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【正文】 nCD (um)0um15um30umR a n g e31?R a n g e96?R a n g e645?與 Ref相比 ， RTPR的變化幅度也沒有因為 Defocus而產(chǎn)生差距。2021 SKElectronics CO.,LTD. All rights reserved. SKE confidential 總結(jié) ： SSM 總結(jié) ? SSM類型分別和 Binary， PSM， HTM相比，沒有任何差別 。同時削減了 Tact Time。2021 SKElectronics CO.,LTD. All rights reserved. SKE confidential S o u r c e p a r t (T o p R e si st )1. 01. 21. 41. 61. 82. 02. 22. 4R E F P S M H T ( 8% )pa t t ee r nCD (um)0um15um30umR a n g e191?R a n g e210?R a n g e2846?C D ： c h a n n e l p a r t2 .52 .72 .93 .13 .33 .53 .73 .9R E F P S M H T ( 8 % )p a t t e e r nCD (um)0um15um30umR a n g e185nmR a n g e317nmR a n g e117nmSimulation Result: Resolution Target → (Comparison of CD：Channel、 RTPR：Source Part ) PR殘膜厚 Rangeの Simulation実施。 169。 Source part (TopResist)： RTPR 隨 Defocus而產(chǎn)生的 RTPR的變化幅度，只有對 PSM造成影響 (2846?)。 PSM和 HT(8%)，有些許 TopLoss。 Simulation Results ~全解像 ~ 169。 未產(chǎn)生 TopLoss。 169。2021 SKElectronics CO.,LTD. All r
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