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集成電路制造工藝流程-免費閱讀

2025-01-22 18:34 上一頁面

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【正文】 2023年 1月 24日星期二 上午 2時 40分 21秒 02:40: ? 1最具挑戰(zhàn)性的挑戰(zhàn)莫過于提升自我。 2023年 1月 24日星期二 2時 40分 21秒 02:40:2124 January 2023 ? 1空山新雨后,天氣晚來秋。 , January 24, 2023 ? 很多事情努力了未必有結(jié)果,但是不努力卻什么改變也沒有。 :40:2102:40Jan2324Jan23 ? 1故人江海別,幾度隔山川。 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 接觸孔摻雜 為了改善有源區(qū)接觸孔特性, 在光刻接觸孔之后、回流之前, 用 Nplus 版光刻,對接觸孔進行 N+注入 用 Pplus 版光刻,對接觸孔進行 P+注入 N+ P s u b N w e ll P+ P + N+ B P S G 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 其它 MOS工藝簡介 雙層多晶: 易做多晶電容、多晶電阻、疊柵 MOS器件,適合 CMOS數(shù) /?;旌想娐?、EEPROM等 多層金屬: 便于布線,連線短,連線占面積小,適合大規(guī)模、高速 CMOS電路 P阱 CMOS工藝 雙阱 CMOS工藝 E/D NMOS工藝 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 56 練習(xí) N阱硅柵 CMOS集成電路制造工藝 的主要流程,說明流程中需要哪些光刻掩膜版及其作用。 2. P+隔離接電路最低電位, 使 “ 島 ” 與“ 島 ” 之間形成兩個背靠背的反偏二極管。隔離的方法有多種,如 PN結(jié)隔離 , 全介質(zhì)隔離 及 PN結(jié) 介質(zhì)混合隔離 等。 引言 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 7 代工( Foundry)廠家 很多,如: ? 無錫上華( ?mCOS和 4 ?mBiCMOS工藝 ) ? 上海先進半導(dǎo)體公司 (1 ?mCOS工藝 ) ? 首鋼 NEC(?mCOS工藝 ) ? 上海華虹 NEC( ?mCOS工藝 ) ? 上海中芯國際 (8英寸晶圓 ?mCOS工藝 ) 引言 6. 代工工藝 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 8 代工( Foundry)廠家 很多,如: ? 宏力 8英寸晶圓 ?mCMOS工藝 ? 華虹 NEC 8英寸晶圓 ?mCMOS工藝 ? 臺積電 (TSMC) 在松江籌建 8英寸晶圓 ?mCMOS工藝 ? 聯(lián)華 (UMC) 在蘇州籌建 8英寸晶圓 ?mCMOS工藝等等。 引言 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 4 3. PDK文件 ?首先, 代工單位 將經(jīng)過前期開發(fā)確定的一套 工藝設(shè)計文件 PDK( Pocess Design Kits)通過因特網(wǎng)傳送給設(shè)計單位。國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 1 第一章 集成電路制造工藝流程 集成電路( Integrated Circuit) 制造工藝是集成電路實現(xiàn)的手段,也是集成電路設(shè)計的基礎(chǔ)。 ? PDK文件包括:工藝電路模擬用的 器件的 SPICE( Simulation Program with IC Emphasis) 參數(shù) ,版圖設(shè)計用的 層次定義 , 設(shè)計規(guī)則 , 晶體管、電阻、電容等元件和通孔( VIA)、焊盤等基本結(jié)構(gòu)的版圖 ,與設(shè)計工具關(guān)聯(lián)的 設(shè)計規(guī)則檢查( DRC)、參數(shù)提?。?EXT)和版圖電路對照(LVS)用的文件。 引言 6. 代工工藝 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 9 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 10 ? FF(Fabless and Foundry)模式 ? 工業(yè)發(fā)達國家通過組織 無生產(chǎn)線 IC設(shè)計 的芯片計劃來促進集成電路設(shè)計的專業(yè)發(fā)展、人才培養(yǎng)、技術(shù)研究和中小企業(yè)產(chǎn)品開發(fā),而取得成效。另一類為器件間的自然隔離。 N+ N+ Nepi P Nepi P PSub (GND) PSub (GND) PSub (GND) B PSub SiO2 光刻膠 N+埋層 N–epi SiO2 P+ P+ P+ SiO2 N–epi P P N+ N+ N+ N+ C E C E B 鈍化層 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 30 練習(xí) 1 描述 PN結(jié)隔離 雙極工藝的流程及光刻掩膜版的作用; 2 說明埋層的作用。 2. 何為硅柵自對準? 國際微電子中心 集成電路設(shè)計原理 57 167。 02:40:2102:40:2102:40Tuesday,
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