氧鋅的微蝕行為ppt課件(編輯修改稿)
2025-05-28 04:04 本頁面
【文章內容簡介】 清楚的了解化學反應對設備微蝕來說是必需的，報道了設備微蝕的兩種方法：第一個是干法微蝕例如反應離子微蝕，它是使用無線電頻率或電感耦合等離子體是為了將 材料從表面轉移，這個方法對表現(xiàn)同樣的反應速率是有好處的，不管晶體的取向，然而，干法微蝕在設備方面需要高昂的投資。濕法微蝕，例如它是把液體酸或混合酸作為微蝕劑。與干法微蝕相比，濕法微蝕對設備要求不高。當進行干法微蝕時，一個硬的掩蓋層例如金屬， SiO2， Si3N4當成微蝕掩蓋面，因為光阻材料在等離子體的作用下分解 ， 產生焦炭殘渣 。然而，在沒有攻擊氧化鋅的時候，硬的掩蓋層很難除去，它是取決于晶體的方向。因此，濕法微蝕利用光阻材料掩蓋氧化鋅層的微蝕是很好的。 盡管報道了各種微蝕劑對氧化鋅的微蝕，例如 HCl, H2SO4,H3PO4, HCl/H3PO4/H2O, HNO3,和緩沖氧化物微蝕溶液。盡管很少有氧化鋅單晶的濕法微蝕。然而，多晶與單晶微蝕行為有很大的區(qū)別。氧曲面比鋅曲面的反
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