膜的制備與應(yīng)用(編輯修改稿)
2025-09-01 15:50 本頁面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 并成功地制備了 Al2O3膜，繼而美國(guó)、法國(guó) 、日本開始此項(xiàng)技術(shù)研究。 SolGel法從技術(shù)上又可細(xì)分為分子聚合發(fā)（ Polymerization of Molecular Units, PMU）和膠溶法（ Destabilization of Colliod Solutions， DCS） 薄膜沉積法（ ThinFilm Deposition） ? 薄膜沉積法借鑒傳統(tǒng)物理鍍膜方法，如在無線電材料中的 SiO2單晶膜。以多孔質(zhì)過渡金屬或其合金，可利用沉積技術(shù)，如濺射（ Sputtering） ,離子鍍（ Ion Plating），金屬鍍（ Metal Plating）或化學(xué)氣相沉積（ CVD）等方法制得多孔質(zhì)陶瓷膜及玻璃膜。一般來說， CVD等方法只適合與制頂層功能分離膜，不適合制基質(zhì)膜。 無機(jī)膜的主要應(yīng)用 ? 液相分離（ Liquid Phase Separation） ? 氣體分離（ Gas Separation） ? 膜反應(yīng)器（ Membrane Reactor） ? 功能器件（ Function Devices FD） ? 其他 液相分離（ Liquid Phase Separati
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