中文boehftftsd超解像技術(shù)資料-wenkub
2023-05-21 23:58:27 本頁面
【正文】 oduction(3/4) 利用光回折效果，實(shí)現(xiàn) Intensity的提升 。2021 SKElectronics CO.,LTD. All rights reserved. SKE confidential Introduction(2/4) 利用 Half tone型 PSM,實(shí)現(xiàn)解像度的提升 。超級 解像技術(shù) ~ S/D Pattern(Channel Length： ) ~ SKElectronics 制作 169。 QZ Phase Shift film 隨 Phase Shift膜 ，它的 波長 將180deg. Shift。 Intensity Binary HTM TOP Intensity UP 兩種成分合二為一，達(dá)到Intensity提高的效果 透過率 3～ 10%的 Half Tone膜 Contrast惡 化 169。 Condition Mask Design Condition 初期膜厚 ： REF PSM HT Cr PS HT Cut line 169。2021 SKElectronics CO.,LTD. All rights reserved. SKE confidential Simulation Result: Resolution Target → (Comparison of RTPR： Channel) PR殘膜厚 Rangeの Simulation実施。 Defocus 依 賴 性 (0、130um) RTPR: Channel part Source part (TopResist)： RTPR R T P R ：c ha nn el pa r t0. 500. 600. 700. 800. 901. 00R E F P S M H T ( 8% )pa t t er nCD (um)0um15um30umR a n g e1984?R a n g e1670?R a n g e1959?S o ur ce pa r t ( T o pR es i s t )1. 01. 21. 41. 61. 82. 02. 22. 4R E F P S M H T ( 8% )pa t t er
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