傳感器的加工工藝(編輯修改稿)
2025-03-04 16:26 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 ）膜 。 化學(xué)氣相沉積 ? 化學(xué)氣相沉積 ( Chemical Vapor Deposition， 簡稱 CVD)技術(shù)是利用氣態(tài)物質(zhì)在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng) ， 生成固態(tài)沉積物的工藝過程 。 ? 它一般包括三個(gè)步驟 : ① 產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)； ② 將揮發(fā)性物質(zhì)輸運(yùn) 到沉積區(qū)； ③ 于基體上發(fā)生化 學(xué)反應(yīng)而固態(tài)產(chǎn)物 。 立式 CVD裝置圖 真空蒸鍍 ? 真空蒸鍍是在高真空環(huán)境中，將蒸發(fā)材料加熱至蒸發(fā)溫度蒸發(fā)后而冷凝在要鍍膜的基體上的過程。 ? 大型蒸鍍?cè)O(shè)備主要由鍍膜室、工作架、真空系統(tǒng)、電器控制四部分組成。 真空蒸鍍?cè)?示意圖 濺射成膜工藝 ? 濺射法是利用帶有電荷的離子在電場中加速后具有一定動(dòng)能的特點(diǎn)，將離子引向欲被濺射的物質(zhì)做成的靶電極。在離子能量合適的情況下，入射離子在靶表面原子碰撞過程中將后者濺射出來。這些被濺射出來的原子帶有一定的動(dòng)能，并且會(huì)沿著一定的方向射向襯底，實(shí)現(xiàn)薄膜的沉積。 ? 濺射方式有射頻濺射、直流濺射和反應(yīng)濺射等多種，其中射頻濺射應(yīng)用廣泛。 濺射成膜工藝 射頻磁控濺射原理示意圖 光刻技術(shù) ? 集成電路制造中利用光學(xué) 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。 ? 首先要在硅片上涂上一層耐腐蝕的光刻膠，隨后讓強(qiáng)光通過一塊刻有電路圖案的鏤空掩模板（ MASK）照射在硅片上。被
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