ic行業(yè)特種氣體簡介-wenkub
2023-05-21 16:53:41 本頁面
【正文】 Etch 特氣使用 2021/6/15 特氣在 IC制造中的應(yīng)用 原理 ? CVD Deposition: SiH4+N2(Carrier gas)+NH3 plasma amp。 ? 良好的品牌效應(yīng)（已經(jīng)供應(yīng)的客戶） ? 性價比高，確實降低客戶的成本 ? 快捷的物流配送（交貨期短、應(yīng)急反映迅速） 2021/6/15 中芯 國際（ 8寸、 12寸） 如何開發(fā)芯片行業(yè)客戶 個人經(jīng)驗，與大家探討。 品名年用量（瓶）NF3 628C2F6 551SiH4(12Kg) 458NH3 263N2 258HCL(47L) 251He+SiH4 20% 198N2O 180N2+SiH4 20% 147He 81CO2(30kg) 77%Kr+Ne 73SF6 66CO 66CF4 62BF3() 59WF6 51BF3(1L) 51Cl2 434%N2/H2 42BCl3 36SiHCL3(TCS,41Kg) 35HBr 32N2（6N） 31SiH2Cl2 30C3F8 30He+PH3 1% 25CHF3 25C4F8 24ClF3 (40kg) 18SDS3 BF3 (330g) 15Xe 14Ar() 13Kr+F2+Ne 1220ppmB2H6/H2 (5N) 1210%CH4+Ar 9PH3 (Phosphine) 8AsH3 (Arsine) 8Ar(1L) 8CO2(10L) 8C4F6 GAS 5AsH3 SDS3,5N5 5Ar+O2 1% 5X
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鄂ICP備17016276號-1