全口義齒重點整理(文件)
【正文】 拌：1’避免產(chǎn)生氣泡 2’攪拌均勻 3’石膏結(jié)晶過程穩(wěn)定 攪拌均勻 要不斷把碗壁中干粉攪拌到中間來 攪拌時間 一般控制在60s內(nèi)4震蕩去除氣泡灌注模型的注意事項1從高到底2從一側(cè)到另一側(cè)3 從少到多4一邊灌注一邊震蕩，排除氣泡5灌注完成后需加模型底座，底座最薄處不少于10mm（節(jié)約成本） 小于10mm的話強度不夠，易折斷。垂直距離：天然牙列成正中he時，鼻底到頦底的距離，也就是面部 下1/3的距離。為防止蠟基托變形，可取一段22號或21號不銹鋼絲，上頜沿牙槽嵴腭側(cè)和腭弓后份下頜沿牙槽嵴舌側(cè)，彎制成其弧度一致的增力絲，少加熱后按壓倒基托內(nèi)。微笑時，上唇線在上頜中切牙2/3，下唇線在下頜中切牙的1/2。排牙（人工牙是恢復外觀，恢復功能的主體）排牙要達到的基本目的：盡可能恢復患者有個體特征的自然外觀；保護牙槽嵴和粘膜組織，部分恢復咀嚼和發(fā)音的功能。 缺點：質(zhì)重，質(zhì)脆易崩裂，排牙是不易磨改，磨改后不能拋亮，瓷牙與樹脂基托靠機械固位結(jié)合，排牙時有一定的困難。 前牙形態(tài)：牙形 與患者的面部形態(tài)應基本一致。（2）半解剖式牙：牙尖斜度低于天然牙，約20度。排牙原則（每次大題必考）牙弓：牙齒有序地排成一列，稱為牙列，又因為呈弓形，所以又稱為牙弓。 據(jù)牙列缺失后上下牙槽嵴骨的吸收方向，上前牙應排在牙槽嵴德唇側(cè)，上后牙稍偏向牙槽嵴頂?shù)念a側(cè)，舌尖位于牙槽嵴頂。（頜平面：上下牙咬合接觸點的連線稱為頜平面，與鼻翼耳屏連線相平行，）4根據(jù)上下頜骨之間的關(guān)系，前牙排成淺覆蓋和淺覆頜關(guān)系：前牙淺覆頜為上前牙改過下前牙牙冠1mm。5形成正常的頜曲線，達到平衡頜的要求：人工牙列形成的頜曲線應基本上與天然牙列相同，即上頜頜曲線，前段平直為一個平面，相當于頜面，后段為補償曲線，且與下頜縱頜曲線（spee’s）相一致；上頜后牙兩側(cè)同名牙的頰、舌尖相連形成的凸面向下的橫頜曲線與下頜后牙兩側(cè)同名牙頰、舌尖相連成的凹面向上的橫頜曲線一致。 二、上頜4頰舌尖連起來的直線延長正對對側(cè)6的近中舌尖 三、上頜4567的近中頰舌尖相連所呈直線相互平行人工牙排列順序一、上頜：4567——4567下頜：6754——6754 二、一側(cè)：上4567——下6754 對側(cè)：上4567——下6754平衡頜的定義（名詞解釋?？碱}）：全口義齒的平衡頜是指在正中頜及下頜前伸，側(cè)方運動等非正中頜運動時，上下頜相關(guān)的牙都能同時接觸，即為平衡頜。后牙的接觸點愈向遠中愈好。建立單側(cè)平衡的重要條件是將人工牙排在牙槽嵴頂區(qū)和加強基托邊緣封閉作用。）2前伸頜平衡的調(diào)整3側(cè)方頜平衡的調(diào)整翼外肌降下頜，翼內(nèi)肌提升下頜試戴時為半成品，初戴時為成品全口義齒的試戴（一） 義齒在頜架上的檢查1檢查基托：義齒基托邊緣伸展是否適當，基托載模型上是否穩(wěn)定。）（唇部自然張開時候上頜1切緣位于上唇下緣2mm）2檢查前牙是否符合美觀要求3檢查后牙位置是否適當4檢查頜位關(guān)系（兩側(cè)顳肌明顯收縮，動度一致，顳肌呈扇形，在太陽穴附近）5檢查垂直距離和發(fā)音6檢查基托：基托邊緣是否適當，尤其是上頜后緣，下頜磨牙 后墊處（外形是否影響肌肉運動，下頜唇側(cè)基托應稍偏凹陷，以與口輪匝肌位置相適應。——挾持作用）（2） 牙齦外形 年輕人可適當暴露牙冠，而年老者牙冠應多暴露。（六）熱處理型盒關(guān)閉后防災水浴鍋冷水中浸沒，緩慢加溫至70度，保持60min，再加溫至100度，保持30分鐘，自然冷卻后開盒。清理義齒時先用工作刀刮去粘附在義齒表面的殘留石膏。磨光機：必須保持布輪的濕潤，手上必需要拿穩(wěn)義齒；拋完時手一定要來回移動，若只盯著一處拋，會讓此處越拋越??；防止焦味出來（特別是牙根牙頸部別盯著拋；義齒完成后將義齒浸入水中防止失水變形。（挾持作用）檢查頜位關(guān)系檢查咬合關(guān)系檢查有無疼痛選磨戴牙指導：增強信心；糾正不良咬合習慣；進食問題循序漸進；保護口腔組織健康（按時清洗；睡前脫下；及時復診）；保護義齒。粗——細——平——光——亮全口義齒的初戴試戴：測頜（測定頜位關(guān)系）初戴：義齒完成后戴前檢查：核對姓名 頜弓大小，形狀 檢查義齒外形，咬合關(guān)系，磨光情況 磨除組織面小瘤等義齒就位：一般順利就位 如不能順利就位，可能因為基托邊緣局部有倒凹。（八）磨光組織面只需磨平，無需磨光；磨光面既要磨平，又要拋光。影響強度。基托邊緣范圍上頜、唇頰側(cè)：上頜牙槽嵴唇頰側(cè)粘膜與唇頰側(cè)粘膜的反折線 舌側(cè)：無 后緣：蓋過腭小凹后2mm兩側(cè)后緣：包繞上頜結(jié)節(jié)至翼上頜切跡下頜、唇頰側(cè)：下頜牙槽嵴唇頰側(cè)粘膜與唇頰側(cè)粘膜的反折線 舌側(cè)：下頜牙槽嵴舌側(cè)粘膜與口底粘膜的反折線 后緣：蓋過磨牙后墊1/2到全部（二）蠟形的完成 使用酒精噴燈時，火焰方向在牙間隙處可垂直走向，邊緣和腭側(cè)可水平走向，使整個蠟形表面
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