【文章內(nèi)容簡介】 15 防凍保護液。 注：上述所有清洗液和保護液，都須用反滲透產(chǎn)水來配制。 Ⅱ反滲透膜污染特征，清洗液配方和用量以及清洗時間 （ 1） 反滲透膜污染特征 反滲透膜經(jīng)長期使用，在膜上會積累膠體、金屬氧化物、細菌、有機物、水垢等物質(zhì)，而造成膜污染，各種不同的膜污染引起的性能變化不同，一般現(xiàn)象列于表。 污染物類型 RO 系統(tǒng)性能變化 鹽透過率 Sp 壓差△ p 產(chǎn)水量 Vp （ Fe、Mn） 迅速增加 ＞ 2X（ 2） 迅速增加 ＞ 2X（ 1） 迅速降低（ 1） （ 20%30%） （ CaCO CaSO4） 明顯增加 10%20% 增加 10%25% 略有降低 10% 無或緩慢增加≥ 2X（ 2） 緩慢增加 ≥ 2X（ 2） 緩慢減少 下降≥ 40%（ 2） （有機物、硅酸鋁） 迅速增加 ≥ 24X（ 1） 緩慢增加 ≥ 2X（ 2） 緩慢降低 下降≥ 40%（ 2） 無或稍微增加 增加≥ 2X 下降≥ 3050% 無 無或微增加 明顯下降 （ 1） 表示發(fā)生在 12天之內(nèi) X─初投運或上一次清洗后的值 （ 2） 表示發(fā)生在 23周以上 △ p─為反滲透裝置進出口壓差 （ 2） RO 膜需要清洗的跡象 當反滲透裝置隨著運行時間的延長，在膜面上會積累膠體、金屬氧化物、細菌、有機膠體、水垢等物質(zhì)，性能會有下降，當性能下降一定程度時，即 產(chǎn)水量比初始或上一次清洗后降低≥ 10～ 20% 產(chǎn)水脫鹽率下降≥ 10% 裝置壓力差增加≥ 15% RO系統(tǒng)出現(xiàn)上述任何一種情況， RO 系統(tǒng)就要清洗。 （ 3） 反滲透膜清洗液配方，用量和清洗時間 膜上污染的種類不同，選擇的清洗劑配方不 同，有時可能有幾種污染物混合在一 16 起，因此需根據(jù)具體情況分別對待，清洗劑選擇參見 下表 。 污 染 物 清 洗 劑 無機鹽沉淀 （例如 CaCO3，CaSO4， BaSO4） 金屬氧化物 （例如 Fe 的氧化物） 膠體 硅 微生 物 有機 物 %NaOH， %NaEDTA pH=12， T≤ 30℃ 一般 最好 一般 %NaOH， %NaSDS （十二烷基硫酸鈉） pH=12， T≤ 30℃ 較好 較好 較好 %STP（ Na5P3O10） %TSP（ ） %NaEDTA 較好 較好 %HCL 最好 %H3PO4 一般 較好 2%檸檬酸 一般 1%NaHSO3 較好 Ⅲ清洗注意事項 清洗操作時要有安全防護措施，如穿戴帶防護鏡、手套、鞋和衣等。用到酸液清洗時要考慮到通風。 固體清洗劑必須充分溶解后，再加其他化學試劑，進行充分混合（用清洗泵自行循環(huán)攪拌）后才能進入反滲透裝置。 清洗劑用量為 50 升 /只元件，清洗液流量為 ，清洗壓力為，清洗時間 為 2小時。 防止清洗過程中清洗液溫度超過極限溫度 30℃，條件許可時，一般選室溫 10℃左右進行清洗為宜。 清洗過程中應觀察清洗水箱液位、清洗液的 pH值和顏色變化，必要時應補充清洗液或更換新配清洗液。 清洗結(jié)束后，可取殘液進行分析，確定主要污染物種類，為日后清洗提供依據(jù)。 清洗液循環(huán)結(jié)束后應立即用符合 RO 進水要求的預處理水進行低壓沖洗操作，將清洗液從反滲透裝置內(nèi)置換干凈。 清洗液配制用水應為反滲透產(chǎn)水。 深度 脫鹽部分 EDI 深度脫鹽部分由中間水泵、 EDI、 整流電源 等組成。 簡單工藝流程如下： 17 反 滲透產(chǎn)水→中間水泵→ EDI→除鹽水箱 EDI 部分產(chǎn)水設計參數(shù)： 處理量： 60m3/h 產(chǎn)水水質(zhì)：電導率≤ s/cm（ 25℃） 設置目的： 經(jīng) EDI 深度除鹽，使出水水質(zhì)達到產(chǎn)水水質(zhì)要求。 裝置組成： 設置 2臺 EDI 裝置，采用美國 GE膜堆 技術要求： 運行方式： 24小時連續(xù)運行。 