第二章電鍍基本原理與概念-資料下載頁
2025-09-19 14:06本頁面
【導(dǎo)讀】電鍍被定義為一種電沈積過。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層。，改變基材表面性質(zhì)或尺寸。尺寸錯誤或磨耗之另件之修補(bǔ)。電鍍法無電鍍法(electroless. 熱浸法熔射噴鍍法。塑膠電鍍浸漬電鍍(immersion. 滲透鍍金陰極濺鍍(cathode. 真空蒸著鍍金合金電鍍(alloy. 複合電鍍(positeplating局部電鍍(selective. 電鍍大部份在液體下進(jìn)行，又。銀、、鎘、銻、鉍、錳、鈷、鎳等金屬。被溶解之物質(zhì)稱之為溶質(zhì)，使溶質(zhì)。溶液之濃度，在工廠及作業(yè)現(xiàn)場，使用易。在電鍍處理過程中，有物理變化及化學(xué)變。電鍍是一種電沉積過程,利用電解。極移動者稱之為陰離子cations)。電極電位之大小可由Nernstequation表示之:. aMn+=金屬離子之活度,若極稀薄之溶液,其。各種金屬之標(biāo)準(zhǔn)電位見表排列在前頭之金屬如。金屬含有該金屬離子之溶液相接觸,則在金屬與溶。設(shè)驅(qū)使金屬失去電子變?yōu)殛栯x子溶入溶液中之電。金屬電極本體接收電子而帶負(fù)電。P<P時,金屬陽離子得到電子被還元沉。金屬電極本身供給電子,因此金屬電極。P=P時,沒有產(chǎn)生任何變化。設(shè)金屬與溶液的界面所形成的電極電位為E,當(dāng)
【正文】 電鍍需做下面各種步驟：研磨、拋光、電解研磨、洗淨(jìng)、除銹等。 電鍍之前處理 ? 電鍍前之處理，稱之前處理 (pretreatment)，包括下列過程： ? ： 去除金屬表面之油質(zhì)、脂肪、研磨劑，及污泥?？捎? ? 噴射洗淨(jìng)、溶劑洗淨(jìng)、浸沒洗淨(jìng)或電解洗淨(jìng)。 ? ： 用冷或熱水洗淨(jìng)過程之殘留洗淨(jìng)劑或污物。 ? ： 去除銹垢或其他氧化物膜，要注意防止基材被腐蝕或產(chǎn)生氫脆?？杉右种苿┮员苊膺^度酸浸。酸浸完後要充份清洗。 ? ： 促進(jìn)鍍層附著性，可用各種酸溶液使金屬表面活化。 ? ： 電鍍前立刻去除酸膜，然後電鍍。 電鍍掛架（ rack） ? 電鍍掛架是用在吊掛鍍件及導(dǎo)引電流之掛架，其主要部份有： ，使電流接觸導(dǎo)電棒。 ，支持鍍件並傳導(dǎo)電流。 ，使電流接觸鍍件。，絕緣架框部份，限制及導(dǎo)引電流通向鍍件。 ? 其決定尺寸的條件有 ， ， ， 所需之最大電流， 或輔助電極， 。 電鍍掛架（ rack） ? 電鍍掛架基本型式有 : ? ，是以垂直中央支持，用舌尖夾持鍍件，適小鍍件可用手來操作。 ? ，經(jīng)常用在自動電鍍上，是用方型框架聯(lián)合平行及垂直骨架所構(gòu)成夾持小鍍件。 ? ，這種掛架可以處理許多鍍件，需配備有自動輸送機(jī)、起重機(jī)、吊車等設(shè)備。 ? ，聯(lián)結(jié)許多垂直的交叉棒，此種適合手動及自動操作。 電鍍掛架（ rack） ? 選擇電鍍掛架的決定因素有 : ? ， ? ， ? ， ? ， ? ， ? ， ? 。 電鍍掛架（ rack） ? 電鍍掛架在某些地方加以塗層絕緣，其目的有下列幾項： ? 。 ? ，減少電能 ? 損失。 ? 。 ? 。 ? 。 ? ，防止鍍糟腐蝕。 電鍍控制條件及影響因素 ? 。 。 ? 。 。 ? 。 。 ? 。 。 ? 。 。 ? 。 。 ? 。 。 ? 。 。 ? 。 ? 。 ? 。 鍍層要求項目 ? 依電鍍的目的鍍層必須具備某些特定的性質(zhì)，鍍層的基本要求有下列幾項： ? (adhesion)， 係指鍍層與基材之間結(jié)合力，密著性不佳則鍍層會有脫離現(xiàn)象，其原因有： ? (1)表面前處理不良，有油污、鍍層無法與基 ? 材結(jié)合。 ? (2)底材表面結(jié)晶構(gòu)造不良。 ? (3)底材表面產(chǎn)生置換反應(yīng)如銅在鋅或鐵表面 ? 析出。 鍍層要求項目 ? (cohesion)， 係指鍍層金屬本身間之結(jié)合力，晶粒細(xì)小，無雜質(zhì)則有很好的緻密性。其影響的因素有： (1)鍍浴成份，電流密度， (3)雜質(zhì)，一般低濃度浴，低電流密度可得到晶粒細(xì)而緻密。 ? (continuity)， 係指鍍層有否孔隙(pore)，對美觀及腐蝕影響很大。雖鍍層均厚可減少孔隙，但不經(jīng)濟(jì)，鍍層要連續(xù)，孔率要小。 鍍層要求項目 ? (uniformity)， 是指電鍍浴能使鍍件表面沈積均勻厚度的鍍層之能力。好的均一性可在凹處難鍍到地方亦能鍍上，對美觀、耐腐蝕性很重要。試驗鍍浴之均一性有 Haring電解槽試驗法、陰極彎曲試驗法、 Hull槽試驗法。 ? (appearence)， 鍍件要具有美感，必須無斑點，氣脹缺陷，表面需保持光澤、光滑。可應(yīng)用操作條件或光澤劑改良光澤度及粗糙度，也有由後處理之磨光加工達(dá)到鍍件物品之美觀提高產(chǎn)品附加價值。 鍍層要求項目 ? (stress)， 鍍層形成過程會殘留應(yīng)力，會引起鍍層裂開或剝離，應(yīng)力形成的原因有： (1)晶體生長不正常， (2)雜質(zhì)混入， (3)前處理使基材表面變質(zhì)妨磚結(jié)晶生長。 ? 、化學(xué)機(jī)械特性 如硬度、延性、強(qiáng)度、導(dǎo)電性、傳熱性、反射性、耐腐蝕性、顏色等。 電鍍有關(guān)之計算 ? 法拉第定律 (Faraday39。s Law) ? 例 1計算以 5安培電流經(jīng)過 5小時，銅沈積重量，其電流放率為 100％ ? 沉積重量 =(原子量 /(原子價 *96500))*(電流 *時間 *電流效應(yīng) ) ? W=(A/(n*96500))*(I*T*CE) =((2*96500))*(5*5*60*60*100%)=(g) ? ∴ 可沉積 ? 例 2要在 10分鐘鍍 NiSO 鍍浴需多大電流？ ? 電流效率 100％。 ? I=( (n*96500)/(A))*((W)/(t*CE)) ? =((2*96500)/())*(()/(10*60*100%))= ? ∴ 需電流
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