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正文內(nèi)容

kdf的來源和用途(編輯修改稿)

2024-09-12 23:35 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 以僅靠氧化還原電位的變化并不能完全控制微生物。    氫氧根離子和過氧化氫   美國印第安納州南本德圣母大學(xué)在研究KDF處理介質(zhì)降低水中鐵離子濃度時發(fā)現(xiàn),在KDF將二價鐵氧化到三價鐵的過程中會產(chǎn)生氫氧根離子和過氧化氫,這就可以抑制那些在低氧化電位時尚能存活,但對氫氧根離子和過氧化氫敏感的微生物,但是氫氧根離子和過氧化氫的壽命短,只是在過濾過程中具有高的反應(yīng)活性,對微生物的抑制效果比較明顯,在流出水中的殘余效應(yīng)比較小。    鋅離子對微生物的控制   KDF處理介質(zhì)中釋放出來的鋅對微生物有明顯的控制作用,鋅能阻止酶的合成,從而影響有機體的正常生長,達到抑制微生物繁殖的目的。   另外,KDF55介質(zhì)通過阻止葉綠素合成而控制藻類生長,鋅離子的存在從本質(zhì)上降低了有機體從光合作用生產(chǎn)食物的能力,細菌種群的食物和能量來源是依靠藻類群落,藻類的減少將顯著影響細菌的生長。    重金屬的去除   KDF處理介質(zhì)可以去除水中的重金屬離子,如鉛、汞、銅、鎳、鎘、砷、銻、鋁和其他許多可溶性重金屬離子,它們的去除是通過電化學(xué)氧化還原反應(yīng)和催化作用完成的。   KDF55去除重金屬離子的機理如下:金屬離子鍍覆于KDF處理介質(zhì)的表面或進入KDF晶格中,從而使有毒重金屬污染物結(jié)合在KDF上。例如,水中溶解的鉛離子還原成不溶性的鉛原子,并鍍覆于KDF介質(zhì)的表面; X射線衍射研究發(fā)現(xiàn)汞的去除是形成了銅—汞合金。   KDF處理重金屬離子的化學(xué)反應(yīng)式如下:   Zn/Cu/Zn+Pb(NO3)2 Zn/Cu/Pb + Zn(NO3)2   Zn/Cu/Zn+HgCl2 Zn/Cu/Hg+ ZnCl2   金屬離子在水的pH升高時水解形成金屬氫氧化物沉淀,也能去除金屬離子。    去除硫化氫   在應(yīng)用膜法進行水處理時,如果選用地下水作水源,水中可能存在硫化氫,硫化氫如被氧化成硫磺就會污染膜表面,KDF55過濾介質(zhì)有去除硫化氫的功能,生成的硫化銅不溶于水,可在KDF55介質(zhì)反沖洗時去除,化學(xué)反應(yīng)式如下:   Cu/Zn+H2S Cu/Zn+CuS+H2   2H2+O2 2H2O   4.KDF55處理介質(zhì)的使用方法及壽命    使用反沖洗裝置   在大多數(shù)以電化學(xué)氧化還原過程為基礎(chǔ)的水中會形成少量的氧化物,隨之而產(chǎn)生的鈣/鎂沉淀物必須定時清除。選擇知名廠家生產(chǎn)的3步循環(huán)反沖控制閥、采用高流量反沖裝置,可以除去任何滯留在KDF表面的污物,反沖流速應(yīng)是正常使用流速的2倍。反沖洗時間為10分鐘,然后凈化漂洗3分鐘。每周至少進行兩次反沖,如必要時可適當(dāng)增加,但每次反沖時間不宜超過10分鐘。反沖流速受反沖水溫、介質(zhì)的類型、顆粒尺寸、介質(zhì)密度等因素的影響。   KDF55處理介質(zhì)堆積密度為171磅/立方英尺()。這樣高密度介質(zhì)反沖水流速要達到正常用水流速的2倍,需39gpm/平方英尺()的回流速率。如水溫比較低可采用稍低的反沖速度。溫度稍高的水用較高的水流速度反沖。如果由于泵及管子的尺寸限制使反沖水流速率達不到正常流速的2倍,應(yīng)使用2個KDF55反應(yīng)床。依次類推,當(dāng)KDF反應(yīng)床足夠多時,反沖也可使用正常的水流速度來完成。(計算略)   推薦的操作條件(用3步循環(huán)反沖控制閥)   正常水流流速(10床深) 15gpm/平方英尺(57升/分鐘)   反沖10分鐘 速率:正常水流流速的2倍   凈化/漂洗3分鐘 速率; 正常水流流速的2倍   介質(zhì)床擴
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