EDI 裝置 EDI 不需要再生，長期使用能節(jié)省許多酸堿再生劑，并且廢水可直接排放，而不需再作中和處理，還具有產(chǎn)水量穩(wěn)定，占地面積小，自控程度高，操作維護簡便等優(yōu)點。 EDI 裝置的原理 EDI 系統(tǒng)是淡水隔室填充離子交換樹脂的電滲析 裝置，以電流為推動力使進水中離子通過陽、陰離子交換膜遷移進入淡水隔室，同時也使水分子解離成 H+、OH－離子，離子交換樹脂連續(xù)地被再生，從而 EDI 可以連續(xù)穩(wěn)定地產(chǎn)出電阻值 ≥ 5MΩcm 的純水。 EDI 特點 1)、 EDI 裝置可以代替初級混合離子交換床； 2)、具有 85%較高的水回收率； 3)、能連續(xù)穩(wěn)定地保持高品質(zhì)純水生產(chǎn)，無再生周期、水質(zhì)下降的變化； 4)、不需要用酸、堿再生，減少系統(tǒng)運行費用； 5)、無危害環(huán)境的廢水排放； 6)、占地面積較??； 7)、管理、操作簡便。 18 EDI 進水水質(zhì)要求 組 分 單位 范圍 總堿度 (以 CaCO3 計 ) mg/l PH ～ 硬度 (以 CaCO3 計 ) mg/l SiO2 mg/l Fe， Mn， H2S mg/l 根據(jù)原水水質(zhì)分析，和 RO 系統(tǒng)計算，按本系統(tǒng)設計的 RO 產(chǎn)水水質(zhì)能滿足以上 EDI 進水水質(zhì)要求。 EDI 裝置的組成如下 : EDI 裝置包括 22 個膜堆， EDI 增壓泵 2 臺、電器控制柜 1 套、整流器及連接管閥件儀表等組成。 電氣系統(tǒng) 電氣系統(tǒng) 主要設計 標準 10KV 及以下變電所設計規(guī)范 GB5005394 低壓配電設計規(guī)范 GB5005495 通用用電設備配電設計規(guī)范 GB5005593 供配電系統(tǒng)設計規(guī)范 GB5005295 電力工程電纜設計規(guī)范 GB5021794 建筑物防雷設計規(guī)范 GB5005794 本項目用電負荷為三級負荷。 380V 配電系統(tǒng)采用 TN－ CS 接地形式，即實行三相五線制。 電源引自變電所。進線電纜引至配電室的低壓配電柜，進線電纜采用室外直埋，引入戶內(nèi)時采用預埋套管保護。 線路敷設：電纜比較集中的主干線采用電纜溝敷設或電纜橋架架空敷設；電纜比較少而又分散的地方采用電纜直接埋地或穿鍍鋅管敷設。配電管路敷設可根據(jù)現(xiàn)場情況設置電纜井，以便于電纜敷設。 安裝高度：開關距地 ，插座距地 ，空調(diào)插座距地 ，照明箱、插座 箱中心距地 ，燈具安裝施工圖考慮其具體位置。 19 所有兩地控制的電機，可根據(jù)實際情況集中設現(xiàn)場控制按鈕箱。 配電柜，控制柜基礎采用 10槽鋼制作，配電柜下有電纜溝便于電纜敷設。 配電室，控制室，化驗室均安裝 1211 滅火器若干只。 低壓配電柜選用成熟的 GGD 型交流低壓開關柜，額定容量為 450kw，出線采用由柜體下部引接的電纜出線方式，防護等級為 、動力控制箱等均滿足GB725187《低壓成套開關設備和控制設備》 IEC60439— 1《低壓成套開關設 備和控制設備》標準，控制箱的防護等級均符合 《低壓電器外殼防護等級》的規(guī)定 , 控制箱的防護等級等同于配電柜的防護等級 低壓配電柜、控制箱內(nèi)空氣開關、隔離開關均滿足動、熱穩(wěn)定的要求，箱內(nèi)交流接觸器的等級和型號按電動機的容量和工作方式選擇。電動機的工作電流在熱繼電器整定值的可調(diào)范圍內(nèi) 控制說明 本設計采用集中控制的 PLC 分布式控制系統(tǒng)。系統(tǒng)設上位操作站、下位操作站。上位操作站采用 DELL 微機和監(jiān)控軟件實現(xiàn)工藝流程總圖、工藝流程分塊圖、工藝參數(shù)圖等重要流程畫面的顯示以及報警指示、數(shù)據(jù) 存儲和軟手操。