大學(xué)物理薄膜干涉(編輯修改稿)
2024-07-16 12:21 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 nS MgF2 H L ZnS MgF2 在玻璃上交替鍍上光學(xué)厚度均為 ?/4的高折射率 ZnS膜和低折射率的 MgF2膜，形成多層高反射膜。 1n1nnS M DTL劈尖角 ? 1nn ??2 劈 尖 22Δ ne ????Δ?,2,1, ?kk ? 明紋 ?,1,0,2)12( ?? kk ?暗紋 be?Ln1nD劈尖干涉 nn ?1e?nk 2)21( ??nk 2?（明紋） （暗紋） bb2/n?討論 1）劈尖 2??Δ0e ?為暗紋 . LnbLbD n22?? ??3）條紋間距（明紋或暗紋） ??nb 2?1 22niiee n??? ? ? ?2）相鄰明紋（暗紋）間的厚度差 LD??bn 2?? ??Ln1nD劈尖干涉 nn ?12/n?bb 每一條 紋對(duì)應(yīng)劈尖 內(nèi)的一個(gè)厚 度，當(dāng)此厚 度位置改變 時(shí)，對(duì)應(yīng)的 條紋隨之移 動(dòng) . 4 ）干涉條紋的移動(dòng) Ln?b 例 3 有一玻璃劈尖 , 放在空氣中 , 劈尖夾角 r a d108 5???? , 用波長(zhǎng) 的單色光垂直入射時(shí) , 測(cè)得干涉條紋的寬度 , 求 這玻璃的 折射率 . nm589???b解 nbbn22??? ???357??????????nbn??2??2）測(cè)膜厚 ise1n2n2ios1）干涉膨脹儀 0l 劈尖干涉的應(yīng)用 12 nNe ??l?2?Nl ??1nn1nLd空氣 1?ne? 3）檢驗(yàn)光學(xué)元件表面的平整度 2aeb???ba4）測(cè)細(xì)絲的直徑 bLnd ??2?b 例 4 在半導(dǎo)體元件生產(chǎn)中，為了測(cè)定硅片上 SiO2薄膜的厚度，將該膜的一端腐蝕成劈尖狀，已知 SiO2 的折射率 n =，用波長(zhǎng) ? =5893埃的鈉光照射后，觀察到劈尖上出現(xiàn) 9條暗紋，且第 9條在劈尖斜坡上端點(diǎn)M處， Si的折射率為 。試求 SiO2薄膜的厚度。 Si SiO2 O M 解：由 暗紋 條件 e = (2k+1)? /4n ?= 2ne = (2
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