【文章內(nèi)容簡介】 因而具有良好的抗腐蝕性能。滲氮的優(yōu)點：模具變形小，適用于精度要求較高的模具。鋼件滲氮后一般不進行熱處理，為了提高鋼件心部的強韌性，滲氮前必須進行調(diào)質(zhì)處理。滲硼是：將工件置于能產(chǎn)生活性硼的介質(zhì)中，經(jīng)過加熱、保溫，使硼原子滲入工件表面形成硼化物層的過程。熱噴涂：是利用一種熱源，如電弧、離子弧或燃燒的火焰等將粉末狀或絲狀的金屬或非金屬噴涂材料加熱到熔化或半熔化狀態(tài)，并用熱源自身的動力或外加高速氣流霧化，使噴涂材料的熔滴以一定的速度噴向經(jīng)過預處理干凈的基體表面，依靠噴涂材料的物理變化和化學反應，與基體形成結合層的工藝方法。按熱源的種類可將噴涂分為火焰噴涂、電弧噴涂、等離子噴涂和激光噴涂四種基本方法。噴涂材料主要有絲狀材料和粉末材料。按照加熱和涂層結合方式分類，熱噴涂又可分為噴涂和噴熔兩種。熱噴涂技術的特點：①噴涂材料廣泛，所獲得的涂層性能也非常廣泛。②適用于各種基體材料的零件，各種金屬和非金屬零件的表面都可以熱噴涂。③操作程序少，速度快，生產(chǎn)效率高。④被噴涂零件的尺寸范圍較寬。⑤基材變形小，除噴熔外，熱噴涂是一種冷工藝。⑥可賦予普通材料以特殊的表面性能。⑦成本低，經(jīng)濟效益顯著?；鹧鎳娡浚菏抢萌細饧爸細怏w混合燃燒作為熱源，噴涂材料則以一定的傳送方法進入火焰，加熱到熔融或軟化狀態(tài)，然后依靠氣體或火焰加速噴射到基體上。根據(jù)噴涂材料不同，可分為絲材火焰噴涂和粉末火焰噴涂兩種。等離子噴涂：是以氮氣、惰性氣體如氬氣作為工作介質(zhì)，在專用的噴槍內(nèi)發(fā)生電離形成熱等離子體，再將進入該等離子弧區(qū)的粉末狀涂層材料熔融、霧化，并告訴噴送到被涂工件表面，形成涂層。工業(yè)上使用的風離子噴涂設備由噴槍、電源、送粉器、控制裝置和熱交換器等組成。電鍍技術：是一種用點化學方法在基體（金屬或非金屬）表面沉積金屬或金屬化處理的技術。電鍍的目的是改善材料的外觀，提高材料的各種物理化學性能，賦予材料表面特殊的耐蝕性、耐磨性、裝飾性、焊接性及電、磁、光學性能等。鍍層的種類按使用性能可分為：①防護性鍍層②防護裝飾性鍍層③裝飾性鍍層④耐磨和減磨鍍層⑤電性能鍍層⑥磁性能鍍層⑦可焊性鍍層⑧耐熱鍍層⑨修復用鍍層。按鍍層與基體金屬之間的電化學性質(zhì)分類，可分為陽極性鍍層和陰極性鍍層。按鍍層的組合形式分為單層鍍層和多層金屬鍍層。電鍍：是指在交流電的作用下，電解液中的金屬原子還原，并沉積到零件表面形成有一定性能的金屬鍍層的過程。電解液主要是水溶液，也有有機溶液和熔融鹽。合金鍍層：兩種或兩種以上的元素共沉積所形成的鍍層被稱為合金鍍層。電鍍合金與熱冶金相比有如下特點：①容易獲得高熔點與低熔點金屬組成的合金②可獲得熱熔相圖沒有的合金③容易獲得組織致密、性能優(yōu)異的非晶態(tài)合金④在相同合金成分下，電鍍合金比熱熔合金的硬度高、延展性差。合金鍍層與單金屬鍍層相比有如下特點：①合金鍍層結晶更細致，鍍層更平整、光亮。②可以獲得非晶結構鍍層。③合金鍍層具有單金屬所沒有的特殊物理性能。④合金的曾可具備比組成它們的單金屬更耐磨、耐蝕，更耐高溫，并有更高硬度和強度，但延展性和韌性通常有所降低。⑤不能從水溶液中單獨電沉積的W、Mo、Ti和V等金屬，可與鐵族元素共沉積形成合金。⑥通過成分設計和工藝控制，可得到不同色調(diào)的合金鍍層。