【總結(jié)】半導(dǎo)體照明技術(shù)方志烈教授復(fù)旦大學SemiconductorLightingTechnology???(1)發(fā)光效率和顯色性的折中?(2)二基色體系?(3)多基色體系?LED?(1)二基色熒光粉轉(zhuǎn)換白光LED?(2)多基色熒光粉轉(zhuǎn)換白光LED?(3)
2025-08-01 16:32
【總結(jié)】半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)分析組員:93114114林怡欣93114124蔡松展93114251謝瑋璘93114169蔡文杰目錄III半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)結(jié)V.邏輯ICVI.記憶體VII.臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)概況半導(dǎo)體的定義所謂的半導(dǎo)體,是指在某些情況下,
2024-10-11 21:13
【總結(jié)】考試時間:18周周五上午10:00(1月4日第二大節(jié))考試地點:望江基C2022022級半導(dǎo)體物理總結(jié)第l章半導(dǎo)體(晶體)中的電子狀態(tài)問題的提出:半導(dǎo)體獨特的物理性質(zhì)半導(dǎo)體中電子的狀態(tài)及其運動特點二者之間關(guān)系與結(jié)構(gòu)的關(guān)系本章介紹重點半導(dǎo)體單晶材料中的電子狀態(tài)及其運動規(guī)律
2025-01-14 10:18
【總結(jié)】半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識晶體三極管場效應(yīng)管單結(jié)晶體管和晶閘管半導(dǎo)體二極管半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識一、本征半導(dǎo)體二、雜質(zhì)半導(dǎo)體三、PN結(jié)的形成及其單向?qū)щ娦运?、PN結(jié)的電容效應(yīng)一、本征半導(dǎo)體根據(jù)物體導(dǎo)電能力(電阻率)的不同,分導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。導(dǎo)體-鐵、鋁、銅等金屬元素
2025-08-04 09:14
【總結(jié)】主講人:申鳳娟21半導(dǎo)體器件2基本放大電路及其分析設(shè)計方法6模擬電子技術(shù)的應(yīng)用與發(fā)展3放大電路的頻率響應(yīng)與負反饋技術(shù)4通用集成運放及其應(yīng)用5波形發(fā)生電路7直流穩(wěn)壓電源CONTENTS內(nèi)容大綱C3第一章4第一章常用半導(dǎo)體器件§半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識
2025-01-21 18:23
【總結(jié)】半導(dǎo)體照明照明領(lǐng)域的又一次革命一、人類照明的歷史火—人類的文明燈—延續(xù)歷史幾千年燈—延續(xù)歷史幾千年二、電光源的歷史1879年愛迪生發(fā)明白熾燈熒光燈將電光源帶入新天地三、半導(dǎo)體發(fā)光二極管半導(dǎo)體發(fā)光二極管照明的革命四、第三代半導(dǎo)體材料半導(dǎo)體材料的分代1.以硅Si為代表的
2025-01-04 00:43
【總結(jié)】第三章Oxidation氧化Oxidation氧化n簡介n氧化膜的應(yīng)用n氧化機理n氧化工藝n氧化設(shè)備nRTO快速熱氧化簡介n硅與O2直接反應(yīng)可得;nSiO2性能穩(wěn)定;n氧化工藝在半導(dǎo)體制造中廣泛使用Si+O2→SiO2氧化層簡介Oxidation氧化層簡介Silicon氧化膜的應(yīng)用
2025-03-01 04:33
【總結(jié)】第十一章半導(dǎo)體材料制備生長技術(shù)?體單晶生長技術(shù)單晶生長通常利用籽晶在熔融高溫爐里拉伸得到的體材料,半導(dǎo)體硅的單晶生長可以獲得電子級(%)的單晶硅?外延生長技術(shù)外延指在單晶襯底上生長一層新單晶的技術(shù)。新生單晶層的晶向取決于襯底,由襯底向外延伸而成,故稱“外延層”。晶體生長問
2024-12-08 07:59
【總結(jié)】我的信息最高能帶填滿,再高的各能帶是空的5~7gEeV?2gEev?由于熱激發(fā),滿帶電子躍遷到上面的空帶,兩個能帶都成了不滿帶,具備導(dǎo)電能力。為什么Si、Ge是半導(dǎo)體而金剛石是絕緣體?Ge的4個價電子Si的4個價電子金剛石的4個價電子134,
2025-08-01 06:42
【總結(jié)】半導(dǎo)體物理習題解答1-1.(P43)設(shè)晶格常數(shù)為a的一維晶格,導(dǎo)帶極小值附近能量Ec(k)和價帶極大值附近能量Ev(k)分別為:Ec(k)=+和Ev(k)=-;m0為電子慣性質(zhì)量,k1=1/2a;a=。試求:①禁帶寬度;②導(dǎo)帶底電子有效質(zhì)量;③價帶頂電子有效質(zhì)量;④價帶頂電子躍遷到導(dǎo)帶底時準動量的變化。[解]①禁帶寬度Eg根據(jù)=+=0;可求出對應(yīng)導(dǎo)帶能量
2025-06-19 17:55
【總結(jié)】第五章半導(dǎo)體器件基礎(chǔ)二極管的單相導(dǎo)電特性特殊二極管三極管的基本結(jié)構(gòu)和電流放大特性場效應(yīng)管簡介電子技術(shù)是利用半導(dǎo)體器件完成對電信號處理的技術(shù)。它包括模擬電子和數(shù)字電子。處理的電信號為連續(xù)變化的信號時,我們使用的電路為模擬電路。處理的信號為不連續(xù)變化、只有在其高低電
2025-05-06 12:43
【總結(jié)】半導(dǎo)體材料?半導(dǎo)體材料的發(fā)展簡史?半導(dǎo)體材料的發(fā)展趨勢?半導(dǎo)體材料的分類什么是半導(dǎo)體?按照不同的標準,有不同的分類方式。按固體的導(dǎo)電能力區(qū)分,可以區(qū)分為導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體。導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體的電阻率范圍材料導(dǎo)體半導(dǎo)體絕緣體電阻率(歐姆)﹤10-310-3109﹥10
2025-01-14 10:05
【總結(jié)】第二章半導(dǎo)體表面與表面態(tài)?固體的表面?半導(dǎo)體表面?半導(dǎo)體表面態(tài)?金屬-半導(dǎo)體接觸?半導(dǎo)體-半導(dǎo)體接觸?半導(dǎo)體表面態(tài)研究方法固體的表面?固體的表面和體相是不同的,固體的表界面是指固體材料與另外一種不同物理性質(zhì)的介質(zhì)的交界面,是晶體三維周期結(jié)構(gòu)和真空之間的過渡區(qū)域,這種表面實際上是理想表面,固體
2025-01-19 09:55
【總結(jié)】半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻(上)光刻的作用和目的圖形的產(chǎn)生和布局1半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻(上)光刻的定義光刻是一種圖形復(fù)印和化學腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。用照相復(fù)印的方法將掩模版上的圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面的光刻膠上,以實現(xiàn)后續(xù)的有選擇刻蝕或注入摻雜光刻的目的:光
2025-03-01 04:28
【總結(jié)】SchoolofMicroelectronics半導(dǎo)體物理SEMICONDUCTORPHYSICS西安電子科技大學微電子學院SchoolofMicroelectronics半導(dǎo)體表面和表面能級Si-SiO2系統(tǒng)中的表面態(tài)與表面處理表面能帶彎曲與反型表面復(fù)合第五章半導(dǎo)體表面Schoo
2025-07-18 13:44