20xx屆湘豫名校高三下學(xué)期4月聯(lián)考理科綜合物理試題(含解析)-資料下載頁(yè)
2025-04-05 05:17本頁(yè)面
【正文】 _____；封閉氣體的內(nèi)能變化量為_(kāi)_____________。(2)(10分)如圖28所示為某社區(qū)在今年防治新冠疫情中用于噴灑消毒液的噴霧器,由三部分構(gòu)成,左側(cè)噴霧閥門(mén)連接手持式噴霧管,中間為貯液桶,右側(cè)為用軟細(xì)管(不計(jì)體積)相連的打氣筒。已知貯液桶的體積為V0,裝入V1=V0的藥液后,密封加水口,關(guān)閉噴霧閥門(mén)。用打氣筒向貯液桶內(nèi)再壓入壓強(qiáng)為1 atm,體積為V=V0的空氣。設(shè)大氣壓強(qiáng)恒為p0=1 atm,打氣過(guò)程中貯液桶內(nèi)氣體溫度保持不變。藥液的密度為ρ,其摩爾質(zhì)量為M。阿伏加德羅常數(shù)為NA,求:(空氣可視為理想氣體,不考慮空氣溶于液體)(i)壓入空氣后貯液桶內(nèi)藥液上方的氣體壓強(qiáng)。(ii)若打開(kāi)噴霧頭閥門(mén)至貯液桶內(nèi)氣壓變?yōu)閜1=,貯液桶向外噴出藥液的分子數(shù)N。34. [物理:選修3 4](15分)(1)(5分)前不久，中科院光電技術(shù)研究所宣布,其承擔(dān)的國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過(guò)驗(yàn)收。這是世界上首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)了22 納米分辨率的光刻機(jī)。光刻機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路(芯片)的核心設(shè)備, 光刻機(jī)的曝光波長(zhǎng)越短,分辨率越高?！敖](méi)式光刻”是一種通過(guò)在光刻膠和投影物鏡之間加入浸沒(méi)液體,從而減小曝光波長(zhǎng)提高分辨率的技術(shù)。如圖29所示,當(dāng)不加液體時(shí)光刻膠的曝光波長(zhǎng)為189nm,光刻膠的曝光波長(zhǎng)變?yōu)開(kāi)_____nm(光在在真空中的傳播速度c=3. 0108 m/s)(計(jì)算結(jié)果保留三位有效數(shù)字)。(2)(10分)一列簡(jiǎn)諧橫波沿x軸傳播,圖30中實(shí)線(xiàn)為t= 0時(shí)刻的波形圖,圖中虛線(xiàn)為t= s時(shí)刻的波形圖。t= s時(shí)刻,平衡位置在x=5 m處的質(zhì)點(diǎn)正沿y軸正向振動(dòng),從t=0時(shí)刻到t= s時(shí)刻這段時(shí)間內(nèi)，該質(zhì)點(diǎn)運(yùn)動(dòng)路程s滿(mǎn)足10 cms20 cm,求:(i)波傳播的方向及傳播速度的大小。(ii)平衡位置在x=1m處質(zhì)點(diǎn)的振動(dòng)方程及該質(zhì)點(diǎn)從t=。
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