培訓(xùn)資料電鏡ppt課件(2)(存儲(chǔ)版)
【正文】 以清晰地看到 Mg2Si所在的位置 43 ZrO2(Y2O3)陶瓷析出相與基體的 定點(diǎn)分析 Y2O3mol% 析出相（ t相） Y2O3含量低 基體 (c相 )Y2O3含量高 與相圖相符 44 在晶界上有 O的偏聚 BaF2晶界的 線掃描分析 (a)形貌像及 掃描線位置 (b)O及 Ba元素在掃描線位置上的分布 45 Bi在晶界上有嚴(yán)重偏聚 ZnOBi2O3陶瓷燒結(jié)表面的 面分布成分分析 (a)形貌像 (b)Bi元素的 X射線面分布像 46 Preparation of nanotubeshaped TiO2 powder XRD， TEM， ED， SEM的應(yīng)用實(shí)例 47 TiO2隨溫度的相變 anatase銳鈦礦 rutile金紅石 48 100℃ 消解 12小時(shí) 銳鈦礦 —— 納米管 金紅石 —— 不形成納米管 49 納米管的形成與溫度的關(guān)系 未消解 100 ℃ 150 ℃ 200 ℃ 50 選區(qū)電子衍射 SAD 1．理解掃描電子顯微鏡的工作原理、結(jié)構(gòu)與組成，掌握表征儀器性能的主要技術(shù)指標(biāo)。通過(guò)連續(xù)地改變 θ，就可以在與 X射線入射方向呈 2 θ的位置上測(cè)到不同波長(zhǎng)的特征 X射線信號(hào)。 (3)譜線重復(fù)性好 適合于表面比較粗糙的分析工作。 ? 原理：用細(xì)聚焦電子束入射樣品表面，激發(fā)出樣品元素的特征 X射線，分析特征 X射線的波長(zhǎng)（或能量）可知元素種類；分析特征 X射線的強(qiáng)度可知元素的含量。 ? 與真空蒸發(fā)相比，當(dāng)金屬薄膜的厚度相同時(shí)，利用離子濺射法形成的金屬膜具有粒子形狀小，島狀結(jié)構(gòu)小的特點(diǎn)。 ? 鍍層太厚就可能會(huì)蓋住樣品表面的細(xì)微 ，得不到樣品表面的真實(shí)信息。 ? 影響二次電子產(chǎn)額的因素主要 有： (1)入射電子的能量； (2)材料的原子序數(shù)； (3)樣品傾斜角 ?。 影響 SEM圖像分辨率的主要因素有 ： ①掃描電子束斑直徑 ； ②入射電子束在樣品中的擴(kuò)展效應(yīng)； ③操作方式及其所用的調(diào)制信號(hào)； ④信號(hào)噪音比； ⑤雜散磁場(chǎng)； ⑥機(jī)械振動(dòng)將引起束斑漂流等，使分辨率下降。 電子束在樣品表面進(jìn)行的掃描方式 (a)光柵掃描 (b)角光柵掃描 9 3．信號(hào)檢測(cè)放大系統(tǒng) ? 作用：收集 (探測(cè) )樣品在入射電子束作用下產(chǎn)生的各種物理信號(hào)，并進(jìn)行放大。 一、工作原理 SEM原理與 TEM的主要區(qū)別： 1） 在 SEM中電子束并不像 TEM中一樣是靜態(tài)的：在掃描線圈產(chǎn)生的電磁場(chǎng)的作用下，細(xì)聚焦電子束在樣品表面掃描。 類似電視攝影顯像的方式 。 ? 末級(jí)透鏡上部的掃描線圈能使電子束在試樣表面上做 光柵狀掃描 。 5 二、構(gòu)造與主要性能 電子光學(xué)系統(tǒng) (鏡筒 ) 偏轉(zhuǎn)系統(tǒng) 信號(hào)檢測(cè)放大系統(tǒng) 圖像顯示和記錄系統(tǒng) 電源系統(tǒng) 真空系統(tǒng) SEM的構(gòu)造 6 電子光學(xué)系統(tǒng)示意圖 由電子搶、電磁聚光鏡、光欄、樣品室等部件組成。 ? 閃爍計(jì)數(shù)器是由閃爍體、光導(dǎo)管、光電倍增管組成。 如何測(cè)量 ： 拍攝圖象上，亮區(qū)間最小暗間隙寬度除以放大倍數(shù)。 20 2．背散射電子像襯度及特點(diǎn) 影響背散射電子產(chǎn)額的因素
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