《先進表面工程技術(shù)》ppt課件-預(yù)覽頁
【正文】 域和先進制造業(yè)的重要前沿之一。 ? PVD：蒸發(fā)、濺射和離子鍍?nèi)悾? ? CVD：熱 CVD(TCVD)、金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD)和等離子體增強 CVD(PECVD)等。 ? 如包鍍、熱浸、表面燒結(jié)。 ? 作為整個信息技術(shù)領(lǐng)域需要的配套，發(fā)展了一大批高性能高效率低成本的微／納米加工技術(shù)。 因而有可能逐步發(fā)展成更為常用的方法。 3 工藝過程研究及其新進展 工藝是新材料的技術(shù)關(guān)鍵 ? 在工藝研究中，首要的問題是深入研究其 原理 ，檢驗看其是否與過程設(shè)計預(yù)想的一致，從而判斷原始模型的正確性。 ? 脈沖等離子體鞘層中歸一化勢場分布的時間演變、 ? 脈沖等離子體鞘層輪廓的時空演變、 ? 鞘層中電子和離子密度的空間分布、 ? 鞘層中俘獲塵埃的密度分布等。 ? 下一個層次是高新技術(shù)，其中包括航天、航空、新能源、新材料、環(huán)保和物質(zhì)循環(huán)等領(lǐng)域。另一方面，高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)和傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)的改造提升，為三大前沿及高新技術(shù)領(lǐng)域，提供了前所未有的巨大發(fā)展空間。 ? 值得注意的是，尺寸效應(yīng)既有經(jīng)典效應(yīng)，也有量子效應(yīng)，兩者都起作用，都很重要，對其研究不可偏廢。 ? 目前，納米薄膜技術(shù)已發(fā)展成納米科技重要組成部分，開始為信息、生物、微電子、航天、航空、新能源、新材料等其它前沿及高新技術(shù)領(lǐng)域服務(wù)；為傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造服務(wù)，為推進納米科技的發(fā)展作出了巨大貢獻。 ? 由納米科技原理納米制備技術(shù)和納米測試技術(shù)構(gòu)成的納米科技基礎(chǔ)，決定了納米科技整體的發(fā)展水平，因而是納米科技的核心部分。 6 先進表面工程技術(shù)的發(fā)展前沿 離子鍍高性能耐磨涂層 ? 作為離子鍍高性能耐磨涂層的一種類型， TiN系多層硬質(zhì)膜正在向納米多層膜發(fā)展，其中包括 TiN／Ti(C， N)納米多層膜； TiN／ (Ti， A1)N納米多層膜， TiN／ CrN納米多層膜， Ti／ TiN納米多層膜，Ti／ Ti(C， N)納米多層膜 Ti／ (Ti， Al)N納米多層膜， Ti／ CrN納米多層膜。但是，這方面的深入研究還有待今后的繼續(xù)。 ? 根據(jù)中國的現(xiàn)實情況， MCrAlY既用作熱障涂層的粘結(jié)底層，更多是單獨用作抗熱腐蝕涂層。 ? 六方氮化硼 (hBN)也是一種性能優(yōu)越的材料，雖然早已能夠小批量生產(chǎn)，但其成本一直居高不下，影響了其廣泛應(yīng)用。 SiC、 GaN、 AlN膜 ? SiC膜具有優(yōu)越的高溫電子學(xué)性能， 90年代以來，SiC膜在硅片上的外延已成功，并實現(xiàn)了小批量生產(chǎn)，但價格十分昂貴，影響了其廣泛應(yīng)用。 微／納信息功能薄膜、 器件和線路 ? 納米多層信息功能膜、器件和線路是當(dāng)前發(fā)展最迅速的前沿領(lǐng)域之一，其應(yīng)用面十分廣闊，包括處理器、顯示器、存儲器、傳感器、線路板等。 ? 其優(yōu)點是高的能量密度與低的總功耗、低的沉積溫度、低的內(nèi)應(yīng)力、良好的界面結(jié)合、有利于提高成品率，減少浪費。
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