下位控制主站采用德國西門子 S7 系列可編程序控制器。該系列可編程序控制器具有多種 I/O 擴展模塊，組裝靈活，更換方便。 控制水平 操作人員能在控制室內(nèi)通過 CRT/鍵盤對整個工藝流程及工藝參數(shù)和設備運行情況進行監(jiān)控。該系統(tǒng)可以設置四級控制狀態(tài)，即全自動、半自動、軟手動、硬手動。 ? 全自動：操作人員只要選擇需要運行的反滲透裝置后，按一下啟動鍵， 系統(tǒng)即能完成各設備之間的運行、連鎖、控制而不需要操作人員 干預。（特殊情況除外） ? 半自動：當現(xiàn)場某個設備需要維護、檢修時，系統(tǒng)可以對其它的設備進 行 設備級的自動運行。 ? 軟手動：當現(xiàn)場某個部件（如閥門）需要即時開 /關操作時，操作人員 可以通過 CRT/鍵盤對某個部件進行控制。 ? 硬手動：當現(xiàn)場某個設備的可編程序控制器出現(xiàn)故障，或在該設備的調(diào) 試時，操作人員可以在就地控制柜上實現(xiàn)某個部件（如閥門）的開 /關操作。 程控連鎖系統(tǒng)包括系統(tǒng)急停、反滲透進水低壓、反滲透產(chǎn)水高壓、反滲透低壓沖洗、 水池液位、多介質(zhì)濾器反洗等設備間的連鎖和計量泵的啟 /?？刂啤? 20 CRT/鍵盤能監(jiān)視需經(jīng)常監(jiān)視的流量、溫度、電導率、液位等參數(shù)及系統(tǒng)中的泵、氣動閥門的狀態(tài) ；能完成重要參數(shù)的越限報警 、數(shù)據(jù)的累計存儲及各類報表的制表打印。 設置必要的現(xiàn)場一次儀表和傳感器，以滿足集中監(jiān)視和現(xiàn)場檢查的需要。 總體組態(tài) 上位操作站： 上位操作站主要完成對系統(tǒng)中各類參數(shù)的監(jiān)視、參數(shù)設置、人機交互、數(shù)據(jù)保存等操作功能，具有清晰的流程圖畫面，實時動態(tài)顯示工藝流程及生產(chǎn)設備運行情況?？稍诹鞒虉D畫面上對現(xiàn)場設備進行手動操作，向 PLC 發(fā)出指令。生產(chǎn)過程的運行數(shù)據(jù)可以進行歷史存儲。操作站具備開放的軟件及網(wǎng)絡通訊接口。 本系統(tǒng)設置一套工控機兼做工程師站，以便于操作人員在得到授權的情況下進行工藝參 數(shù)的設置和修改，甚至對 PLC 程序進行修改。系統(tǒng)操作平臺選用 WINDOWS NT，監(jiān)控組態(tài)軟件選用西門子 WinCC 最新版。 下位控制站： 下位控制站能獨立完成對現(xiàn)場設備的直接控制功能，即使在失去操作站或其它網(wǎng)絡結(jié)點的情況下，也能正常工作。其主要功能是完成數(shù)據(jù)采集（開關量信號如控制閥門的開關信號和模擬量信號如電導等），可將這些信號傳給上位機進行顯示、記錄、報警等工作，并可通過上位機的指令或自身已編好的程序輸出給系統(tǒng)進行控制。下位控制站由 CPU 卡、電源卡及折卸式并分布于設備現(xiàn)場的 D/I、 D/O、 A/I、 A/O 模塊組成，擴充及操作維護方便。其輸入模塊的信號類型可由程序進行選擇，輸出模塊具有直接功率輸出功能，能完成各種常規(guī)及復雜的控制回路。 本系統(tǒng)選用先進的西門子 S7 可編程控制器作為 PROFIBUSDP 網(wǎng)絡主站。 柜 完成全部現(xiàn)場工藝參數(shù)（開關量和模擬量）信號的采集和所需控制參數(shù)的控制功能。 PLC 柜內(nèi)裝有 S7 控制器， PLC 輸出用進口輸出繼電器進行隔離， PLC 本身配有通訊接口以便與上位機聯(lián)系。 PLC 柜上裝有急停按鈕，用于在緊急狀況下停機。 PLC 軟件完成全部的控制操作。 PLC 編程必須 滿足所附邏輯控制圖和實際工藝要求，在實驗室調(diào)試時，軟件編程已全部完成，此時可通過標準信號發(fā)生器等設備模擬現(xiàn)場