22 電池制造工藝 硅片的化學(xué)腐蝕(文件)
【正文】 性腐蝕 2. 堿性腐蝕 酸性腐蝕的原理是什么？ ? 常用的酸性腐蝕液，通常由不同比率的硝酸（ HNO3） ,氫氟酸（ HF）及緩沖液等組成，其腐蝕的機(jī)理為： （ HNO3）氧化硅片表面 Si+2HNO3?SiO2+2HNO2 2HNO2?NO+NO2+H2O （ HF）與氧化硅生成可溶于水的絡(luò)合物． SiO2+6HF?H2SiF6+2H2O HF/HNO3體系化學(xué)品濃度與其腐蝕速率關(guān)系？ ? 若 HF含量多，則腐蝕速率受氧化反應(yīng)控制 . ?氧化對硅片晶向，攙雜濃度和晶體缺陷較敏感 ? 若 HNO3含量多，則腐蝕速率受反應(yīng)生成物溶解速率的限制． ?溶解過程是一種擴(kuò)散過程，會受到液體對流速度的影響． HF/HNO3體系腐蝕設(shè)計的原則？ ? 腐蝕速率的可控性． ? 某種表面結(jié)構(gòu)特殊工藝需求，如多晶絨面制作． ? 尋求添加劑，使腐蝕速率更可控，可滿足高產(chǎn)能的需求． HF/HNO3體系中的添加劑有什么作用？ ? 緩沖腐蝕速率 ? 改善表面濕化（ Wetting）程度 ? 加速腐蝕速率 目的 可采用化學(xué)藥品 原因 緩沖腐蝕速率 水（ H2O） ,醋酸（ CH3COOH） ,磷酸（ H3PO4） 濃度稀釋 加速腐蝕速率 亞硝酸鈉（ Na2NO2） ,氟硅酸（ H2SiF6） 反應(yīng)中間產(chǎn)物 HF/HNO3體系的緩沖添加劑選擇條件？
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