某電子公司ppt制作流程培訓(xùn)講義(編輯修改稿)
2025-01-21 00:37 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 點(diǎn)： 1，為了防止貼膜時出現(xiàn)斷線現(xiàn)象，須先用無塵紙除去銅箔表面雜質(zhì)。 2，應(yīng)根據(jù)不同板材設(shè)置加熱滾輪的溫度，壓力，轉(zhuǎn)數(shù)等參數(shù)。 3，保證銅箔的方向孔在同一方位。 4，防止氧化，不要直接接觸銅箔表面，如果要氧化現(xiàn)象要用纖維刷刷掉氧化層。 5，加熱滾輪上不應(yīng)該有傷痕，以防止產(chǎn)生皺折和附著性不良。 6，貼膜后留置 15min3天，然后再去露光，時間太短會使干膜受 UV光照射，發(fā)生的有機(jī)聚合反應(yīng)未完全，太長則不容易被水解，發(fā)生殘留導(dǎo)致鍍層不良。 7，經(jīng)常用無塵紙擦去加熱滾輪上的雜質(zhì)和溢膠。 8，要保證貼膜的良好附著性。品質(zhì)確認(rèn)： 1，附著性：貼膜后以日立測試底片做測試，經(jīng)曝光顯影后線路不可彎曲變形或斷等（以放大鏡檢測） 2，平整性：須平整，不可有皺折，氣泡。 3，清潔性：每張不得有超過 5點(diǎn)之雜質(zhì)。Clear 明確 ? Change 變革 ? Challenge 挑戰(zhàn) ?Create 創(chuàng) 新 ? Credit 誠 信We make the world flexible.Mylar薄膜干膜銅箔膠保護(hù)膜 溫度 110+/5% 壓力 3035PSI 速度 1mil 注意事項(xiàng)及參數(shù)的控制常見干膜規(guī)格 : 貼干膜 // ExposureClear 明確 ? Change 變革 ? Challenge 挑戰(zhàn) ?Create 創(chuàng) 新 ? Credit 誠 信We make the world flexible.明確 變革 挑戰(zhàn) 創(chuàng) 新 誠 信利用干膜的特性（僅接受固定能量的波長 )將產(chǎn)品需求規(guī)格制作經(jīng)由照像曝光原理達(dá)到影像轉(zhuǎn)移的效果。目的：常見干膜： 日立干膜杜邦干膜常見缺陷：針眼、短路、開路、線路變粗、線路變細(xì)等 曝光Clear 明確 ? Change 變革 ? Challenge 挑戰(zhàn) ?Create 創(chuàng) 新 ? Credit 誠 信We make the world flexible.明確 變革 挑戰(zhàn) 創(chuàng) 新 誠 信 曝光品質(zhì)確認(rèn)： 1，準(zhǔn)確性： + （不可孔破為原則） （不可孔破為原則） ：不可有底片因素之固定斷線，針孔或短路現(xiàn)象。底片的規(guī)格，露光機(jī)的曝光能量，底片與干膜的緊貼度都會影響線路的精密度。*進(jìn)行抽真空目的 ：提高底片與干膜接觸的緊密度減少散光現(xiàn)象。*曝光能量的高低對品質(zhì)也有影響 ： 1，能量低，曝光不足，顯像后阻劑太軟，色澤灰暗，蝕刻時阻劑破壞或浮起，造成線路的斷路。 ，則會造成曝光過度，則線路會縮細(xì)或曝光區(qū)易洗掉。Clear 明確 ? Change 變革 ? Challenge 挑戰(zhàn) ?Create 創(chuàng) 新 ? Credit 誠 信We make the world flexible.顯像即是將已經(jīng)暴過光的帶干膜的板材，經(jīng)過顯影液的處理，將未受 UV光照射的干膜洗去而保留受到 UV光照射發(fā)生聚合反應(yīng)的干膜使線路基 本成型。 濃度 溫度 速度Na2CO3目的 :注意事項(xiàng)：常用藥液： 顯影 // DevelopingClear 明確 ? Change 變革 ? Challenge 挑戰(zhàn) ?Create 創(chuàng) 新 ? Credit 誠 信We make the world flexible.以蝕刻液來咬蝕未被干膜覆蓋的裸銅，使不需要的銅層被除去，僅留下必需的線路。目的：注意事項(xiàng)： (依據(jù)藥液濃度 )4﹕ 蝕刻藥水有無在要求范圍內(nèi)。 蝕刻藥液的主要成分：氯化銅，雙氧水，鹽酸，軟水（溶度有嚴(yán)格要求）常見缺陷蝕刻不足、 (形成梯型銅 )、蝕刻過量、開路、短路、缺損、線寬、線距不準(zhǔn)等。 蝕刻 // EtchClear 明確 ? Change 變革 ? Challenge 挑戰(zhàn) ?Create 創(chuàng) 新 ? Credit 誠 信We make the world flexible.以 NaOH將留在線路上之干膜完全去除，線路即成型 速度 (根據(jù)容液的濃度 )；溫度 檢查去膜是否干凈 ,有無殘留并量線寬線距目的注意事項(xiàng) :已蝕刻已去膜 去膜 // StripClear 明確 ? Change 變革 ? Challenge 挑戰(zhàn) ?Cre
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1