【摘要】第一章緒論1.半導(dǎo)體材料的五大特性:整流效應(yīng)、光電導(dǎo)效應(yīng)、負(fù)電阻溫度效應(yīng)、光生伏特效應(yīng)和霍爾效應(yīng)所謂光電導(dǎo)效應(yīng),是指由輻射引起被照射材料電導(dǎo)率改變的一種物理現(xiàn)象。電導(dǎo)與所加電場(chǎng)的方向有關(guān),在它兩端加一個(gè)正向電壓,它是導(dǎo)通的;如果把電壓極性反過來,它就不導(dǎo)通,這就是半導(dǎo)體的整流效應(yīng)。2.能帶結(jié)構(gòu)3.外延生長(zhǎng):在單晶襯底上生長(zhǎng)單晶薄膜稱為外延生長(zhǎng)。如果襯底材料和外延層是同一種
2025-01-15 01:43
【摘要】硅半導(dǎo)體鈍化封裝玻璃項(xiàng)目商業(yè)計(jì)劃書【報(bào)告主要內(nèi)容及價(jià)值體現(xiàn)】:商業(yè)計(jì)劃書是企業(yè)或項(xiàng)目單位為了達(dá)到招商融資和其它發(fā)展目標(biāo)之目的,在經(jīng)過對(duì)項(xiàng)目調(diào)研、分析以及搜集整理有關(guān)資料的基礎(chǔ)上,根據(jù)一定的格式和內(nèi)容的具體要求,向投資商及其他相關(guān)人員全面展示企業(yè)項(xiàng)目目前狀況及未來發(fā)展?jié)摿Φ臅娌牧?;商業(yè)計(jì)劃書是包括項(xiàng)目籌融資、戰(zhàn)略規(guī)劃等經(jīng)營(yíng)活動(dòng)的藍(lán)圖與指南,也是企業(yè)的行動(dòng)綱領(lǐng)和執(zhí)行方案
2025-01-19 08:15
【摘要】VISHAYGENERALSEMICONDUCTOR(TIANJIN)CO.,LTDSPECIFICATION
2025-01-19 05:00
【摘要】半導(dǎo)體物理學(xué)主講人:代國(guó)章物理樓110室,13786187882Email:?課程代碼:14010022?課程性質(zhì):專業(yè)課程/選修課學(xué)分:?時(shí)間:周二(7,8)、(單周)周三(1,2)?教室:D座103?課程特點(diǎn):內(nèi)容廣、概念多,理論和系統(tǒng)性較強(qiáng)。?課程要求:著重物理概念及物理
2025-01-13 12:27
【摘要】來自中國(guó)最大的資料庫(kù)下載主題地圖應(yīng)用於半導(dǎo)體設(shè)備售後服務(wù)之知識(shí)管理工程管理在職專班指導(dǎo)教授:邵揮洲教授學(xué)生:胡超傑N079411781內(nèi)容?前言?售後服務(wù)與知識(shí)的關(guān)係?研究目的?知識(shí)管理?知識(shí)管理技術(shù)?主題地圖標(biāo)準(zhǔn)規(guī)範(fàn)?主題地圖核心元素?TM4L應(yīng)用程式?結(jié)
2025-03-04 19:53
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識(shí)?本征材料:純硅9-10個(gè)9?N型硅:摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅:摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié):NP+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段(FrontEnd)制程晶圓處理制程(Wa
2025-03-01 04:33
【摘要】半導(dǎo)體材料的拋光摘要磨削和研磨等磨料處理是生產(chǎn)半導(dǎo)體晶片必要方式,然而磨削和研磨會(huì)導(dǎo)致單晶硅晶片的表面完整性變差。因此拋光和平面化對(duì)生產(chǎn)微電子原件來說是十分重要的。這次講座將會(huì)介紹到寄出的拋光過程以及不同的過程模型。另外也會(huì)對(duì)硅、砷化鎵等不同的半導(dǎo)體襯底材料進(jìn)行討論。關(guān)鍵字:化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)三軸拋光機(jī)床半導(dǎo)體拋光1簡(jiǎn)介,但拋光和平展化任然是制備微電子原
2025-07-25 13:57
【摘要】1SemiconductormaterialsLecturer:AiminLiu&WeifengLiu劉愛民劉維峰2半導(dǎo)體材料及器件工藝技術(shù)(四)1噴霧熱解成膜技術(shù)?2CVD成膜技術(shù)?低壓CVD、常壓CVD、離子增強(qiáng)型CVD、MOCVD?3擴(kuò)散及陽(yáng)極氧化技術(shù)
