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芳香族親電取代的定位規(guī)律(存儲版)

2025-09-30 11:03上一頁面

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【正文】 F,Cl,Br,I,CH3,CH2Cl,CH2COOH,CH2F等。精細有機 合成反應 消除反應 被消除原子或原子團位置 重排反應 發(fā)生重排原子(團)位置 取代反應 反應試劑的性質 反應物分子中 CH鍵斷裂方式 親核取代 親電取代 游離基取代 加成反應 加成的基本途徑 α 消除 β 消除 分子內重排 分子間重排 環(huán)加成 親電加成 游離基加成 親核加成 進行方式 芳香族親電取代的定位規(guī)律 ? 反應歷程 ? 環(huán)上已有取代基的定位規(guī)律 ? 苯環(huán)上取代定位規(guī)律 ? 苯環(huán)上已有兩個取代基時的定位規(guī)律 ? 萘環(huán)的取代定位規(guī)律 ? 蒽醌環(huán)的取代定位規(guī)律 反應通式: RH + Z+ RZ + H+ RH + ZY RZ + HY 反應歷程 ? 經過 σ 絡合物中間產物的兩步歷程 k 1 H 第一步 : Ar H + E + Ar + k 1 E H k 2 第二步 : Ar + Ar E + H + E 預測:三種方式 ( 1)先經過 σ 絡合物,再脫去 H+的 兩步歷程 ( 2)親電質點進攻前,質子已經脫落的 單分 子歷程 ArH Ar + H+ ( 3) E+的進攻合 H+的脫落同時發(fā)生的 一步歷程 ArH+ E+ Ar ArE+ H+ H E+ ? 動力學同位素效應 將反應物分子中的某一原子用它的 同位素 代替時 ,該 反應速度 所發(fā)生的變化。 ? 間位定位基(第二類定位基): N+(CH3)3,CF3,NO2,CN,SO3H,COOH,CHO, COOCH3,COCH3,CONH2,N+H3,CCl3等。 ZHEHEZHEZHEZZH EZH EZH EZH E? 有 I, +T,且 |I||+T|: 如 F,Cl,Br,I等 ( 1)總效果使苯環(huán)電子云密度降低; ( 2)使取代基鄰、對位電子云密度低于間位; ( 3) 鄰、對位定位基 。 N O 2 N O 2N O 2N O 2N O 2N O 2N O 2+ +混酸 硝化 0℃ 5 % 94% 1% 40℃ 7 % 91% 2% 90℃ 13 % 85% 2% ( 2) 使不可逆的磺化、 C烷化反應轉變?yōu)榭赡娣磻?,從而影響產物異構體的比例。 ? 已有一個 第二類取代基 N O 2 N O 2E N O 2EE ++ 使苯環(huán) 鈍化 ,新取代基進入 異環(huán)的 α位 。 aA + Bb = pP SA= nP a p nA,r 100% = 100% nP a p nA,in- nA,out 化學計量比 理論收率( Y) 生成的目的產物的物質的量占輸入的限制反應物的物質的量的百分數(shù),叫做 理論收率 。 100 100%= 39% X總 = (100- 61)247。 93 1 100%= 87% 100%= % 98% 100 99% 原料消耗定額 每生產一噸產品需要消耗的各種原料的量(噸或千克)叫做 原料消耗定額 。 過量百分數(shù)= 例: %7%10025 ??? ??化學計量比 1 2 投料摩爾數(shù) 5 投料摩爾比 1 C l2 H N O 3+2 H 2 OC lN O 2N O 2+限制反應物 過量反應物 硝酸過量百分之多少? 硝酸的過量百分數(shù)= 轉化率( X) 某一反應物 A反應掉的量 nA,r占其投料量nA,in的百分數(shù)叫做 反應物 A的轉化率 XA。 9
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