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【正文】 S公式 X1+X2+…… ΣX X = n = n (X1X)2+(X2X)2+….. Σ(XiX)2 S= n1 = n1n1中的1為自由度,因母體分配比抽樣範(fàn)圍大.(為讓分母小一點(diǎn)). 若為母體則不減1.常態(tài)分配的特性1. 群體平均值(μ)之次數(shù)最多.2. 兩邊對(duì)稱.3. 曲線與橫線不相交.4. 曲線之反曲點(diǎn)在177。2. 可反映製程調(diào)整的效果。日本推動(dòng)SPC的效果1. 可顯示製程中的變異。3. 宇宙的事物與工業(yè)產(chǎn)品其都呈常態(tài)分配的。2σ範(fàn)圍內(nèi),抽到的機(jī)率＊%表在177。改善建立SPC的步驟 如何避免問題再次發(fā)生?10mm，五月之切削實(shí)績(jī)?yōu)閄177。3σ=53177。3σ)%%8σ(177。定義一種用於調(diào)查製造程序是否在穩(wěn)定狀態(tài)下(解析用)，或者維持製造程序在穩(wěn)定狀態(tài)上所使用之圖(管制用)。l 產(chǎn)量不大,批量很小。,至少10點(diǎn)出現(xiàn)在同一側(cè)。25% P(1P)管制上限(UCL)=P+3 n P(1P)管制下限(LCL)=P3 n建立『解析用』管制圖(p Chart)步驟—依測(cè)定時(shí)間順序排列.—每組樣本內(nèi)含有1~5個(gè)不良品為佳......—點(diǎn)在其數(shù)值之位置並以直線連接之..建立『製程管制用』管制圖(p Chart)步驟同XR管制圖nP Chart適用製程：l 基本上與P Chart,惟每組樣本數(shù)須相同.公式：中心線 (CL)=nP 管制上限(UCL)= nP+3 nP(1P) 管制下限(LCL)=nP3 nP(1P)建立『解析用』管制圖(nP Chart)步驟—依測(cè)定時(shí)間順序排列.—每組樣本內(nèi)含有1~5個(gè)不良品為佳......—點(diǎn)在其數(shù)值之位置並以直線連接之..建立『製程管制用』管制圖(nP Chart)步驟同XR管制圖C Chart適用製程：l 以單位數(shù)量?jī)?nèi)缺點(diǎn)數(shù)發(fā)生之次數(shù)者.公式：中心線 (CL)=C管制上限(UCL)= C+3 C 管制下限(LCL)= C3 C U Chart適用製程：l 同C管制圖,但其檢查單位(樣本大小)不同.公式：中心線 (CL)=μ管制上限(UCL)=μ+3 μ/n 管制下限(LCL)=μ3 μ/n管制圖的判讀、下限。公式：X管制圖：中心線 (CL)=X管制上限(UCL)=X+m3A2R管制下限(LCL)=Xm3A2RR管制圖：中心線 (CL)=R管制上限(UCL)=D4R管制下限(LCL)=D3RXRm Chart適用製程：l 耗用時(shí)間很多方能完成測(cè)試者。6σ)1 PPB2 PPB七、管制圖由來管制圖是1924年由修華特博士(),在研究產(chǎn)品品質(zhì)特性之次數(shù)分配時(shí)所發(fā)現(xiàn)。生產(chǎn)實(shí)績(jī)?yōu)閄177。製程精密度 Cp(
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