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[信息與通信]雙極等特殊工藝-資料下載頁(yè)

2024-10-18 22:18本頁(yè)面
  

【正文】 PN管的使用 。 2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 52 以 N阱 CMOS工藝為基礎(chǔ)的 BiCMOS工藝 ? N阱 CMOSNPN體硅襯底結(jié)構(gòu)剖面圖 BCEN+N+P+P+P M O SP S U BN M O SN+N+PN阱N阱縱 向 N P N2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 53 N阱 CMOS工藝為基礎(chǔ)的 BiCMOS工藝 N阱 CMOS工藝為基礎(chǔ)的 BiCMOS工藝 與以 P阱 CMOS工藝為基礎(chǔ)的 BiCMOS工藝相比 , 優(yōu)點(diǎn)包括 : ( 1) 工藝中添加了基區(qū)摻雜的工藝步驟 ,這樣就形成了較薄的基區(qū) , 提高了 NPN晶體管的性能; 2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 54 N阱 CMOS工藝為基礎(chǔ)的 BiCMOS工藝 ( 2) 制作 NPN管的 N阱將 NPN管與襯底自然隔開(kāi) , 這樣就使得 NPN晶體管的各極均可以根據(jù)需要進(jìn)行電路連接 ,增加了 NPN晶體管應(yīng)用的靈活性 。 2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 55 N阱 CMOS工藝為基礎(chǔ)的 BiCMOS工藝 它的缺點(diǎn) 是: NPN管的集電極串聯(lián)電阻還是太大 , 影響雙極器件的驅(qū)動(dòng)能力 。 如果以 P+Si為襯底 , 并在 N阱下設(shè)置 N+隱埋層 , 然后進(jìn)行P型外延 , 可使 NPN管的集電極串聯(lián)電阻減小5?6倍 , 還可以使 CMOS器件的抗閂鎖性能大大提高 。 其結(jié)構(gòu)如下圖 。 2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 56 N阱 CMOSNPN外延襯底結(jié)構(gòu)剖面圖 BCEP+P+P M O SN+PN阱N阱縱 向 N P N S U BP+N+N+N M O SP-e p iN+N+ B L N+ B L2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 57 雙極工藝為基礎(chǔ)的 BiCMOS工藝 ( 1) 以 CMOS工藝為基礎(chǔ)的 BiCMOS工藝 中,影響B(tài)iCMOS電路性能的 主要是雙極型器件 。顯然,若以雙極工藝為基礎(chǔ),對(duì)提高雙極型器件的性能是有利的。 ( 2) 這種結(jié)構(gòu) 克服了以 P阱 CMOS工藝為基礎(chǔ)的BiCMOS結(jié)構(gòu)的缺點(diǎn) , 而且還可以用此工藝獲得對(duì)高壓、大電流很有用的縱向 PNP管和LDMOS及 VDMOS結(jié)構(gòu),以及在模擬電路中十分有用的 I2L等器件結(jié)構(gòu)。 2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 58 三種以 PN結(jié)隔離雙極型工藝為基礎(chǔ)的 P阱 BiCMOS器件結(jié)構(gòu)剖面圖 : P M O SN+P+P+N+ S U BPP PN+N+N+P M O SGSDPNG SDN+N+N M O SP 阱N+P+P+P+N++-齊 納 二 極 管PP S U BPPN+B EV P N PN+PPPC ECBL P N PP+PN+C E BN P NN+N+GSDGSDN+P+P-N M O SP+N+N-PDSSGN+P+P-BCBEB J TV D M O SN+P+P-2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 59 以雙極工藝為基礎(chǔ)的雙阱 BiCMOS工藝 ?這種結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)是采用 N+ 及 P+ 雙埋層雙阱結(jié)構(gòu) ,采用 薄外延層 來(lái)實(shí)現(xiàn)雙極器件的 高截止頻率 和 窄隔離寬度 。 ?此外,利用 CMOS工藝的 第二層多晶硅 做雙極器件的多晶硅發(fā)射極,不必增加工藝就能形成 淺結(jié)和小尺寸發(fā)射極 。 2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 60 雙埋層雙阱 BiCMOS工藝器件結(jié)構(gòu)剖面圖 以雙極工藝為基礎(chǔ)的雙埋層雙阱 BiCMOS工藝的器件結(jié)構(gòu)剖面圖 PCP S U BN+N阱N+N+EBP阱N+N阱P+P+P+N+N+阱PP+外延層N M O SP M O S2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 61 預(yù)習(xí)下節(jié)課: ?第 5章 集成電路版圖設(shè)計(jì) 2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 62 本小節(jié)結(jié)束 (1~62) ?謝謝 ! 2021/11/10 《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》 63
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