān)斷電。該流變開關(guān)應(yīng)和供水泵、 EDI 電源聯(lián)鎖。 EDI 純水室、濃水室、極水室進(jìn)水口壓力過低的保護(hù) EDI 膜堆 純水室、濃水室、極水室進(jìn)水口壓力過低會(huì)造成 EDI 膜堆純水室、濃水室、極水室出水口流量過低或斷流，致使膜堆發(fā)熱，甚至溶化損壞。我們建議：在 EDI 膜堆進(jìn)水調(diào)壓閥前設(shè)一低壓開關(guān)，可在 EDI 膜堆流量過低或斷流現(xiàn)象發(fā)生時(shí)切斷膜堆電源，保護(hù)膜堆。該低壓開關(guān)應(yīng)與供水泵、 EDI 電源聯(lián)鎖。 EDI 純水室、濃水室、極水室進(jìn)水口壓力過高的保護(hù) EDI 膜堆純水室、濃水室、極水室進(jìn)水口壓力過高會(huì)造成 EDI 膜堆損壞，如超過出廠耐壓試驗(yàn)的情況下，可能造成 EDI 膜堆滲漏和膜片的破壞。為防止這一現(xiàn)象的發(fā)生，我們建議：在 EDI 膜堆進(jìn)水調(diào)壓閥前加一高壓開關(guān)，可防止供水壓力過高對(duì)膜堆的損壞。該高壓開關(guān)應(yīng)與供水泵、 EDI 電源聯(lián)鎖。 EDI 電源限電流保護(hù) EDI 電源限電流，可以防止操作給電流過大造成膜堆燒毀。為防止這一現(xiàn)象出現(xiàn)， EDI 電源必需要限制電流功能。當(dāng)超過最大再生電流時(shí)，電源自動(dòng)斷電。 EDI 電源與供水泵的控制要求 EDI 電源與供水泵聯(lián)鎖，后加流變開關(guān)控制，可以防止膜堆過熱。當(dāng)供水泵給 EDI 供水時(shí)，外電源東莞市石碣臺(tái)泉純水設(shè)備有限公司 HJJEDI 產(chǎn)品和技術(shù)手冊(cè) 臺(tái)泉 : 20 才向 EDI 電源控制器供電。當(dāng)供水泵不給 EDI 供水時(shí)，外電源不向電源控制器 供電。當(dāng)供水泵供水不足時(shí)或致使某一路流變開關(guān)斷電或致使低壓開關(guān)斷電，供水泵和 EDI 膜堆都不加電。當(dāng)供水泵供水過大時(shí)，致使高壓開關(guān)斷電， EDI 膜堆和供水泵都斷電。 其它的保護(hù)措施 EDI 前水箱設(shè)低水位控制開關(guān)和中水位開關(guān)。 在低水位條件下，供水泵不能開動(dòng)， EDI 電源斷電在水位高于中水位開關(guān)位時(shí)，供水泵才可開， EDI電源電源才可接通。 EDI 后水箱設(shè)高水位控制開關(guān)和中水位控制開關(guān)。 在高水位條件下，供水泵不能開動(dòng)， EDI 電源斷電