【摘要】半導體集成電路2.雙極集成電路中元件結構2022/5/24pn+n-epin+P-Sin+-BLCBESP+P+雙極集成電路的基本工藝2022/5/24P-SiTepiCBEpn+n-epin+P-SiP+P+Sn+-
2025-04-26 12:59
【摘要】1234緒論?引言?集成電路制造工藝發(fā)展狀況?集成電路工藝特點與用途?本課程內(nèi)容5?早在1830年,科學家已于實驗室展開對半導體的研究。?1874年,電報機、電話和無線電相繼發(fā)明等早期電子儀器亦造就了一項新興的工業(yè)──電子業(yè)的誕生。1引言6
2025-01-06 13:18
【摘要】第6章CMOS集成電路制造工藝第6章CMOS集成電路制造工藝?CMOS工藝?CMOS版圖設計?封裝技術3木版年畫?畫稿?刻版?套色印刷4半導體芯片制作過程5硅片(wafer)的制作6掩模版(mask,reticle)的制作7外延襯底的制作8集成電路加工的基本操作?1、形成薄膜
2025-02-09 20:38
【摘要】國際微電子中心集成電路設計原理1第一章集成電路制造工藝流程集成電路(IntegratedCircuit)制造工藝是集成電路實現(xiàn)的手段,也是集成電路設計的基礎。國際微電子中心集成電路設計原理2?隨著集成電路發(fā)展的過程,其發(fā)展的總趨勢是革新工藝、提高集成度和速度。?設計工作由有生產(chǎn)線集成
2025-01-06 18:34
【摘要】集成電路制造技術微電子工程系何玉定?早在1830年,科學家已于實驗室展開對半導體的研究。?1874年,電報機、電話和無線電相繼發(fā)明等早期電子儀器亦造就了一項新興的工業(yè)──電子業(yè)的誕生。1引言基本器件的兩個發(fā)展階段?分立元件階段(1905~1959)–真空電子管、半導體晶體管
2025-01-08 12:22
【摘要】第三章CMOS集成電路工藝流程白雪飛中國科學技術大學電子科學與技術系?多晶硅柵CMOS工藝流程?可用器件?工藝擴展提綱2多晶硅柵CMOS工藝流程?初始材料–重摻雜P型(100)襯底硅,P+–減小襯底電阻,提高抗CMOS閂鎖效應能力?外延生長–在襯底
2025-02-09 20:36
【摘要】集成電路設計基礎第三章集成電路制造工藝華南理工大學電子與信息學院廣州集成電路設計中心殷瑞祥教授第3章IC制造工藝外延生長掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝2關心每一步工藝對器件性
2025-05-04 18:03
【摘要】電子科技大學中山學院Chap4離子注入?核碰撞和電子碰撞?注入離子在無定形靶中的分布?注入損傷?熱退火電子科技大學中山學院離子注入?離子注入是一種將帶電的且具有能量的粒子注入襯底硅的過程,注入能量介于1KeV到1MeV之間,注入深度平均可達10nm~10um。離子劑量變動范圍,從用于閾值電壓調(diào)
2025-05-02 18:30
【摘要】2022/2/4JianFang1集成電路工藝和版圖設計概述JianFangICDesignCenter,UESTC2022/2/4JianFang2微電子制造工藝2022/2/4JianFang3IC常用術語園片:硅片芯片(Chip,Die):6?、8?:硅(園)片
2025-01-07 01:54
【摘要】集成電路制造工藝集成電路制造工藝北京大學北京大學e集成電路設計與制造的主要流程框架設計芯片檢測單晶、外延材料掩膜版芯片制造過程封裝測試系統(tǒng)需求集成電路的設計過程:設計創(chuàng)意+仿真驗證集成電路芯片設計過程框架From吉利久教授是功能要求行為設
2025-01-08 12:25
【摘要】集成電路Contentsv集成電路的定義v集成電路的分類v集成電路的工藝微電子技術課程ppt微電子技術課程ppt集成電路定義v集成電路(integrated?circuit)是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝,把一個電路中所需的晶體管、二極管、電阻、電容和電感等元件及布線互連
2025-01-08 13:38
【摘要】1第六章光刻工藝§1基本概念2一、光刻的定義:光刻是一種圖形復印和化學腐蝕相結合的精密表面加工技術。二、光刻的目的:光刻的目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面刻蝕出與掩膜版完全對應的幾何圖形,從而實現(xiàn)選擇性擴散和金屬薄膜布線的目的。3三、工藝流程:以負膠為例來說明這八個步驟,一般可分為
2025-05-07 07:17
【摘要】LogoIntroductionofICAssemblyProcessIC封裝工藝簡介艾LogoICProcessFlowCustomer客戶ICDesignIC設計WaferFab晶圓制造WaferProbe晶圓測試AssemblyTestIC封裝測試SMTIC組裝CompanyLogoL
2025-01-01 00:32
【摘要】下一頁上一頁集成電路制造工藝——雙極集成電路制造工藝下一頁上一頁上一次課的主要內(nèi)容?CMOS集成電路工藝流程N型(100)襯底的原始硅片NMOS結構PMOS結構P阱(well)隔離閾值調(diào)整注入柵氧化層和多晶硅柵NMOS管源漏注入PMOS管源漏注入接觸和互
2025-05-13 02:13
【摘要】IntroductionofICAssemblyProcessIC封裝工藝簡介艾ICProcessFlowCustomer客戶ICDesignIC設計WaferFab晶圓制造WaferProbe晶圓測試Assembly&TestIC封裝測試SMTIC組裝
2025-04-30 23:06