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正文內(nèi)容

晶體硅太陽電池制絨工藝解讀(編輯修改稿)

2025-03-13 12:32 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 清洗后不能在空氣中暴露12秒以上。 南安市三晶陽光電力有限公司 ? 硅片單面腐蝕厚度(腐蝕量) ? 反射率 ? 金字塔大小 ? 白斑、雨點 ? 劃傷、劃痕 ? 花籃印 ? 外觀均勻性 南安市三晶陽光電力有限公司 單晶工藝控制方法 南安市三晶陽光電力有限公司 ?在制絨過程中有三個變量需要控制: ?IPA濃度 ?KOH or NaOH 濃度 ?硅酸鹽濃度 ?其他需要控制的因素: ?溫度(高低和均勻性) ?時間 ?水流(攪動或鼓泡) ?要控制的結(jié)果: ?金字塔的大小 ?金字塔的鋪滿程度 ?表面的花片 怎樣才是“好”的金字塔 南安市三晶陽光電力有限公司 關(guān)鍵:降低硅片表面及溶液的界面能 三個方面實現(xiàn): ?對來料檢驗較差的硅片表面進行預處理,如粗拋液、清洗劑或強氧化劑。 ?提高硅片表面的浸潤能力,如增加 IPA濃度或把硅片進行酸或堿的腐蝕。 ?減少溶液的張力,如絨面添加劑。添加劑有很多極性或非極性的功能團來降低腐蝕液表面的張力。 ? 硅片厚度(腐蝕量、腐蝕速率) ? 蟲孔長寬比 ? 亮斑 ? 暗紋 ? 表面平整度 ? 表面潔凈度(棕黃色斑跡) 南安市三晶陽光電力有限公司 多晶工藝控制參數(shù) 南安市三晶陽光電力有限公司 多晶工藝控制方法 南安市三晶陽光電力有限公司 鹽酸清洗的作用 中和殘留在硅片表面的堿液 去除在硅片切割時表面引入的金屬雜質(zhì) 注: 鹽酸具有酸和絡(luò)合劑的雙重作用,氯離子能與 Fe3+、Pt2+、 Au3+、 Ag+、 Cu+、 Cd2+、 Hg2+等金屬離子形成可溶于水的絡(luò)合物 南安市三晶陽光電力有限公司 氫氟酸清洗的作用 去除在清洗過程中表面形成 SiO2層 氫氟酸是良好的脫水劑,起到預脫水的作用 ? ? OH2SiFHHF6 2622 ???南安市三晶陽光電力有限公司 絨 設(shè)備開關(guān)機注意事項 開機流程 先在制絨設(shè)備電柜中打開 24V轉(zhuǎn)換電源開關(guān)和控制電源,然后打開各需要打開的加熱器及 6個機械臂驅(qū)動電源,最后打開 PLC控制開關(guān)。 開機注意事項 檢查制絨設(shè)備的所有急停按鈕是否都在斷開狀態(tài); 開機后觀察 PLC面板上是否有報警信息; 檢查純水的電阻率,大于 。 南安市三晶陽光電力有限公司 先將自動開關(guān)變?yōu)槭謩訝顟B(tài),然后在制絨設(shè)備電柜中關(guān)閉 PLC控制開關(guān),再關(guān)閉 24V轉(zhuǎn)換電源開關(guān)和控制電源,然后關(guān)閉各個加熱器和機械臂驅(qū)動電源。 關(guān)機注意事項 由自動變?yōu)槭謩拥臅r候,一定要注意機械臂運行情況,是否在操作,必須要自動運行 狀態(tài) 改為待機后再由待機改為手動 狀態(tài) ,并且機械臂上沒有花籃才可以關(guān)機; 關(guān)機前要求所有的槽體都用水槍清洗一遍; 關(guān)機后也要注意將加藥的天平、稱片天平和顯微鏡的電源關(guān)閉。 南安市三晶陽光電力有限公司 絨面不良分析 表面污點(包括手指印、殘留物 IPA/NaOH/NaSiO外來雜質(zhì)、花籃印、
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