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近紅外線阻斷膜ppt課件-資料下載頁

2025-01-04 21:04本頁面
  

【正文】 電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、激光蒸鍍等 磁控濺射 ? 其工藝原理是將基材送入設(shè)有磁控陰極和濺射氣體(氬氣)的真空室內(nèi),陰極加負(fù)壓,在真空室內(nèi)輝光放電,產(chǎn)生等離子體,由于靶材帶負(fù)電,等離子體中帶正電的氣體離子被加速,并以相當(dāng)于靶極位降的能量撞擊靶面,將靶材的原子轟出來,使之沉淀在基材表面上而形成薄膜。 ? 按工作電源不同可分為直流磁控濺射和射頻濺射 離子束濺射 ? 運用一個功率較大的濺射離子源產(chǎn)生高密度的高能離子轟擊靶材,產(chǎn)生濺射作用,濺出的粒子(主要是中性粒子)沉積到附近的基片上成膜 謝謝!
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