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正文內(nèi)容

ic行業(yè)特種氣體簡介(編輯修改稿)

2025-06-15 16:53 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 H2Cl2 NF3 SiH4 NH3 He N2O WF6 C2F6 TiCl4 CH4 2021/6/15 特氣在 IC制造中的應(yīng)用 用量 一個(gè)八寸的芯片廠每年氣體的使用金額約為 5千萬元人民幣。 品名年用量(瓶)NF3 628C2F6 551SiH4(12Kg) 458NH3 263N2 258HCL(47L) 251He+SiH4 20% 198N2O 180N2+SiH4 20% 147He 81CO2(30kg) 77%Kr+Ne 73SF6 66CO 66CF4 62BF3() 59WF6 51BF3(1L) 51Cl2 434%N2/H2 42BCl3 36SiHCL3(TCS,41Kg) 35HBr 32N2(6N) 31SiH2Cl2 30C3F8 30He+PH3 1% 25CHF3 25C4F8 24ClF3 (40kg) 18SDS3 BF3 (330g) 15Xe 14Ar() 13Kr+F2+Ne 1220ppmB2H6/H2 (5N) 1210%CH4+Ar 9PH3 (Phosphine) 8AsH3 (Arsine) 8Ar(1L) 8CO2(10L) 8C4F6 GAS 5AsH3 SDS3,5N5 5Ar+O2 1% 5Xe(30L) 4ND3 (2N ) 4CH3F GAS 4PH3 SAGE, B49/,ATMI 350ppm PH3/H2 3He(10L,5N,Purge Gas) 2CH2F2 2C5F8 2SiF4
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