一pecvd原理及設(shè)備結(jié)構(gòu)3-wenkub
2023-04-01 17:58:33 本頁(yè)面
【正文】 器直接裝在鍍膜板中間發(fā)生反應(yīng)。所用的活性氣體為硅烷 SiH4和氨 NH3。 PECVD的原理 ? 技術(shù)原理： 是利用低溫等離子體作能量源，樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預(yù)定的溫度，然后通入適量的反應(yīng)氣體，氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng)，在樣品表面形成固態(tài)薄膜。 PECVD的原理 PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu) ? 晶片裝載區(qū) ? 爐體 ? 特氣柜 ? 真空系統(tǒng) ? 控制系統(tǒng) PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖 晶片裝載區(qū)：槳、 LIFT、抽風(fēng)系統(tǒng)、 SLS系統(tǒng)。 ? 抽風(fēng)系統(tǒng)：位于晶片裝載區(qū)上方，初步的冷卻石墨舟和一定程度的過(guò)濾殘余氣體 ? SLS系統(tǒng)：軟著落系統(tǒng)，控制槳的上下，移動(dòng)范圍在 2— 3厘米 PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu) 爐體：石英管、加熱系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng) ? 石英管：爐體內(nèi)有四根石英管，是鍍膜的作業(yè)區(qū)域，耐高溫、防反應(yīng)。 PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu) 真空系統(tǒng) ? 真空泵：每一根石英管配置一組泵，包括主泵和輔助泵。 PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu) PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu) ? Setup: 舟的資料的更改，工藝內(nèi)容的更改，使用權(quán)限 的更改， LIFT位置的更改， CMS安區(qū)系統(tǒng) （安裝的感應(yīng)器將監(jiān)控重要系統(tǒng)的運(yùn)行情況，而一旦不受管的計(jì)算機(jī)的控制， CMS將會(huì)發(fā)生作用，所有的錯(cuò)誤信息也都會(huì)在CIM上得以簡(jiǎn)潔的文本方式顯示出來(lái)）的更改等。 05:24:4505:24:4505:244/1/2023 5:24:45 AM ? 1以我獨(dú)沈久，愧君相見(jiàn)頻。 2023年 4月 1日星期六 上午 5時(shí) 24分 45秒 05:24: ? 1比不了得就不比，得不到的就不要。 上午 5時(shí) 24分 45秒 上午 5時(shí) 24分 05:24: ? 沒(méi)有失敗，只有暫時(shí)停止成功！。 05:24:4505:24:450
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