鍍膜膜料名稱總匯(編輯修改稿)
2024-09-01 17:58 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 舟 增透,加硬膜 眼鏡膜 少,MGF2 (MGF2)2 制程特性:折射率穩(wěn)定,真空度和速率對其變化影響小 預(yù)熔不充分或蒸發(fā)電流過大易產(chǎn)生飛濺,造成鏡片木, 白色顆粒狀,常用于抗反射膜,. 三氧化二鋁 名稱:三氧化二鋁(AL2O3) 普遍用于中間材料,該材料有很好的堆積密度并且在2007000NM區(qū)域的透明帶,該制程是否需要加氧氣以試驗分析來確定,提高基板溫度可提高其折射率,在鍍膜程式不可理更改情況下,以調(diào)整蒸發(fā)速率和真空度來提高其折射率. 透光范圍(nm) 折射率(N) 550nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量 2007000 2050 電子槍, 增透,保護(hù)膜 眼鏡膜 一般,AL,O, O2,ALO,AL2O,(ALO)2 制程特性:白色顆粒狀或塊狀,結(jié)晶顆粒狀等. 非結(jié)晶狀材料雜氣排放量高,結(jié)晶狀材料相對較少. 折射率受蒸著真空度和蒸發(fā)速率影響較大,真空不好即速率低則膜折射率變低。真空度好蒸發(fā)速率較快時,膜折射率相對增大, AL2O3蒸發(fā)時會產(chǎn)生少量的AL分子造成膜吸收現(xiàn)象,加入適當(dāng)?shù)腛2時,. 名稱:OS10(TIO2+ZrO2) 透光范圍(nm) 折射率(N) 550nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量 2507000 2050 電子槍, 增透,濾光片,截止膜 一般, 制程特性:棕褐色顆粒狀. 雜氣排放較大,預(yù)熔不充分或真空度小于5*105Torr時蒸發(fā),材料可添加重復(fù)使用,為減少雜氣排放量,盡量避免全數(shù)使用新材料. 蒸氣中的TI和TIO和O2反應(yīng)生成TIO2 常用于制備抗反射膜和SIO2疊加制備各種規(guī)格的截止膜系和濾光片等. 鍺 名稱:鍺(Ge) 稀有金屬,無毒無放射性,主要用于半導(dǎo)體工業(yè),塑料工業(yè),紅外光學(xué)器件,航天工業(yè),n=4甚至更大,937（℃）時熔化并且在電子槍中形成一種液體,然后在1400（℃）,如果容室溫度太高吸收將有重大變化,在240280（℃）范圍內(nèi),在從非晶體到晶體轉(zhuǎn)變的過程中GE有一個臨界點. 鍺化鋅 名稱:鍺化鋅(ZnGe) 疏散的鍺化鋅具有一個比其相對較高的折射率,在500NM時N=,℃的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長波長IR漸低折射率的光學(xué)濾鏡. 氧化鉿 名稱:氧化鉿(HfO2) 在150℃的基板上有用電子槍蒸著,在800012000NM區(qū)HFO2用作鋁保護(hù)膜外層好過SIO2 透光范圍(nm) 折射率(N) 550nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量 2307000 2350 電子槍, 增透,高反膜 紫外膜 少 無色圓盤狀或灰色顆粒狀和片狀. 碲化鉛 名稱:碲化鉛（PbTe） 是一種具有高折射率的IR材料，作為薄膜材料在380040000NM是透明的，在紅外區(qū)N=，該材料升華,基板板溫度250℃是有益的,健康預(yù)防是必要的,在高達(dá)40000NM時使用效果很好,別的材料常常用在超過普通的14000NM紅外線邊緣. 鋁氟化物 名稱:鋁氟化物（ALF3） 可以在鉬中升華， 在1901000NM區(qū)域有透過性，N=,有些人聲稱已用在EXIMER激光鏡,它無吸收性,是NaALF4的一個組成部分,且多年來一直在使用,但是在未加以保護(hù)層時其耐久性還未為人知. 鈰(Ce)氟化物 名稱:鈰(Ce)氟化物 Hass等人研究GeF3，他們使用高密度的鎢舟蒸發(fā)發(fā)現(xiàn)在500NM時N=,并且機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度令人滿意,他們指出在234NM和248NM的吸收最大,他指出該材料的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度都令人滿意. 透光范圍(nm) 折射率(N) 500nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量 3005000 約1500 電子槍, 鉬鉭鎢舟 增透, 眼鏡 少 氟化鈣 名稱:氟化鈣(CaF2) CaF2是Heavens提出來的?？墒撬f最終的膜層不那么令人滿意，,在紅外線中其穿透性超過12000nm,它沒有完全的致密性似乎是目前其利用受到限制的原因,隨著IAD蒸著
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