ecnaif30場發(fā)射透射電鏡操作規(guī)程(編輯修改稿)
2025-02-06 09:19 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 鏡到共心高度 3. Zaxis：改變樣品臺的 Z位置 4. Magnification：放大倍數(shù) 5. Focus step：改變聚焦變化步長 6. Focus：改變聚焦 7. Multifunction Y：多功能鍵 8. Diffraction：衍射鈕 右控制面板 七、啟動場發(fā)射槍電流 1. 點擊 Operate按鈕使其變黃，場發(fā)射槍的引出電壓會加至 3800v。 2. 儀器參數(shù)燈絲析出電壓 3800v，束流 32 mA。 八、啟動軟件 1. 在電腦快速啟動欄中，前四個圖標分別為 Teai User Interface、 DigitalMicrograph、 、RTEM。 2. Teai User Interface為主程序，通常已經(jīng)啟動。 3. DigitalMicrograph為拍攝軟件，進行形貌觀測時必須打開此軟件。 4. RTEM為能譜分析軟件，只有進行能譜分析的時候才需要運行。 九、圖片的保存設置 1. 點擊 Digital Micrograph 窗口中的圖標 1 2. 在 Save Numbered（圖標 2）中點擊 Browse（圖標 3）選擇目錄 3. 將 Next Index（圖標 4）中的序號改為 1，點擊 OK。 4. 分別點擊 Image Info（圖標 5）、 Global Info（圖標 7）修改文件名稱。 十、開啟閥門 1. 等待系統(tǒng)真空 Column真空值小于 16，可開啟閥門。 2. 開啟閥門：點擊 Col. Valves Closed 按鈕，使其變灰。此時 Status顯示 Ready。 3. 若在軟件右下方，選擇 Vacuum Overview視窗，可以發(fā)現(xiàn)，該操作可以使 V7和 V4閥門同時開啟。 注意事項 1. 閥門打開之后，就可以在投影室視窗中看到光斑。 2. 如果沒有看到光斑，可以按順序進行如下操作找到光斑： ① 將放大倍數(shù)（ Magnification）縮小至 5200x。 ② 將光路（ Intensity）發(fā)散。 ③ 移動樣品。 3. 若仍沒有找到樣品，請及時聯(lián)系管理員。 十一、設置共心高度 1. 移動軌跡球找到樣品觀察區(qū)域。 2. 在 10kx以上的放大倍數(shù)下。 3. 按操作面板上 Eucentric Focus按鈕。 4. 調(diào) Z－ axis使影象聚焦到襯度最?。ㄒ话闱闆r此操作使 Z軸數(shù)值為負值）。 十二、調(diào)節(jié)聚光鏡像散 ? 用 Intensity調(diào)節(jié)光強度。 ? 若發(fā)現(xiàn)光斑不是同心收縮（即光斑不圓），則需要調(diào)節(jié)聚光鏡像散。 ? 在 CCD的 Stigmator菜單中激活 Condenser按鈕，使之變?yōu)辄S色。 ? 用多功能鍵（ MF）將光斑調(diào)圓。 ? 最后點擊 None確定。 十三、形貌觀察及照片獲得 1. 用軌跡球選擇樣品感興趣的區(qū)域。 2. 用 Magnification旋鈕選擇合適的放大倍數(shù)，并將光發(fā)散至滿屏。 3. 用 Focus按鈕選擇合適的步長。 4. 粗調(diào)至樣品襯度最小。 5. 按 L1或者鏡筒左邊按鈕，將大熒光屏抬起。 6. 點擊 search進行圖像掃描 7. 調(diào)焦距，細調(diào)至最佳聚焦值 8. 點擊 Acquire進行拍照 9. 保存圖片 注意事項 1. 用軌跡球找樣品時，若聽到報警聲，同時屏幕顯示 Out of Range，表明樣品處于邊界位置，需往相反方向移動。 2. 由于高分辨像對樣品的穩(wěn)定性要求較高，所以若需要拍攝高分辨像需要讓樣品穩(wěn)定，一般需要穩(wěn)定半個小時以上。 3. 在 search中的 stage可以添加當前位置坐標，并能夠隨時調(diào)用。 ① 由于這種定位功能的偏差在幾百個納米，因此，這種方法不適合在太高倍數(shù)下使用。 ② 若樣品的位置處于邊界，請不要存儲和調(diào)用，因為這有可能使樣品在移動的過程中卡住，具有一定的危險性。 Focus和 Focus Step 1. focus鈕包含兩個旋鈕，下面的旋鈕控制 focus step，focus step的數(shù)值小為細調(diào)，大為粗調(diào)。一般形貌拍攝選擇 step 2為細調(diào)， step 3為粗調(diào)
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