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正文內(nèi)容

淺談總有機(jī)碳toc測(cè)試(編輯修改稿)

2025-02-05 20:03 本頁(yè)面
 

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 差減法 TOC=TC- IC 即測(cè)出總碳與無機(jī)碳,總有機(jī)碳就是二者的差值 檢測(cè)方法 直接法 TOC=POC+NPOC 即測(cè)出樣品中易氣洗有機(jī)碳( POC)與難氣洗有機(jī)碳( NPOC) 五、制藥用水 TOC分析技術(shù) ? 燃燒氧化 高溫爐絲 空氣 /O2+ 鉑 (Pt) 催化劑 ﹐ 在 680950 oC 優(yōu)點(diǎn) ? 氧化效率高 ? 能氧化顆粒 ? 可測(cè)極限高 缺點(diǎn) ?催化劑會(huì)中毒 ﹐ 必須替換 ?必須使用試劑 ﹑ 載氣和酸 ?空白污染 ?不可測(cè)低 TOC的樣品 五、制藥用水 TOC分析技術(shù) H2O + hn (185 nm, TiO2) ? OH + H H2O+hn( 185nm)?OH + H OH +有機(jī)物 ? CO2+H2O S2O82+hn ( 185nm) ? 2SO4 SO4+H2O? HSO4+ OH 紫外氧化 紫外氧化 +二氧化鈦 紫外氧化 +過硫酸鹽 五、制藥用水 TOC分析技術(shù) ? 紫外氧化 優(yōu)點(diǎn) ?無試劑 ?無催化劑中毒 ?保養(yǎng)簡(jiǎn)單 ?適用于半導(dǎo)體工業(yè)和 USP制藥用水 缺點(diǎn) ? 對(duì)較高濃度的 TOC氧化能力不足 ( ppm TOC) ? 對(duì)顆粒物氧化會(huì)不完全 ? 需更換燈管 五、制藥用水 TOC分析技術(shù) ? 紫外線加二氧化鈦氧化 優(yōu)點(diǎn) ? 無試劑 ? 無催化劑中毒 ? 保養(yǎng)簡(jiǎn)單 ? 適用于半導(dǎo)體工業(yè)和 USP制藥用水 缺點(diǎn) ?對(duì)較高濃度的 TOC氧化能力不足 (5 ppm TOC) ?對(duì)顆粒物氧化會(huì)不完全 ?需更換燈管 五、制藥用水 TOC分析技術(shù) ? 紫外線加過硫酸鹽氧化 優(yōu)點(diǎn) ?氧化效率提高 ?無催化劑中毒 ?保養(yǎng)簡(jiǎn)單 ?適用于半導(dǎo)體工業(yè)和 USP制藥用水 缺點(diǎn) ? 添加化學(xué)試劑 ? 對(duì)顆粒物氧化會(huì)不完全 ? 需更換燈管 五、制藥用水 TOC分析技術(shù) 1 非色散紅外探測(cè) ( NDIR) 2 直接電導(dǎo)率探測(cè) ( DC) 3 薄膜電導(dǎo)率探測(cè) ( MC) CO2 檢測(cè)技術(shù) 五、制藥用水 TOC分析技
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