《x射線技術(shù)及應(yīng)用》ppt課件-全文預(yù)覽
【正文】 選 監(jiān)測空氣，水和土壤污染的敏感植物篩選 1）鴨毛藻對 Br的飽和性富集 g）植物元素富集特性 2）海帶對 I的超富集作用 3）海蒿子對 As和 Sr的超富集 4）蓮子葉草（葉）對 Pb和 Hg的富集速率 Pb：在 0–48 小時，濃度基本是線性增加，而后趨緩， 72小時后接近飽和 Hg: 在 0– 24 小時，濃度緩慢增加，而后速率加大， 72小時后接近飽和 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 10001020304050相對峰強時間/hPbHgHg+： 28ppm， Pb+： 14ppm Innermost ring Zn 8th ring Cu 7th ring Cu Surface Fe Zn 樹年輪 XRF譜 三 . X射線技術(shù)實驗室建設(shè) 1? 四級體系下的三層次模式 2? 科研與教學(xué)內(nèi)容接軌 3? 選修與必修有機結(jié)合 3. 結(jié)束語： X射線實驗系列化研究 對學(xué)生進行基本的，全面的和系統(tǒng)的有關(guān) X射線分析和應(yīng)用的理論和實驗的訓(xùn)練，使他們能獨立的完成樣品制備，實驗設(shè)計和實驗結(jié)果分析，提高其科研能力和素質(zhì)，有很重要的現(xiàn)實意義并長遠受益 。 ? 海豹， 貝殼 ，海 鷗 和企 鵝 海洋動物和海鳥是食物鏈中關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其骨，肉內(nèi)元素的變化反映了極地氣候，地質(zhì)和生態(tài)變遷 。 工藝過程 ? 第一步 （ Xray Lithography） 同步輻射 X射線通過掩摸輻照到涂在電鍍基底上的厚抗蝕劑上進行曝光 , 然后對曝光的抗蝕劑顯影，形成抗蝕劑圖形 ? 第二步 （ Electroform Mould） 進行電鑄，去掉電鍍基底和作為圖形的抗蝕劑，得到一金屬微結(jié)構(gòu)型版 ? 第三步（ Electroform structures） 是一個回流鑄塑高分子材料過程，即在導(dǎo)電塑料基底上形成電絕緣結(jié)構(gòu)。 X射線技術(shù)及應(yīng)用 X射線衍射（ XRD） EXAFS， XANES X射線形貌（ XRT） X射線成像（ XRI） X射線小角散（ XRS） X射線光刻（ XRL） X射線熒光（ XRF） X射線衍射（ XRD） (1) Debye 法 ?=2dsin? 同步輻射（ SR） XRD裝置 （ BSRF） 納米微晶 Fe的 X射線衍射 (2)Laue 法 蛋白質(zhì)的 Laue衍射圖 擴展的 X射線吸收邊（ EXAFS） XANES： 30 – 40eV 光電子多重散射 EXAFS： 大于 40eV 光電子 /散射波干涉 X射線形貌 （白光形貌和雙晶形貌） X射線形貌圖 X射線成像 ? 層析術(shù)（吸收） ? 顯微術(shù)（吸收） ? 全息術(shù)（衍射） ? 減法造影（吸收） ? 其它 掃描 X射線顯微鏡裝置 X射線顯微術(shù)實驗站 顯微圖 造影裝置 兔耳造影 (注入 BaFBr） X射線小角散射 X射線光刻 ? Xray 掩膜（ mask） ? Xray抗蝕劑（ resist） ? Xray光刻機（ stepper） ? LIGA技術(shù) SR X射線光刻裝置（ XRL） ? X射線抗蝕劑 分類 ?光抗蝕劑 ?X射線抗蝕劑 ?電子束抗蝕劑 ?有機抗蝕劑 ?無機抗蝕劑 ?單組分 ?兩組分 ?三組分 ?正性抗蝕劑 PMMA (poly(methyl methacrylate)) 聚甲基丙烯酸甲酯 , AZ1350J, RAYPF ?負性抗蝕劑 EPB, COP, SAR, RAYPN 光化學(xué)原理 單組分： PMMA – poly (methylmethacrylate) 聚甲基丙烯酸甲酯 ?positive tone, polymer chain scission type ?Electron beam, DUV, xray and multilevel lithography Basic Parameters: Molecular weight 50 950 kg/mol Solids content 4% 10% Glasstransition temperature 85 106% refractive index (for 950k at 6328197。 3343,32ccc? ? ???????實用單位 : 32( ) 5 . 5 9 / 1 8 6 . 4 / ( )( ) 2 . 2 1 8 / 0 . 0 6 6 5 1ccE B Ek e V E B E? ? ???? ? ???Fe 等離子體源 Z壓縮氣體等離子體源 NeH
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