電刷鍍：是電鍍的一種特殊方式，不用鍍槽，只需在不斷供應電解液的條件下，用一支鍍筆在工件表面上進行擦拭，從而獲得電鍍層，又成無槽鍍或涂鍍。電刷鍍的特點：①鍍層結合強度高②設備簡單、工藝靈活、操作方便，可以在現(xiàn)場作業(yè)。③可以進行槽鍍困難或實現(xiàn)不了的局部電鍍。④生產(chǎn)效率高⑤操作安全，對環(huán)境污染小?；瘜W鍍：是指在沒有外電流通過的情況下，利用化學方法使溶液中的金屬離子還原為金屬，并沉積在基體表面，形成鍍層的一種表面加工方法。化學鍍的條件：①鍍液中還原劑的還原電位要顯著低于沉積金屬電位，使金屬有可能在基材上被還原而沉積出來。②配好的鍍液不產(chǎn)生自發(fā)分解，當與催化表面接觸時，才發(fā)生金屬沉積過程。③調(diào)節(jié)溶液的PH值、溫度時，可以控制金屬的還原速率，從而調(diào)節(jié)鍍覆速率。④被還原析出的金屬業(yè)具有催化活性，這樣氧化還原沉積過程才能持續(xù)進行，鍍層連續(xù)增厚。⑤反應生成物不妨礙鍍覆過程的正常進行，即溶液有足夠的使用壽命?；瘜W鍍的特點：①鍍覆過程不需外電源驅動。②孔隙率低，均鍍能力好，形狀復雜，有內(nèi)孔、內(nèi)腔的鍍件均可獲得均勻的鍍層。③鍍液通過維護、調(diào)整可反復使用，但使用周期是有限的。④可在金屬、非金屬以及有機物上沉積鍍層。復合鍍：是將固體微粒子加入鍍液中與金屬或合金共沉積，形成一種金屬基的表復合材料的過程。復合鍍的條件：①粒子在鍍液是充分穩(wěn)定的，既不會發(fā)生任何化學反應，也不會促使鍍液分解。②粒子在鍍液中藥完全潤濕，形成分散均勻的懸浮液。③鍍液的性質(zhì)要有利于固體粒子帶正電荷，即利于粒子吸附陽離子表面活性劑及金屬離子。④粒子的粒度要適當。⑤要有適當?shù)臄嚢琛ｅ兡ぜ夹g即氣相沉積技術：是一種利用氣態(tài)物質(zhì)中發(fā)生的某些物理、化學過程，在基體表面形成具有某些特殊性能的金屬或化合物涂層的技術。物理氣相沉積：是利用熱蒸發(fā)、濺射或輝光發(fā)電、弧光放電的物理過程，在基材表面沉積所需涂層的技術。物理氣相沉積的基本過程包括：①氣相物質(zhì)的產(chǎn)生②氣相物質(zhì)的輸送③氣相物質(zhì)的沉積。蒸鍍的加熱方法有電阻加熱蒸鍍和電子束加熱蒸鍍。蒸鍍既可以進行純金屬的鍍制，也可進行合金模的鍍制和化合物膜的鍍制。濺射鍍膜：是指在真空室中，利用荷能粒子空寂鍍料表面，使被紅基礎的鍍料粒子在基片上沉積的技術。射頻：是指無線電波發(fā)射范圍的頻率。工作原理：射頻濺射的兩個電極，接在交變的射頻電源上，似乎沒有陰極與陽極之分。史記上射頻濺射裝置的兩個電極不是對稱的，放置基片的電極與機殼項鏈，并且接地，這個電極相對安裝靶材的電極而言，是一個大面積的電極，它的電位與等離子相近，幾乎不受離子攻擊。另一電極對于等離子體處于負電位，是陰極，受到離子攻擊，用于裝置靶材。在物理氣相沉積的各類技術中，濺射最容易控制合金模的成分。化合物膜：是指金屬元素與氧、氮、硅、碳、硼、硫等非金屬的化合物所構成的膜層。離子鍍：就是在鍍膜的同時，采用荷能粒子空寂基片表面和膜層的鍍膜技術。國內(nèi)外常用的離子鍍類型：空心陰極離子鍍、多弧離子鍍和離子束輔助沉積?；瘜W氣相沉積與物理氣相沉積根本不同的是沉寂離子來源于化合物的氣象分解反應。化學氣相沉積：是在相當高的溫度下，混合氣體與基體的表面相互作用，使混合氣體中的某些成分分解，并在基體上形成