2025-03-22 02:27
【摘要】11晶體生長(zhǎng)原理半導(dǎo)體材料制備概述2晶體生長(zhǎng)作為一種相變過程大體分為3類:(1)固相生長(zhǎng):即物態(tài)沒有變化,僅有晶格結(jié)構(gòu)發(fā)生變化的相變過程。譬如,離子注入后變成非晶態(tài)的注入層在退火過程中再結(jié)晶的過程,具有兩種以上同質(zhì)異構(gòu)體的晶體在適當(dāng)條件下的晶型轉(zhuǎn)變過程等等。(2)液相生長(zhǎng):伴隨在液-固相變過程中的結(jié)晶過程,包括從溶液中生長(zhǎng)晶
2025-03-01 12:21
【摘要】半導(dǎo)體材料?半導(dǎo)體材料的發(fā)展簡(jiǎn)史?半導(dǎo)體材料的發(fā)展趨勢(shì)?半導(dǎo)體材料的分類什么是半導(dǎo)體?按照不同的標(biāo)準(zhǔn),有不同的分類方式。按固體的導(dǎo)電能力區(qū)分,可以區(qū)分為導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體。導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體的電阻率范圍材料導(dǎo)體半導(dǎo)體絕緣體電阻率(歐姆)﹤10-310-3109﹥10
2025-01-14 10:05
【摘要】第八章光刻哈爾濱工程大學(xué)微電子學(xué)半導(dǎo)體器件與工藝光刻工藝是半導(dǎo)體工藝過程中非常重要的一道工序,它是用來在晶圓表面建立圖形的工藝過程。這個(gè)工藝過程的目標(biāo)有兩個(gè)。首先是在晶圓表面建立盡可能接近設(shè)計(jì)規(guī)則中所要求尺寸的圖形;第二個(gè)目標(biāo)是在晶圓表面正確定位圖形。整個(gè)電路圖形必須被正確地定位于晶圓表面,電路圖形上單獨(dú)的每一部分之間的相對(duì)位置也必須是
2025-03-01 04:32
【摘要】半導(dǎo)體封裝過程集成質(zhì)量信息系統(tǒng)研究何曙光*,1,齊二石1,李莉2(,天津300072;2.天津職業(yè)大學(xué)電信工程學(xué)院,天津300403)摘要:在對(duì)半導(dǎo)體封裝過程進(jìn)行深入分析的基礎(chǔ)上,提出了基于產(chǎn)品,原材料,規(guī)格和設(shè)備的靜態(tài)集成模型、基于工單和工序的數(shù)據(jù)集成模型以及基于中央數(shù)據(jù)庫(kù)的質(zhì)量工具集成模型,這些質(zhì)量工具包括統(tǒng)計(jì)過程控制(SPC,StatisticalQuality
2025-06-28 09:26
【摘要】雙極型晶體管哈爾濱工程大學(xué)微電子學(xué)半導(dǎo)體器件與工藝雙極型晶體管n晶體管的基本結(jié)構(gòu)和分類雙極型晶體管n晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管n晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管n晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管n晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管n均勻基區(qū)晶體管和緩變基區(qū)晶體管均勻基區(qū)晶
【摘要】寬禁帶半導(dǎo)體材料與工藝寬禁帶半導(dǎo)體的概念和發(fā)展寬禁帶半導(dǎo)體(WBS)是自第一代元素半導(dǎo)體材料(Si)和第二代化合物半導(dǎo)體材料(GaAs、GaP、InP等)之后發(fā)展起來的第三代半導(dǎo)體材料。這類材料主要包括SiC(碳化硅)、C-BN(立方氮化硼)、GaN(氮化鎵、)AlN(氮化鋁)、ZnSe(硒化鋅)以及金剛石等。第二代半導(dǎo)體GaAs與Si相比除了禁帶寬度增大外,其電子遷移率與
2025-08-05 05:08
【摘要】模擬電子技術(shù)半導(dǎo)體的基礎(chǔ)知識(shí)知識(shí)目標(biāo):;P、N型半導(dǎo)體的性質(zhì);PN結(jié)的性質(zhì)。PN結(jié)的性質(zhì)PN結(jié)的形成原理第1講教學(xué)目標(biāo)教學(xué)重點(diǎn)教學(xué)難點(diǎn)能力目標(biāo):會(huì)檢測(cè)PN結(jié)的性質(zhì)。模擬
2025-08-15 21:00