晶體硅太陽電池制絨工藝解讀(編輯修改稿)
2025-03-13 12:32 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 清洗后不能在空氣中暴露12秒以上。 南安市三晶陽光電力有限公司 ? 硅片單面腐蝕厚度（腐蝕量） ? 反射率 ? 金字塔大小 ? 白斑、雨點(diǎn) ? 劃傷、劃痕 ? 花籃印 ? 外觀均勻性 南安市三晶陽光電力有限公司 單晶工藝控制方法 南安市三晶陽光電力有限公司 ?在制絨過程中有三個(gè)變量需要控制： ?IPA濃度 ?KOH or NaOH 濃度 ?硅酸鹽濃度 ?其他需要控制的因素： ?溫度（高低和均勻性） ?時(shí)間 ?水流（攪動(dòng)或鼓泡） ?要控制的結(jié)果： ?金字塔的大小 ?金字塔的鋪滿程度 ?表面的花片 怎樣才是“好”的金字塔 南安市三晶陽光電力有限公司 關(guān)鍵：降低硅片表面及溶液的界面能 三個(gè)方面實(shí)現(xiàn)： ?對(duì)來料檢驗(yàn)較差的硅片表面進(jìn)行預(yù)處理，如粗拋液、清洗劑或強(qiáng)氧化劑。 ?提高硅片表面的浸潤能力，如增加 IPA濃度或把硅片進(jìn)行酸或堿的腐蝕。 ?減少溶液的張力，如絨面添加劑。添加劑有很多極性或非極性的功能團(tuán)來降低腐蝕液表面的張力。 ? 硅片厚度（腐蝕量、腐蝕速率） ? 蟲孔長寬比 ? 亮斑 ? 暗紋 ? 表面平整度 ? 表面潔凈度（棕黃色斑跡） 南安市三晶陽光電力有限公司 多晶工藝控制參數(shù) 南安市三晶陽光電力有限公司 多晶工藝控制方法 南安市三晶陽光電力有限公司 鹽酸清洗的作用 中和殘留在硅片表面的堿液 去除在硅片切割時(shí)表面引入的金屬雜質(zhì) 注： 鹽酸具有酸和絡(luò)合劑的雙重作用，氯離子能與 Fe3+、Pt2+、 Au3+、 Ag+、 Cu+、 Cd2+、 Hg2+等金屬離子形成可溶于水的絡(luò)合物 南安市三晶陽光電力有限公司 氫氟酸清洗的作用 去除在清洗過程中表面形成 SiO2層 氫氟酸是良好的脫水劑，起到預(yù)脫水的作用 ? ? OH2SiFHHF6 2622 ???南安市三晶陽光電力有限公司 絨 設(shè)備開關(guān)機(jī)注意事項(xiàng) 開機(jī)流程 先在制絨設(shè)備電柜中打開 24V轉(zhuǎn)換電源開關(guān)和控制電源，然后打開各需要打開的加熱器及 6個(gè)機(jī)械臂驅(qū)動(dòng)電源，最后打開 PLC控制開關(guān)。 開機(jī)注意事項(xiàng) 檢查制絨設(shè)備的所有急停按鈕是否都在斷開狀態(tài)； 開機(jī)后觀察 PLC面板上是否有報(bào)警信息； 檢查純水的電阻率，大于 。 南安市三晶陽光電力有限公司 先將自動(dòng)開關(guān)變?yōu)槭謩?dòng)狀態(tài)，然后在制絨設(shè)備電柜中關(guān)閉 PLC控制開關(guān)，再關(guān)閉 24V轉(zhuǎn)換電源開關(guān)和控制電源，然后關(guān)閉各個(gè)加熱器和機(jī)械臂驅(qū)動(dòng)電源。 關(guān)機(jī)注意事項(xiàng) 由自動(dòng)變?yōu)槭謩?dòng)的時(shí)候，一定要注意機(jī)械臂運(yùn)行情況，是否在操作，必須要自動(dòng)運(yùn)行 狀態(tài) 改為待機(jī)后再由待機(jī)改為手動(dòng) 狀態(tài) ，并且機(jī)械臂上沒有花籃才可以關(guān)機(jī)； 關(guān)機(jī)前要求所有的槽體都用水槍清洗一遍； 關(guān)機(jī)后也要注意將加藥的天平、稱片天平和顯微鏡的電源關(guān)閉。 南安市三晶陽光電力有限公司 絨面不良分析 表面污點(diǎn)（包括手指印、殘留物 IPA/NaOH/NaSiO外來雜質(zhì)、花籃印、
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