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正文內(nèi)容

基因芯片技術(shù)簡介(編輯修改稿)

2025-01-23 13:35 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 基的制作即告結(jié)束。該方法有兩類:光引導(dǎo)原位聚合技術(shù)與壓電打印原位聚合技術(shù)。 光引導(dǎo)原位聚合技術(shù) 的簡要過程為:首先使支持物羥基化,并用光敏保護(hù)基團(tuán)將其保護(hù)起來,選取擇適當(dāng)?shù)谋喂饽ぃ?mask)使需要聚合的部位透光,其它部們不透光。這樣,光通過蔽光膜照射到支持物上,受光部位的羥基解保護(hù),進(jìn)而與單體分子共價結(jié)合。因為合成所用的單體分子一端按傳統(tǒng)固相合成方法活化,另一端受光敏保護(hù)基的保護(hù),所以發(fā)生偶聯(lián)的部位反應(yīng)后仍舊帶有光敏保護(hù)基團(tuán)。因此,每次通過控制蔽光膜的圖案(透光與不透光)決定哪些區(qū)域應(yīng)被活化,以及所用單體的種類和反應(yīng)次序就可以實現(xiàn)在待定位點合成大量預(yù)定序列寡聚體的目的。 優(yōu)點: 合成效率高,點陣密度高 缺點: 設(shè)備昂貴,技術(shù)復(fù)雜,反應(yīng)產(chǎn)率低 壓電打印原位聚合技術(shù) 其裝置與普通的彩色噴墨打印機(jī)并無兩樣,所用技術(shù)也是常規(guī)的固相合成方法。即,將墨盒中的墨汁分別用四種堿基合成試劑替代,支持物經(jīng)過包被后,通過計算機(jī)控制噴墨打印機(jī)將特定種類的試劑噴灑到預(yù)定的區(qū)域上。沖洗、去保護(hù)、偶聯(lián)等則同于一般的固相原位合成技術(shù)。如此類推,可以合成出長度為 40到 50
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